基板处理装置及基板处理方法

    公开(公告)号:CN118672066B

    公开(公告)日:2025-03-04

    申请号:CN202311416981.3

    申请日:2023-10-30

    Abstract: 本发明提供一种可抑制搬运效率下降的基板处理装置及基板处理方法。在将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部及进行后工序的处理的后处理部与曝光装置加以连接的接口部,配置有多个搬运机器人及多个模块。在接口部中,执行将基板从前处理部向曝光装置搬运的去往路径搬运与从曝光装置向后处理部搬运的返回路径搬运。在发生去往路径搬运与返回路径搬运的搬运冲突时,与返回路径搬运相比,优先执行去往路径搬运。具体而言,即使在去往路径搬运侧的交付预告信号比返回路径搬运侧的交付预告信号滞后发送的情况下,也先执行去往路径搬运侧的基板搬运。可防止曝光装置成为待机状态,而抑制基板的搬运效率的下降。

    基板处理装置及基板处理方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118818909A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202410454999.0

    申请日:2024-04-16

    Abstract: 本发明提供一种能够减少基板的搬运进入待机状态的基板处理装置和基板处理方法。在将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部和进行后工序的处理的后处理部与两台曝光装置连接的接口部,配置有复数个搬运机械手和复数个模块。接口部有向一台曝光装置搬运基板的第一搬运路径和向另一台曝光装置搬运基板的第二搬运路径。使基板在作为相对短的搬运路径的第一搬运路径所包括的第一调温器中的处理时间仅延长规定的延迟时间。能够使沿着第一搬运路径搬运基板所需的时间与沿着第二搬运路径搬运基板所需的时间大体一致,能够减少基板在第一搬运路径中的搬运进入待机状态。

    基板处理装置及基板处理方法

    公开(公告)号:CN118672066A

    公开(公告)日:2024-09-20

    申请号:CN202311416981.3

    申请日:2023-10-30

    Abstract: 本发明提供一种可抑制搬运效率下降的基板处理装置及基板处理方法。在将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部及进行后工序的处理的后处理部与曝光装置加以连接的接口部,配置有多个搬运机器人及多个模块。在接口部中,执行将基板从前处理部向曝光装置搬运的去往路径搬运与从曝光装置向后处理部搬运的返回路径搬运。在发生去往路径搬运与返回路径搬运的搬运冲突时,与返回路径搬运相比,优先执行去往路径搬运。具体而言,即使在去往路径搬运侧的交付预告信号比返回路径搬运侧的交付预告信号滞后发送的情况下,也先执行去往路径搬运侧的基板搬运。可防止曝光装置成为待机状态,而抑制基板的搬运效率的下降。

Patent Agency Ranking