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公开(公告)号：CN119517792A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202411156296.6
申请日：2024-08-22
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，将清洗处理后的基板上残留的清洗液以具有比清洗液低的表面张力的置换液置换。在该置换时，将喷嘴装置配置到比处理承杯靠上方的喷嘴上位置。从喷嘴装置朝向下方喷出置换液，同时喷嘴装置从基板中心沿水平方向移动至基板外周端部。然后，对基板进行干燥。在该干燥时，从喷嘴装置朝向下方喷射气体，同时喷嘴装置在基板中心的上方位置处从喷嘴上位置下降至与基板W接近的喷嘴下位置。另外，继续气体的喷射，同时喷嘴装置从基板中心沿水平方向移动至基板外周端部。
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公开(公告)号：CN110364452B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN201910144390.2
申请日：2019-02-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供基板处理方法，包括：由基板保持单元保持基板的基板保持工序；一边使上述基板绕通过该基板的中央部的旋转轴线旋转一边向上述基板的主面供给药液的药液供给工序；与上述药液供给工序并行地检测从上述基板排出的药液中所含的异物的异物检测工序；以及基于上述异物检测工序的异物的检测，在上述药液供给工序中将从基板排出的药液的流通目的地从排液配管切换至回收配管的流通目的地切换工序。
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公开(公告)号：CN110364431A
公开(公告)日：2019-10-22
申请号：CN201910150857.4
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/311 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种向基板供给通过将硫酸与双氧水按照第一混合比混合而生成的第一SPM的基板处理方法及基板处理装置。在停止供给第一SPM后向基板供给第二SPM，该第二SPM是通过将硫酸与双氧水按照大于第一混合比的第二混合比混合而生成的。使从基板排出的第一SPM流入排液管道。并且使从基板排出的第二SPM流入回收管道。通过将双氧水与由回收管道引导的第二SPM中含有的硫酸混合来生成SPM。
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公开(公告)号：CN113228233B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN201980086584.X
申请日：2019-12-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/027
Abstract: 提供一种利用药液适当地剥离固贴在旋转的基板的表面的对象物的技术。基板处理装置1具有处理单元2。处理单元2一边使基板W以水平姿势围绕旋转轴线A1旋转，一边从SPM喷嘴18供给药液。喷嘴移动单元20使SPM喷嘴18在第一方向D1上移动。相机153将基板W的上表面包含于拍摄对象区域。图像处理部3B在由相机153所获得的拍摄图像PI1中检测剥离了抗蚀剂的剥离区域R1与固贴有抗蚀剂的未剥离区域R2之间的边界B1。喷嘴移动控制装置3D控制喷嘴移动单元20，从而根据上述边界B1的位置使SPM喷嘴18在第一方向D1上移动。
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公开(公告)号：CN116598224A
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202310109141.6
申请日：2023-02-14
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，该基板处理装置具备：药液喷嘴(31)，其包括朝向基板(W)的上表面内的目标位置(P1)沿相对于基板(W)的上表面倾斜的药液吐出方向(D1)吐出药液的药液吐出口(95)；飞沫遮蔽件(101)，其包括与基板(W)的上表面直接对置的遮蔽面(104)，遮蔽面(104)俯视下与目标位置(P1)重叠，当从下观察药液喷嘴(31)和遮蔽面(104)时，药液吐出口(95)的任意部分都配置于遮蔽面(104)的外缘的外侧或遮蔽面(104)的外缘上；以及喷嘴移动单元(38)，其使药液喷嘴(31)与飞沫遮蔽件(101)一起移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110364454B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN201910151449.0
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供能够使含有异物的药液和不含有异物的药液在处理杯的内部分离地流通的基板处理方法和基板处理装置。本发明的基板处理方法包括：基板保持工序，利用基板保持单元保持基板；药液供给工序，一边使上述基板绕穿过该基板的中央部的旋转轴线旋转一边向上述基板的主面供给药液；以及流通目标切换工序，在上述药液供给工序中，将从所述基板排出的药液的流通目标从包围所述基板保持单元的周围的处理杯的第一流通空间切换为所述处理杯的与所述第一流通空间隔开的第二流通空间。
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公开(公告)号：CN108461423B
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN201810141286.3
申请日：2018-02-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够将从处理液产生的凝结固体烟雾高效排出。基板处理装置具备基板的保持部件、使保持部件以旋转轴为中心旋转的旋转机构、处理液供给机构、内侧保护件、设置于内侧保护件的外侧的外侧保护件、以及包含与流路连通的排气口并将该流路内的气体引导至外部的排气导管，流路的通风阻力在排气口侧比相对于旋转轴而言与排气口相反的一侧小，内侧保护件和外侧保护件设置为使得基板的上方的部分中的位于与内侧保护件的上端相比的上方并且位于比外侧保护件的上端相比的下方的部分的气体主要从基板的上方朝向排气口侧流动。
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公开(公告)号：CN110364453A
公开(公告)日：2019-10-22
申请号：CN201910148356.2
申请日：2019-02-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供能够从挡板的内壁良好地去除残留的异物的基板处理方法以及基板处理装置，该基板处理方法，包括：基板保持工序，将基板保持为水平姿势；药液供给工序，一边使所述基板以通过该基板的中央部的铅垂的旋转轴线为中心旋转，一边向所述基板的主表面供给药液；处理高度保持工序，与所述药液供给工序并行，将捕获从所述基板排出的药液的筒状的第一挡板保持在处理高度位置；以及清洗高度保持工序，在所述处理高度保持工序之后，与所述药液供给工序并行，将所述第一挡板保持在比所述处理高度位置更靠下方的清洗高度位置。
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公开(公告)号：CN109155247B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN201780026979.1
申请日：2017-05-18
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
Abstract: 基板处理装置包括：处理腔室；基板保持单元，配置在所述处理腔室内，用于保持基板；第一喷嘴，具有用于朝被所述基板保持单元保持的基板的主面喷出流体的喷出口。在基板处理装置中执行：第一处理步骤，将第一药剂流体从所述第一喷嘴朝所述基板的主面喷出，对所述基板实施使用了所述第一药剂流体的处理；第二处理步骤，将第二药剂流体供给至所述基板的主面，对所述基板实施使用了所述第二药剂流体的处理；以及水置换步骤，在所述第一处理步骤执行前及/或执行后，以及/或者，在所述第二处理步骤的执行前及/或执行后，将来自所述第一水供给单元的水供给至所述药剂流体配管，并以水置换所述药剂流体配管的内部。
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公开(公告)号：CN114365264A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202080060887.7
申请日：2020-08-07
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/02 , H01L21/027 , B08B3/08 , B08B3/10
Abstract: 一种基板处理方法，具备：保持具有第1面(S1)及与第1面(S1)相反的第2面(S2)的基板(WF)的步骤；对晶圆(WF)的第2面(S2)供给混入了含有臭氧气体的粒径50nm以下的气泡的处理液的步骤；以及在用以进行基板(WF)的处理的使用点对处理液进行加热的步骤。
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