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发明公开
基板处理装置以及基板处理方法审中-实审

公开(公告)号：CN118872032A

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202380028060.1

申请日：2023-03-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 青木陆太 , 山口贵大 , 远藤亨 , 续木凉介 , 上前昭司

IPC: H01L21/306 , H01L21/304

Abstract: 在基板处理装置(100)中，控制部(102)基于第一流量计(112b)的测量结果计算从第一成分液体供给部(112)经由第一配管(112a)而供给至贮存槽(116)的第一成分液体的第一供给量，基于第二流量计(114b)的测量结果计算从第二成分液体供给部(114)经由第二配管(114a)而供给至贮存槽(116)的第二成分液体的第二供给量；在成分液体供给期间中基于第一供给量以及第二供给量来控制第一成分液体供给部(112)以及第二成分液体供给部(114)，成分液体供给期间为第一成分液体供给部(112)经由第一配管(112a)供给第一成分液体的期间以及第二成分液体供给部(114)经由第二配管(114a)供给第二成分液体的期间中的至少一个期间。

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