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公开(公告)号：CN102076880A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200980124622.2
申请日：2009-06-16
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/30 , C23C14/0031 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/22 , G02B5/285
Abstract: 本发明提供一种能够抑制成膜条件的经时变化的蒸镀装置(1)。所述蒸镀装置(1)具备：被支承在接地的真空容器(10)内的基板支架(12)、保持在基板支架(12)上的基板(14)、离开基板(14)并与基板(14)相向的蒸发源(34，36)、对基板(14)照射离子的离子枪(38)、以及对基板(14)照射电子的中和器(40)，其中，真空容器(10)具备与真空容器(10)电气悬浮的内壁(30)，中和器(40)配设在真空容器(10)的内侧侧面侧并离开离子枪(38)。
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公开(公告)号：CN102076880B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200980124622.2
申请日：2009-06-16
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/30 , C23C14/0031 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/22 , G02B5/285
Abstract: 本发明提供一种能够抑制成膜条件的经时变化的蒸镀装置(1)。所述蒸镀装置(1)具备：被支承在接地的真空容器(10)内的基板支架(12)、保持在基板支架(12)上的基板(14)、离开基板(14)并与基板(14)相向的蒸发源(34，36)、对基板(14)照射离子的离子枪(38)、以及对基板(14)照射电子的中和器(40)，其中，真空容器(10)具备与真空容器(10)电气悬浮的内壁(30)，中和器(40)配设在真空容器(10)的内侧侧面侧并离开离子枪(38)。
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公开(公告)号：CN102076879A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200980124621.8
申请日：2009-06-16
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/30 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/22 , G02B1/115 , G02B5/285 , H01J37/32422
Abstract: 本发明提供一种能够抑制成膜条件的经时变化的蒸镀装置(1)。所述蒸镀装置(1)具备：被支承在接地的真空容器(10)内的基板支架(12)、保持在基板支架(12)上的基板(14)、离开基板(14)并与基板(14)相向的蒸发源(34，36)、对基板(14)照射离子的离子枪(38)、以及对基板(14)照射电子的中和器(40)，其中，离子枪(38)及中和器(40)分别安装有照射离子导向部件(50)及照射电子导向部件(52)。
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公开(公告)号：CN102076879B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200980124621.8
申请日：2009-06-16
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/30 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/22 , G02B1/115 , G02B5/285 , H01J37/32422
Abstract: 本发明提供一种能够抑制成膜条件的经时变化的蒸镀装置(1)。所述蒸镀装置(1)具备：被支承在接地的真空容器(10)内的基板支架(12)、保持在基板支架(12)上的基板(14)、离开基板(14)并与基板(14)相向的蒸发源(34，36)、对基板(14)照射离子的离子枪(38)、以及对基板(14)照射电子的中和器(40)，其中，离子枪(38)及中和器(40)分别安装有照射离子导向部件(50)及照射电子导向部件(52)。
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