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公开(公告)号：CN118672066A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202311416981.3
申请日：2023-10-30
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种可抑制搬运效率下降的基板处理装置及基板处理方法。在将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部及进行后工序的处理的后处理部与曝光装置加以连接的接口部，配置有多个搬运机器人及多个模块。在接口部中，执行将基板从前处理部向曝光装置搬运的去往路径搬运与从曝光装置向后处理部搬运的返回路径搬运。在发生去往路径搬运与返回路径搬运的搬运冲突时，与返回路径搬运相比，优先执行去往路径搬运。具体而言，即使在去往路径搬运侧的交付预告信号比返回路径搬运侧的交付预告信号滞后发送的情况下，也先执行去往路径搬运侧的基板搬运。可防止曝光装置成为待机状态，而抑制基板的搬运效率的下降。
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公开(公告)号：CN110783166B
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN201910559676.7
申请日：2019-06-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/02 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够将多个基板在装置间统一搬运并在依次处理部及同时处理部适当地进行搬运及处理的基板处理装置。基板处理装置具有接受部、依次处理部、同时处理部和控制部。接受部接受附加有包括识别信息、位置信息和工艺信息的整体基板数据的多个基板。依次处理部依次搬运并处理多个基板(W)。同时处理部同时处理多个基板。控制部根据整体基板数据生成多个基板的每一个基板固有的个别基板数据，并根据个别基板数据控制依次处理部对多个基板的每一个基板的搬运及处理，当经依次处理部处理后的多个基板聚齐在出口位置时，根据个别基板数据生成整体基板数据，并根据整体基板数据控制所述同时处理部对所述多个基板的搬运及处理。
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公开(公告)号：CN118672066B
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202311416981.3
申请日：2023-10-30
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种可抑制搬运效率下降的基板处理装置及基板处理方法。在将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部及进行后工序的处理的后处理部与曝光装置加以连接的接口部，配置有多个搬运机器人及多个模块。在接口部中，执行将基板从前处理部向曝光装置搬运的去往路径搬运与从曝光装置向后处理部搬运的返回路径搬运。在发生去往路径搬运与返回路径搬运的搬运冲突时，与返回路径搬运相比，优先执行去往路径搬运。具体而言，即使在去往路径搬运侧的交付预告信号比返回路径搬运侧的交付预告信号滞后发送的情况下，也先执行去往路径搬运侧的基板搬运。可防止曝光装置成为待机状态，而抑制基板的搬运效率的下降。
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公开(公告)号：CN116631923B
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202211658220.4
申请日：2022-12-22
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明的课题是缩短基板处理装置的长度。本发明的解决方案的基板处理装置具有去程部分以及回程部分，基板在去程部分上移动，去程部分从基板被从索引器装置搬入的被搬入区域到朝向曝光装置搬出基板的接口部为止，从曝光装置向接口部搬入的基板在回程部分上移动，回程部分从接口部到朝向索引器装置搬出基板的被搬出区域为止。去程部分包含清洗部，对从索引器装置搬入的基板实施清洗处理；涂覆部，在用清洗部实施过清洗处理的基板上涂覆处理液；缓冲部，暂时收纳基板；以及搬送机器人，从清洗部搬出基板，向缓冲部搬入基板，从缓冲部搬出基板和向涂覆部搬入基板。回程部分包含对基于处理液的膜实施显影处理的显影部。
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公开(公告)号：CN116705678B
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202310219017.5
申请日：2023-03-01
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/677 , G03F7/30 , G03F7/20 , H01L21/67
Abstract: 本发明能够缩基板处理装置的长度。基板处理装置具有基板从由分度器装置搬入基板的区域移动到接口部为止的去程部分、以及基板从接口部移动到向分度器装置搬出基板的区域为止的返程部分。返程部分具有分别沿着第一水平方向配置的第一部分以及第二部分。第一部分包括对基板上的涂膜实施显影处理的显影部。第二部分包括对在显影处理后已通过加热部加热的基板进行冷却的冷却部。在从上方平面透视的情况下，第一部分的构成第一水平方向上的一部分的第一区域和第二部分的构成第一水平方向上的至少一部分的第二区域在与第一水平方向正交的第二水平方向上排列。返程部分包括加热部以及将已通过该加热部加热的基板从第一区域向第二区域搬运的第一搬运部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116705678A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310219017.5
申请日：2023-03-01
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/677 , G03F7/30 , G03F7/20 , H01L21/67
Abstract: 本发明能够缩基板处理装置的长度。基板处理装置具有基板从由分度器装置搬入基板的区域移动到接口部为止的去程部分、以及基板从接口部移动到向分度器装置搬出基板的区域为止的返程部分。返程部分具有分别沿着第一水平方向配置的第一部分以及第二部分。第一部分包括对基板上的涂膜实施显影处理的显影部。第二部分包括对在显影处理后已通过加热部加热的基板进行冷却的冷却部。在从上方平面透视的情况下，第一部分的构成第一水平方向上的一部分的第一区域和第二部分的构成第一水平方向上的至少一部分的第二区域在与第一水平方向正交的第二水平方向上排列。返程部分包括加热部以及将已通过该加热部加热的基板从第一区域向第二区域搬运的第一搬运部。
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公开(公告)号：CN118818909A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410454999.0
申请日：2024-04-16
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种能够减少基板的搬运进入待机状态的基板处理装置和基板处理方法。在将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部和进行后工序的处理的后处理部与两台曝光装置连接的接口部，配置有复数个搬运机械手和复数个模块。接口部有向一台曝光装置搬运基板的第一搬运路径和向另一台曝光装置搬运基板的第二搬运路径。使基板在作为相对短的搬运路径的第一搬运路径所包括的第一调温器中的处理时间仅延长规定的延迟时间。能够使沿着第一搬运路径搬运基板所需的时间与沿着第二搬运路径搬运基板所需的时间大体一致，能够减少基板在第一搬运路径中的搬运进入待机状态。
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公开(公告)号：CN116804827B
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202310224692.7
申请日：2023-03-07
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供能够对多个曝光装置进行灵活的搬运的基板处理装置以及基板处理方法。在接口部(20)中配置有多个搬运机械手和多个模块，所述接口部(20)将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部以及进行后工序的处理的后处理部与第一曝光装置(3a)以及第二曝光装置(3b)连接。多个模块的一部分层叠配置。作为通过接口部(20)搬运基板的模式，选择连续处理模式或交替处理模式，所述连续处理模式为将多个基板分别依次搬运至第一曝光装置(3a)以及第二曝光装置(3b)这两者的处理模式，所述交替处理模式为将多个基板交替地搬运至第一曝光装置(3a)或第二曝光装置(3b)的处理模式。在任意一种模式下，多个搬运机械手的访问次数均为4以下。
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公开(公告)号：CN116804827A
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202310224692.7
申请日：2023-03-07
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供能够对多个曝光装置进行灵活的搬运的基板处理装置以及基板处理方法。在接口部(20)中配置有多个搬运机械手和多个模块，所述接口部(20)将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部以及进行后工序的处理的后处理部与第一曝光装置(3a)以及第二曝光装置(3b)连接。多个模块的一部分层叠配置。作为通过接口部(20)搬运基板的模式，选择连续处理模式或交替处理模式，所述连续处理模式为将多个基板分别依次搬运至第一曝光装置(3a)以及第二曝光装置(3b)这两者的处理模式，所述交替处理模式为将多个基板交替地搬运至第一曝光装置(3a)或第二曝光装置(3b)的处理模式。在任意一种模式下，多个搬运机械手的访问次数均为4以下。
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公开(公告)号：CN116631923A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202211658220.4
申请日：2022-12-22
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明的课题是缩短基板处理装置的长度。本发明的解决方案的基板处理装置具有去程部分以及回程部分，基板在去程部分上移动，去程部分从基板被从索引器装置搬入的被搬入区域到朝向曝光装置搬出基板的接口部为止，从曝光装置向接口部搬入的基板在回程部分上移动，回程部分从接口部到朝向索引器装置搬出基板的被搬出区域为止。去程部分包含清洗部，对从索引器装置搬入的基板实施清洗处理；涂覆部，在用清洗部实施过清洗处理的基板上涂覆处理液；缓冲部，暂时收纳基板；以及搬送机器人，从清洗部搬出基板，向缓冲部搬入基板，从缓冲部搬出基板和向涂覆部搬入基板。回程部分包含对基于处理液的膜实施显影处理的显影部。
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