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公开(公告)号：CN114207421A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202180004650.1
申请日：2021-03-24
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明提供一种荧光X射线分析装置及荧光X射线分析装置的控制方法，即使在荧光X射线分析装置发生异常的情况下，也能够防止样品的劣化、破损、装置内部污染。荧光X射线分析装置具备：测量部，包括在待机位置和测量位置之间移动样品的移动机构、向样品照射1次X射线的X射线源、检测入射的荧光X射线的强度的检测器和控制移动机构及X射线源动作的第一控制部；以及信息处理部，其具有基于检测器测量出的荧光X射线的强度对样品进行分析的分析部、和与第一控制部进行通信并控制测量部的第二控制部，第一控制部具有退让单元，在第一控制部与第二控制部之间的通信被切断时，对移动机构进行退让控制，以使得在测量位置的样品退让至待机位置。
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公开(公告)号：CN112534248A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN201980052429.6
申请日：2019-06-06
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/2209
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置根据多路波高分析器(13)所输出的微分曲线、与针对作为一次射线的分析射线的规定的分析波高宽度和狭于该分析波高宽度的规定的狭小波高宽度，同时地获得作为二次X射线(7)的强度相对于联动机构(10)的扫描角度(20)的分布的分析波高宽度曲线和狭小波高宽度曲线。接着，针对分析波高宽度曲线以及狭小波高宽度曲线，进行分析射线的鉴定，在于分析波高宽度曲线中鉴定的分析射线中追加仅在狭小波高宽度曲线中鉴定的分析射线，形成分析射线的鉴定结果。
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公开(公告)号：CN107923859A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680049794.8
申请日：2016-08-26
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/207
CPC classification number: G01N23/223 , G01N23/207 , G01N23/2076 , G01N23/2209 , G01N2223/076
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置所具有的定量分析条件设定机构(13)针对多个标准试样(14)进行定性分析，根据其结果，设定在定量分析条件下的分析对象试样(1)的测定线的峰测定角度，并且将经过定性分析的多个标准试样(14)的峰形合成，求出单一的假想外形，根据假想外形和预定的峰形的半值宽度，设定在定量分析条件下的分析对象试样(1)的测定线的背景测定角度。
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公开(公告)号：CN115038959B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202180007827.3
申请日：2021-04-05
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/2209
Abstract: 本发明提供一种能够简便地确认遮蔽入射到检测器的荧光X射线的一部分的机构是否正常安装的荧光X射线分析装置、判断方法和判断程序。一种荧光X射线分析装置具有：X射线源(104)、索勒狭缝(110)、分光元件(112)和检测器(114)，其特征在于，具有：判断用部件(106)，其包含在照射一次X射线时产生规定能量的荧光X射线的元素；视野限制部(108)，其为可拆卸的构成，限制从试样和所述判断用部件产生的荧光X射线中的入射到所述检测器的荧光X射线；存储部(122)，其在所述视野限制部正常安装的情况下，预先存储所述判断用部件产生的所述规定能量的荧光X射线的强度；以及判断部(120)，其基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部是否正常安装。
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公开(公告)号：CN114868013A
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202180007475.1
申请日：2021-09-10
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置包括判定机构(21)和饱和厚度定量机构(23)，该判定机构(21)针对应测定强度的二次X射线的全部的测定线，判定基于已假定的厚度和已知的各成分的含有率而计算的薄膜中的理论强度相对于基于已知的各成分的含有率而计算的块体中的理论强度的比是否超过规定的阈值，该饱和厚度定量机构(23)在通过判定机构(21)针对全部的测定线判定理论强度的比超过规定的阈值的场合，针对各测定线，基于已知的各成分的含有率而计算理论强度饱和的饱和厚度，将最厚的饱和厚度作为厚度的定量值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112534248B
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN201980052429.6
申请日：2019-06-06
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/2209
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置根据多路波高分析器(13)所输出的微分曲线、与针对作为一次射线的分析射线的规定的分析波高宽度和狭于该分析波高宽度的规定的狭小波高宽度，同时地获得作为二次X射线(7)的强度相对于联动机构(10)的扫描角度(20)的分布的分析波高宽度曲线和狭小波高宽度曲线。接着，针对分析波高宽度曲线以及狭小波高宽度曲线，进行分析射线的鉴定，在于分析波高宽度曲线中鉴定的分析射线中追加仅在狭小波高宽度曲线中鉴定的分析射线，形成分析射线的鉴定结果。
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公开(公告)号：CN107923859B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201680049794.8
申请日：2016-08-26
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/207
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置所具有的定量分析条件设定机构(13)针对多个标准试样(14)进行定性分析，根据其结果，设定在定量分析条件下的分析对象试样(1)的测定线的峰测定角度，并且将经过定性分析的多个标准试样(14)的峰形合成，求出单一的假想外形，根据假想外形和预定的峰形的半值宽度，设定在定量分析条件下的分析对象试样(1)的测定线的背景测定角度。
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公开(公告)号：CN107209132A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680006771.9
申请日：2016-08-26
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/207
CPC classification number: G01N23/223 , G01N23/207 , G01N23/2076 , G01N23/2209 , G01N2223/076
Abstract: 本发明的扫描型的荧光X射线分析装置包括定量分析条件设定机构(13)，该机构根据标准试样(14)的定性分析结果和半定量分析结果，针对预先确定的试样组成元素以外的新检测元素，根据荧光X射线相对分析对象元素的分析值的吸收激励影响度、与干扰线相对分析对象元素的分析线的重叠影响度，判断是否应作为分析对象元素来追加。
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公开(公告)号：CN1877312B
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200610083463.4
申请日：2006-05-30
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/22
CPC classification number: G01N23/223 , G01N2223/076
Abstract: 本发明的课题在于提供一种荧光X射线分析装置等，其可针对包含多个非测定元素的无法指定其原子序数的各种试样，在更宽的适合范围内充分而正确地进行分析。设置算出机构，其根据假定的元素的浓度计算由试样中的各元素产生的2次X射线的理论强度，按照该理论强度和通过检测机构测定的测定强度一致的方式，对上述假定的元素的浓度进行最佳化计算，算出试样的元素的浓度，上述算出机构针对不测定荧光X射线的非测定元素假定多个非测定元素的浓度，并且代替从试样中的非测定元素产生的2次X射线，采用其数量至少与假定浓度的非测定元素相同的1次X射线的散射线，所采用的1次X射线的散射线包含用试样散射之前的波长不同的散射线。
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公开(公告)号：CN114207421B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202180004650.1
申请日：2021-03-24
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明提供一种荧光X射线分析装置及荧光X射线分析装置的控制方法，即使在荧光X射线分析装置发生异常的情况下，也能够防止样品的劣化、破损、装置内部污染。荧光X射线分析装置具备：测量部，包括在待机位置和测量位置之间移动样品的移动机构、向样品照射1次X射线的X射线源、检测入射的荧光X射线的强度的检测器和控制移动机构及X射线源动作的第一控制部；以及信息处理部，其具有基于检测器测量出的荧光X射线的强度对样品进行分析的分析部、和与第一控制部进行通信并控制测量部的第二控制部，第一控制部具有退让单元，在第一控制部与第二控制部之间的通信被切断时，对移动机构进行退让控制，以使得在测量位置的样品退让至待机位置。
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