基板搬送装置、显影装置以及显影方法

    公开(公告)号:CN114779592A

    公开(公告)日:2022-07-22

    申请号:CN202111511682.9

    申请日:2021-12-06

    Inventor: 秋冈知辉

    Abstract: 本发明涉及一种基板搬送装置、显影装置以及显影方法。本发明有效地防止通过盛在基板表面的显影液来进行显影处理时所产生的泡经由搬送辊而附着于基板的表面。本发明包括:搬送辊,一边从下方支撑基板一边旋转,以搬送基板;以及除泡构件,在由搬送辊所搬送的基板的下方侧与搬送辊非接触地配置,将从盛在搬送中的基板上的显影液产生并附着于搬送辊的泡中的、从搬送辊的周面堆积的部位予以去除。

    显影装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN116794941B

    公开(公告)日:2024-06-18

    申请号:CN202211453623.5

    申请日:2022-11-21

    Abstract: 本发明提供一种显影装置,能够有效地防止显影处理时产生的泡经由搬送辊而附着于基板表面。显影装置包括:搬送辊,具有轴向上的长度为轴向上的基板的长度以上的圆筒形状;喷嘴,设于搬送路径的上方且比搬送辊更靠下游侧的位置处,并朝向基板的上表面喷出显影液;以及液体接收构件,设于搬送路径的下方且喷嘴的正下方位置,并接收从喷嘴喷出的显影液。液体接收构件的上端成为被精加工成薄板状的刮板,所述刮板在比搬送路径更靠下方处与搬送辊的周面隔开规定的空隙而配置,与搬送辊相反的一侧的液体接收构件的表面延伸到超过喷嘴的正下方位置的位置,且成为至少在喷嘴的正下方位置至下端之间具有下坡坡度的倾斜面。

    基板搬送装置、显影装置以及显影方法

    公开(公告)号:CN114779592B

    公开(公告)日:2023-10-03

    申请号:CN202111511682.9

    申请日:2021-12-06

    Inventor: 秋冈知辉

    Abstract: 本发明涉及一种基板搬送装置、显影装置以及显影方法。本发明有效地防止通过盛在基板表面的显影液来进行显影处理时所产生的泡经由搬送辊而附着于基板的表面。本发明包括:搬送辊,一边从下方支撑基板一边旋转,以搬送基板;以及除泡构件,在由搬送辊所搬送的基板的下方侧与搬送辊非接触地配置,将从盛在搬送中的基板上的显影液产生并附着于搬送辊的泡中的、从搬送辊的周面堆积的部位予以去除。

    显影装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116794941A

    公开(公告)日:2023-09-22

    申请号:CN202211453623.5

    申请日:2022-11-21

    Abstract: 本发明提供一种显影装置,能够有效地防止显影处理时产生的泡经由搬送辊而附着于基板表面。显影装置包括:搬送辊,具有轴向上的长度为轴向上的基板的长度以上的圆筒形状;喷嘴,设于搬送路径的上方且比搬送辊更靠下游侧的位置处,并朝向基板的上表面喷出显影液;以及液体接收构件,设于搬送路径的下方且喷嘴的正下方位置,并接收从喷嘴喷出的显影液。液体接收构件的上端成为被精加工成薄板状的刮板,所述刮板在比搬送路径更靠下方处与搬送辊的周面隔开规定的空隙而配置,与搬送辊相反的一侧的液体接收构件的表面延伸到超过喷嘴的正下方位置的位置,且成为至少在喷嘴的正下方位置至下端之间具有下坡坡度的倾斜面。

    基板处理装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN116009367B

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202211276682.X

    申请日:2022-10-18

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置,能够减少因搬运辊引起的筋状的处理斑痕,并且还难以产生在基板的上表面形成积液的处理液的一部分向搬运辊的表面流出或者附着于搬运辊的泡上升到基板的上表面的问题。搬运机构(20)具有多个搬运辊(21)。搬运辊通过一边使在外周面上部分地形成的接触部(53)与基板(9)的下表面接触一边旋转,来搬运基板。接触部(53)与基板的下表面的接触位置随着搬运辊的旋转而在宽度方向上变化。由此,能够减少因搬运辊引起的筋状的处理斑痕。另外,由于搬运辊与基板的下表面的接触面积小,因此,还难以产生在基板的上表面形成积液的处理液的一部分向搬运辊的表面流出或者附着于搬运辊的泡上升到基板的上表面的问题。

    减压干燥装置及减压干燥方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118218220A

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202311766826.4

    申请日:2023-12-20

    Abstract: 本发明提供一种既能避免过度降低生产效率,又能避免在冷却部的冷却面过度蓄积液态溶剂的减压干燥装置及减压干燥方法。减压干燥装置(1)用于使涂敷于基板(9)的上表面的涂敷膜(90)干燥。腔室(10)容纳基板。支撑部(20)在腔室(10)内支撑基板。冷却部(40)对与支撑部(20)所支撑的基板的上表面相对的冷却面(40a)进行冷却。减压机构(30)从腔室吸引气体,使腔室(10)内的压力降低。供气机构(60)向腔室(10)内供给气体,使腔室(10)内的压力上升。控制部(80)控制供气机构(60),以在从供气机构(60)向处于减压状态的腔室(10)内供给规定量的气体之后,从供气机构(60)供给使腔室(10)内的压力成为大气压的量的气体。

    减压干燥装置及减压干燥方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118385100A

    公开(公告)日:2024-07-26

    申请号:CN202410102438.4

    申请日:2024-01-24

    Abstract: 本发明提供一种对发生于形成有涂覆膜的基板的四角附近的干燥不均进行抑制的减压干燥装置及方法。减压干燥装置(1)用于使涂覆于具有矩形状的基板(9)的上表面的有效区域(AE)的涂覆膜(90)干燥。减压干燥装置(1)包括容纳基板的腔室(10)、从腔室(10)吸引气体使腔室(10)内的压力降低的减压机构(30)、对与基板相对的冷却面(40a)进行冷却的冷却部(40)。冷却部的冷却面(40a)包括与基板(9)的从有效区域(AE)的外缘向内侧离开的内侧部分(PI)相对的内侧区域(AI)、与基板的有效区域(AE)的四角部分(PC)相对的四角区域(AC)。冷却部构成为,使冷却面(40a)的四角区域(AC)的温度低于冷却面的内侧区域(AI)的温度。

    基板处理装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116009367A

    公开(公告)日:2023-04-25

    申请号:CN202211276682.X

    申请日:2022-10-18

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置,能够减少因搬运辊引起的筋状的处理斑痕,并且还难以产生在基板的上表面形成积液的处理液的一部分向搬运辊的表面流出或者附着于搬运辊的泡上升到基板的上表面的问题。搬运机构(20)具有多个搬运辊(21)。搬运辊通过一边使在外周面上部分地形成的接触部(53)与基板(9)的下表面接触一边旋转,来搬运基板。接触部(53)与基板的下表面的接触位置随着搬运辊的旋转而在宽度方向上变化。由此,能够减少因搬运辊引起的筋状的处理斑痕。另外,由于搬运辊与基板的下表面的接触面积小,因此,还难以产生在基板的上表面形成积液的处理液的一部分向搬运辊的表面流出或者附着于搬运辊的泡上升到基板的上表面的问题。

    基板处理装置
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN220106444U

    公开(公告)日:2023-11-28

    申请号:CN202321413801.1

    申请日:2023-06-05

    Abstract: 本实用新型提供一种易于从罐中去除泡沫的基板处理装置,具备:处理部,对基板进行使用处理液的处理;罐,贮存处理液;第一配管,具有第一端和第二端,作为使在处理中使用后的处理液从第一端流向第二端并回收至罐的路径发挥作用;第二配管,具有第三端和第四端,作为使从第二端产生的泡沫从第三端流向第四端的路径发挥作用;第三配管,作为向从第四端喷出的泡沫供给清洗液的路径发挥作用;第四配管,具有排出由第三配管供给的清洗液的功能。

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