成膜装置
    1.
    实用新型

    公开(公告)号:CN209065995U

    公开(公告)日:2019-07-05

    申请号:CN201821666566.8

    申请日:2018-10-15

    Abstract: 本申请公开一种成膜装置,包括:真空容器;位于所述真空容器内的基板支架,其具有用于保持基板的基板保持面;位于所述真空容器内的成膜单元,其用于在所述基板上形成薄膜;位于所述真空容器内的照射单元,其用于向所述基板支架发射粒子;所述照射单元能使所述基板保持面的电位状态为单一电位。本申请提供的成膜装置在成膜过程中不会产生异常放电,保证薄膜形成过程的稳定,提升成膜质量。

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