基板处理装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110233118B

    公开(公告)日:2023-07-07

    申请号:CN201910080720.6

    申请日:2019-01-28

    Abstract: 本发明是一种基板处理装置,对基板进行热处理,所述装置包含以下要素,即为:热处理板;壳体,形成由热处理板所致的热处理环境,活动顶板,能够在所述壳体的顶面与所述热处理板之间升降;控制部,在将基板搬入搬出时,使所述活动顶板移动到上升位置,在进行热处理时,使所述活动顶板移动到下降位置,针对每个基板调整所述下降位置。

    衬底处理装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110364457B

    公开(公告)日:2023-06-27

    申请号:CN201910232707.8

    申请日:2019-03-26

    Inventor: 稻垣幸彦

    Abstract: 本发明的衬底处理装置具备:第1液处理室,对衬底进行液处理;第2液处理室,配置于第1液处理室的下方,对衬底进行液处理;第1供给通道,向第1液处理室供给气体;及第2供给通道,向第2液处理室供给气体。第1供给通道具有沿着大致铅直方向延伸的第1铅直部。第2供给通道具有沿着大致铅直方向延伸的第2铅直部。第1铅直部及第2铅直部均延伸至比第2液处理室低的位置。

    衬底处理装置及衬底处理方法

    公开(公告)号:CN110943018B

    公开(公告)日:2024-12-27

    申请号:CN201910807112.0

    申请日:2019-08-28

    Abstract: 本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明的衬底处理装置具备装载部、阶层及控制部。阶层分别具备第1载置部、处理部及主搬送机构。装载部具备载体载置部及搬送部。搬送部进行供给动作,将衬底从载置在载体载置部的载体搬送到第1载置部。第1搬送机构进而进行层间搬送动作,在设置在不同阶层的2个第1载置部之间搬送衬底。

    基板交接系统及基板交接方法

    公开(公告)号:CN109755156B

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN201811284971.8

    申请日:2018-10-31

    Inventor: 稻垣幸彦

    Abstract: 本发明提供一种能够提高基板处理的处理量并且防止在多个升降构件与支撑部之间进行基板交接时在基板上产生损伤、并且抑制基板的制造成本增加的基板交接系统及基板交接方法。通过连结构件在上下方向移动,在支撑部与多个升降销之间进行基板交接。将设定构件载置在支撑部上,来设定基板交接时的连结构件的移动速度。在该状态下,连结构件按照支撑部上的设定构件被传递到多个升降销上的方式上升。基于由多个升降销对设定构件施加的压力的值决定基准位置,并且决定包括基准位置的速度限制范围。按照速度限制范围内的移动速度低于速度限制范围外的移动速度的方式,设定连结构件的移动速度。

    基板处理装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110943004A

    公开(公告)日:2020-03-31

    申请号:CN201910648801.1

    申请日:2019-07-18

    Abstract: 本发明是一种基板处理装置,对基板进行处理,所述装置包含以下要素,即为:分度区块,针对每个载具载置部具备分度机器人,所述分度机器人具有用以从所述载具载置部的载具取出基板且将基板收纳于所述载具载置部的载具的臂,且水平方向的位置固定;桥接区块,与所述分度区块邻接配置;及处理区块,具有多个阶层,所述多个阶层积层有具备至少1个以上的处理单元的阶层;且所述桥接区块具备:缓冲部;通路部,从多个阶层的最下层跨及最上层而具备;及两台桥接机械人,具有在与所述通路部之间交接基板的臂。

    基板交接系统及基板交接方法

    公开(公告)号:CN109755156A

    公开(公告)日:2019-05-14

    申请号:CN201811284971.8

    申请日:2018-10-31

    Inventor: 稻垣幸彦

    Abstract: 本发明提供一种能够提高基板处理的处理量并且防止在多个升降构件与支撑部之间进行基板交接时在基板上产生损伤、并且抑制基板的制造成本增加的基板交接系统及基板交接方法。通过连结构件在上下方向移动,在支撑部与多个升降销之间进行基板交接。将设定构件载置在支撑部上,来设定基板交接时的连结构件的移动速度。在该状态下,连结构件按照支撑部上的设定构件被传递到多个升降销上的方式上升。基于由多个升降销对设定构件施加的压力的值决定基准位置,并且决定包括基准位置的速度限制范围。按照速度限制范围内的移动速度低于速度限制范围外的移动速度的方式,设定连结构件的移动速度。

    基板处理装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110943004B

    公开(公告)日:2024-12-24

    申请号:CN201910648801.1

    申请日:2019-07-18

    Abstract: 本发明是一种基板处理装置,对基板进行处理,所述装置包含以下要素,即为:分度区块,针对每个载具载置部具备分度机器人,所述分度机器人具有用以从所述载具载置部的载具取出基板且将基板收纳于所述载具载置部的载具的臂,且水平方向的位置固定;桥接区块,与所述分度区块邻接配置;及处理区块,具有多个阶层,所述多个阶层积层有具备至少1个以上的处理单元的阶层;且所述桥接区块具备:缓冲部;通路部,从多个阶层的最下层跨及最上层而具备;及两台桥接机械人,具有在与所述通路部之间交接基板的臂。

    周缘部处理装置及周缘部处理方法

    公开(公告)号:CN107785293B

    公开(公告)日:2022-08-19

    申请号:CN201710735250.3

    申请日:2017-08-24

    Inventor: 稻垣幸彦

    Abstract: 本发明提供一种周缘部处理装置及周缘部处理方法。由旋转夹具保持基板,来使该基板旋转。从喷出部向由旋转夹具旋转的基板喷出处理液。喷出部具有沿着一方向排列的多个喷出口,能够从多个喷出口分别选择性地喷出处理液。在喷出部的多个喷出口的排列横穿由旋转夹具旋转的基板的周缘部、且与周缘部相向的状态下,向周缘部的内缘到外侧供给处理液。不向比基板的周缘部的内缘更靠内的内侧供给处理液。

    基板处理装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107017184B

    公开(公告)日:2021-07-02

    申请号:CN201611009746.4

    申请日:2016-11-01

    Inventor: 稻垣幸彦

    Abstract: 本发明提供一种能够提高处理部和分度器部的配置的自由度的基板处理装置。基板处理装置具有对基板进行处理的处理部。处理部的前表面以及处理部的后表面都能够与向处理部供给基板的分度器部连接。根据这样的基板处理装置,能够提高处理部和分度器部的配置的自由度。

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