公开(公告)号：CN105339372A

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：CN201380077750.2

申请日：2013-06-28

Applicant: 株式会社杰希优

Inventor： 佐土原大祐 ,  西川贤一 ,  根道靖丈 ,  户田久之 ,  安田弘树 ,  都木新介 ,  约翰·厄尼斯特·克里斯托弗·科多尼尔

IPC: C07F7/04 ,  C08G77/02 ,  C09D183/00

Abstract: 本发明的目的在于，提供具有以往的水与四烷氧基硅烷的缩合物所不具有的新型功能的硅低聚物，提供下述通式(I)所表示的硅低聚物及其制造方法，(其中，R1～R10分别独立地为碳原子数1～4的烷基或羟烷基，X1～X3分别独立地为下述通式(II)所表示的基团，n为0或1，n为0时m为1～3的整数，n为1时m为1)(其中，A为碳原子数2～4的分支或未分支的亚烷基，l为1～3的整数)。

公开(公告)号：CN110256955A

公开(公告)日：2019-09-20

申请号：CN201910495663.8

申请日：2013-06-28

Applicant: 株式会社杰希优

Inventor： 佐土原大祐 ,  西川贤一 ,  根道靖丈 ,  户田久之 ,  安田弘树 ,  都木新介 ,  约翰·厄尼斯特·克里斯托弗·科多尼尔

IPC: C09D183/04 ,  C08G77/04

Abstract: 本发明的目的在于，提供具有以往的水与四烷氧基硅烷的缩合物所不具有的新型功能的硅低聚物，提供下述通式(I)所表示的硅低聚物及其制造方法，(其中，R1～R10分别独立地为碳原子数1～4的烷基或羟烷基，X1～X3分别独立地为下述通式(II)所表示的基团，n为0或1，n为0时m为1～3的整数，n为1时m为1)(其中，A为碳原子数2～4的分支或未分支的亚烷基，1为1～3的整数)。

公开(公告)号：CN108350589A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201580084219.7

申请日：2015-11-06

Applicant: 株式会社杰希优

Inventor： 衣幡和男 ,  中山香织 ,  柴田佳那 ,  福岛敏明 ,  都木新介

IPC: C25D3/12

Abstract: 通过以含有苄甲乙氧铵盐这一点为特征的镀镍用添加剂、含有其的缎光镀镍浴以及使用其的缎光镀镍方法，而提供在镀镍中能够得到缎光状外观的技术。

公开(公告)号：CN110256955B

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN201910495663.8

申请日：2013-06-28

Applicant: 株式会社杰希优

Inventor： 佐土原大祐 ,  西川贤一 ,  根道靖丈 ,  户田久之 ,  安田弘树 ,  都木新介 ,  约翰·厄尼斯特·克里斯托弗·科多尼尔

IPC: C09D183/04 ,  C08G77/04

Abstract: 本发明的目的在于，提供具有以往的水与四烷氧基硅烷的缩合物所不具有的新型功能的硅低聚物，提供下述通式(I)所表示的硅低聚物及其制造方法，(其中，R1～R10分别独立地为碳原子数1～4的烷基或羟烷基，X1～X3分别独立地为下述通式(II)所表示的基团，n为0或1，n为0时m为1～3的整数，n为1时m为1)(其中，A为碳原子数2～4的分支或未分支的亚烷基，1为1～3的整数)。

公开(公告)号：CN111448521A

公开(公告)日：2020-07-24

申请号：CN201880078975.2

申请日：2018-09-12

Applicant: 株式会社杰希优

Inventor： 谷本树一 ,  文藏隆志 ,  新城沙耶加 ,  都木新介

IPC: G03F7/42 ,  H05K3/18

Abstract: 本发明为用于提供容易除去微细的布线间的抗蚀剂的技术的、以含有钾盐和溶纤剂为特征的抗蚀剂的剥离液、以及以使用上述抗蚀剂的剥离液处理施加有抗蚀剂的基材为特征的抗蚀剂的除去方法。