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发明公开
钇系皮膜及其制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN119325524A

公开(公告)日：2025-01-17

申请号：CN202380045226.0

申请日：2023-10-06

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 佐藤和裕 , 田边健一 , 德野圭哉

IPC: C23C14/08 , C23C16/40

Abstract: 一种氧化钇皮膜，其皮膜的维氏硬度为900HV以上，氧化钇晶体的(222)面的基于X射线衍射的半值宽度为0.7°以上，在氧化钇的晶体结构中，(222)面优先取向，X射线衍射中的(222)面的衍射强度为其他晶面的2倍以上，能够形成于要求耐腐蚀性、耐磨性、耐粉尘产生性等的部件的表面，通过PVD法、CVD法、ALD法中的任一种、特别是离子束辅助蒸镀法形成。

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