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公开(公告)号：CN113039306A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202080006222.8
申请日：2020-02-04
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种能够长时间连续生产均匀的膜厚分布的薄膜的蒸镀源以及蒸镀装置。蒸镀源具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组。收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料。第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成，该第一喷嘴设置在收纳箱的一方向上的中央区域且具有第一喷嘴孔。第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成，该第二喷嘴设置在收纳箱的一方向上的比中央区域靠外方的各侧的侧方区域且具有第二喷嘴孔。分别位于收纳箱的一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比蒸镀对象物的上述一方向上的长度长，在第二喷嘴的射出蒸镀材料的气化物质的开口端中，一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于中央区域侧的部分距离假想基准面的高度低，所述假想基准面是与第二喷嘴孔的孔轴正交的面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113039306B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202080006222.8
申请日：2020-02-04
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种能够长时间连续生产均匀的膜厚分布的薄膜的蒸镀源以及蒸镀装置。蒸镀源具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组。收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料。第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成，该第一喷嘴设置在收纳箱的一方向上的中央区域且具有第一喷嘴孔。第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成，该第二喷嘴设置在收纳箱的一方向上的比中央区域靠外方的各侧的侧方区域且具有第二喷嘴孔。分别位于收纳箱的一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比蒸镀对象物的上述一方向上的长度长，在第二喷嘴的射出蒸镀材料的气化物质的开口端中，一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于中央区域侧的部分距离假想基准面的高度低，所述假想基准面是与第二喷嘴孔的孔轴正交的面。
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公开(公告)号：CN109328244B
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN201780038523.7
申请日：2017-07-19
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种可有效地抑制掩膜效应，并使蒸镀物质附着效率良好地成膜的真空蒸镀装置。其具有：蒸镀源(3)，其配置在真空室(1)内；移动装置，其使基板(S)相对于蒸镀源在一个方向上相对移动；以及掩膜材料(4)。以基板相对于蒸镀源的相对移动方向作为X轴方向，基板的宽度方向作为Y轴方向，在蒸镀源的容置箱(31)上喷嘴(32)以规定的间隔在Y轴方向上排列设置。分别位于Y轴方向两端的喷嘴彼此间的间隔根据喷嘴和被成膜物之间的距离(NS)设置为比基板的宽度(Ws)窄。以位于Y轴方向中央区域的各喷嘴作为主喷嘴(32m)，以位置比其更靠Y轴方向各侧的外侧的喷嘴作为副喷嘴(32s)，主喷嘴的喷嘴孔具有与基板(S)相交叉的孔轴(33)，并且副喷嘴的喷嘴孔带有相对于主喷嘴的孔轴向Y轴方向外侧倾斜的孔轴(34)。
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公开(公告)号：CN109328244A
公开(公告)日：2019-02-12
申请号：CN201780038523.7
申请日：2017-07-19
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种可有效地抑制掩膜效应，并使蒸镀物质附着效率良好地成膜的真空蒸镀装置。其具有：蒸镀源(3)，其配置在真空室(1)内；移动装置，其使基板(S)相对于蒸镀源在一个方向上相对移动；以及掩膜材料(4)。以基板相对于蒸镀源的相对移动方向作为X轴方向，基板的宽度方向作为Y轴方向，在蒸镀源的容置箱(31)上喷嘴(32)以规定的间隔在Y轴方向上排列设置。分别位于Y轴方向两端的喷嘴彼此间的间隔根据喷嘴和被成膜物之间的距离(NS)设置为比基板的宽度(Ws)窄。以位于Y轴方向中央区域的各喷嘴作为主喷嘴(32m)，以位置比其更靠Y轴方向各侧的外侧的喷嘴作为副喷嘴(32s)，主喷嘴的喷嘴孔具有与基板(S)相交叉的孔轴(33)，并且副喷嘴的喷嘴孔带有相对于主喷嘴的孔轴向Y轴方向外侧倾斜的孔轴(34)。
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公开(公告)号：CN102265407B
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN200980152288.1
申请日：2009-12-28
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C16/509 , H01L31/18
CPC classification number: H01L31/18 , C23C16/5096 , H01L31/02167 , H01L31/022425 , H01L31/1804 , H01L31/1868 , Y02E10/547 , Y02P70/521
Abstract: 本发明的课题在于，提供一种形成钝化膜的成膜方法、以及使用它的太阳能电池元件的制造方法，所述钝化膜能够充分抑制载流子的再结合所造成的损失。具备：载置部(22)，载置成膜对象；高频电源(25)；以及喷板(23)，设置成与载置在载置部(22)的成膜对象(S)相对，导入成膜气体并且连接高频电源来施加高频率的电压，其中，在喷板或者基板载置部上连接了施加低频率的电压的低频电源(26)。使用该成膜装置来实施钝化膜的成膜方法。
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公开(公告)号：CN102265407A
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN200980152288.1
申请日：2009-12-28
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L31/04
CPC classification number: H01L31/18 , C23C16/5096 , H01L31/02167 , H01L31/022425 , H01L31/1804 , H01L31/1868 , Y02E10/547 , Y02P70/521
Abstract: 本发明的课题在于，提供一种形成钝化膜的成膜方法和成膜装置、以及使用它的太阳能电池元件的制造方法，所述钝化膜能够充分抑制载流子的再结合所造成的损失。具备：载置部(22)，载置成膜对象；高频电源(25)；以及喷板(23)，设置成与载置在载置部(22)的成膜对象(S)相对，导入成膜气体并且连接高频电源来施加高频率的电压，其中，在喷板或者基板载置部上连接了施加低频率的电压的低频电源(26)。使用该成膜装置来实施成膜方法，在形成钝化膜时实施该成膜方法。
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