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公开(公告)号：CN1215501C
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN00126407.9
申请日：2000-08-30
Applicant: 株式会社新王磁材
CPC classification number: H01F1/059 , H01F1/057 , H01F1/344 , H01F41/026 , Y10S428/90 , Y10S428/926 , Y10S428/928 , Y10T428/31663 , Y10T428/31678
Abstract: 本发明提供一种生产在其表面上有含特定平均粒度的并分散在由硅化合物形成的膜相中的无机细颗粒的耐腐蚀膜的稀土金属为基础的永磁体的方法。在形成膜的热处理中，通过硅化合物的水解反应和热分解反应，随后的聚合反应，通过膜的收缩在膜内产生应力。但是，用本发明的生产方法形成的耐腐蚀膜中，由于无机细颗粒的存在，这样的应力被消散，因此抑制了物理缺陷例如裂纹的产生。
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公开(公告)号：CN1637164A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200410098388.X
申请日：2000-05-12
Applicant: 株式会社新王磁材
CPC classification number: C23C14/223 , C23C14/16 , C23C14/246 , C23C14/505 , H01F41/026 , Y10S428/928 , Y10S428/938 , Y10T428/12063 , Y10T428/12465 , Y10T428/12778
Abstract: 一种产品，在其上具有由选自下述组中的至少一种金属形成的汽相淀积膜，所述组包括铝、钛、锌、锡、铅和铋，所述汽相淀积膜通过下述表面处理方法形成，该表面处理方法包括下述步骤：在将与氧气可反应的还原气体已供送到至少材料熔化/蒸发源附近的区域和处理室内的产品附近的区域的状态下，蒸发所述汽相淀积材料，其中包含所述与氧气可反应的还原气体的线形汽相淀积材料被蒸发，同时被供送到所述熔化/蒸发源，从而由所述汽相淀积材料供给所述包含与氧气可反应的还原气体。
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公开(公告)号：CN1203206C
公开(公告)日：2005-05-25
申请号：CN00108341.4
申请日：2000-05-12
Applicant: 株式会社新王磁材
CPC classification number: C23C14/223 , C23C14/16 , C23C14/246 , C23C14/505 , H01F41/026 , Y10S428/928 , Y10S428/938 , Y10T428/12063 , Y10T428/12465 , Y10T428/12778
Abstract: 本发明的表面处理方法是在汽相淀积控制气体已供送到至少靠近材料熔化/蒸发源和处理室内的产品的区域的状态下，通过蒸发汽相淀积材料。这样，不需要花较长时间来提高真空度，而且不需要使用专门的设备既可在理想的产品上，形成稳定的汽相淀积膜。本发明的一种表面处理设备包括用来熔化和蒸发包含汽相淀积控制气体的线形汽相淀积材料的熔化/蒸发源。熔化/蒸发源和产品盛放部件布置在表面处理室的处理室内。该设备还包括汽相淀积材料供送装置。
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公开(公告)号：CN1273639C
公开(公告)日：2006-09-06
申请号：CN01812597.2
申请日：2001-07-06
Applicant: 株式会社新王磁材
CPC classification number: C23C14/223 , C23C14/505 , C23C14/541 , H01F41/026
Abstract: 本发明的阻止在金属沉积薄膜上形成凸起的方法，其特征在于它使用一种气相沉积设备，所述设备包括真空处理腔内的一用于沉积材料的蒸发部分以及一容置元件或夹持元件，用于容置或夹持工件，通过使容置元件或夹持元件围绕水平轴线转动，可以将金属沉积材料沉积在工件的每个表面上。所进行的气相沉积导致形成在每个工件表面上的薄膜的维氏硬度保持在25或更高。根据本发明，当在诸如稀土金属基磁铁的工件表面上形成铝、锌或类似金属的金属沉积薄膜时，可以有效地阻止在金属沉积薄膜上产生凸起。
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公开(公告)号：CN1187472C
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN01111757.5
申请日：2001-03-23
Applicant: 株式会社新王磁材
CPC classification number: C23C14/505 , H01F1/0556 , H01F41/026
Abstract: 本发明第一实施例提供了一种沉积膜形成设备，其中筒体和蒸发段之间的距离可以改变，因此可以同时取得在每个装在筒体中的工件表面上有效形成沉积膜以及抑制其软化。则可以抑制在每个工件表面上形成的沉积膜的损坏以及在沉积膜上产生突起，并以高质量的抗腐蚀性和较低的成本形成沉积膜。根据本发明第二实施例的沉积膜形成设备，限定在筒体中的容装段和蒸发段之间的距离改变，此沉积膜形成设备具有与本发明第一实施例的沉积膜沉积设备相似的效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1180935C
公开(公告)日：2004-12-22
申请号：CN00108115.2
申请日：2000-04-28
Applicant: 株式会社新王磁材
CPC classification number: C23C10/34 , C23C10/02 , Y10T428/12569 , Y10T428/24413 , Y10T428/24909 , Y10T428/31678 , Y10T428/31681
Abstract: 将树脂模压制品和细金属粉末生成材料放入处理容器中。使该细金属粉末生成材料与该树脂模压制品的表面进行流动性接触，结果生成了细金属粉末并在树脂模压制品的表面上形成了由该细金属粉末生成的金属层。通过这种工艺可以在树脂模压制品的表面上形成由细金属粉末生成的坚固、高密度的金属层。该金属层具有导电能力。因此，通过采用电镀处理，可以用简单的方法在此金属层上形成具有精确厚度、极佳的表面光洁度和高剥离强度的金属薄膜。另外，此金属层本身可能就具有装饰性之类的功能和特性。
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公开(公告)号：CN100335675C
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200410098387.5
申请日：2000-05-12
Applicant: 株式会社新王磁材
Abstract: 一种利用容易氧化的汽相淀积材料在产品的表面上形成汽相淀积膜的表面处理方法，包括下述步骤：在将一汽相淀积控制气体已经供给到至少材料熔化/蒸发源附近的区域和处理室内的产品附近的区域的状态下，蒸发所述汽相淀积材料；其中，所述汽相淀积控制气体通过将其从处理室外部引入而供给。
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公开(公告)号：CN1215492C
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN00118153.X
申请日：2000-04-26
Applicant: 株式会社新王磁材
CPC classification number: C23C24/045 , H01F41/026 , Y10S428/90 , Y10T428/12049
Abstract: 提供具有优异封闭效果的封闭模制产品孔隙的工艺，及所制得的粘结磁体。把其表面存在孔隙的模制产品、无机粉末、脂肪和油以及介质放入处理容器，或把其表面存在孔隙的模制产品和无机粉末生成材料放入处理容器，向处理容器内的物料施加动能，从而强迫所述无机粉末或由所述无机粉末生成材料产生的无机粉末进入孔隙并将其固化于孔隙内。本发明工艺能够按干法对模制产品的孔隙进行选择地和简便封闭，呈现优异孔隙封闭效果。在后续步骤中可在模制产品表面上形成具有优异的尺寸精确度的耐蚀膜例如电镀膜。
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公开(公告)号：CN1624193A
公开(公告)日：2005-06-08
申请号：CN200410098389.4
申请日：2000-05-12
Applicant: 株式会社新王磁材
CPC classification number: C23C14/223 , C23C14/16 , C23C14/246 , C23C14/505 , H01F41/026 , Y10S428/928 , Y10S428/938 , Y10T428/12063 , Y10T428/12465 , Y10T428/12778
Abstract: 一种表面处理设备，包括：一个与抽空系统连接的处理室；一用来熔化和蒸发线形汽相淀积材料的熔化/蒸发源，所述线形汽相淀积材料包含与氧气可反应的还原气体；一用来容放产品的部件，所述汽相淀积材料淀积在所述产品上，所述熔化/蒸发源和所述用来容放产品的部件布置在所述处理室内；一汽相淀积材料供送装置，用来向所述熔化/蒸发源供送所述包含与氧气可反应还原气体的线形汽相淀积材料。
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公开(公告)号：CN1187763C
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN00106723.0
申请日：2000-01-27
Applicant: 株式会社新王磁材
CPC classification number: H01F41/026
Abstract: 一种具有薄膜层的稀土金属基永磁体，该薄膜层基本上仅由在形成磁体表面的金属上的细金属粉末构成。其表面具有薄膜层的稀土金属基永磁体是通过下面方法制备的：将稀土金属基永磁体和细金属粉末生产材料放入处理容器中，并在处理容器中将它们振动和/或搅拌，从而在形成磁体表面的金属上形成由细金属粉末生产材料形成的细金属粉末组成的薄膜层。这样，不必通过使用第三组分如树脂和偶合剂，就能在磁体的整个表面上均匀牢固地形成一导电层，从而形成如电镀膜这样的抗腐蚀膜，并且其厚度能达到较高的精度。
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