公开(公告)号：CN116391063B

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202280006800.7

申请日：2022-06-01

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 中滨重之

IPC: C25D17/02 ,  C25D17/10 ,  C25D17/00

公开(公告)号：CN119948210A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202380065554.7

申请日：2023-12-21

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 下村直树 ,  中滨重之 ,  长井瑞树

IPC: C25D17/02 ,  C25D17/10 ,  C25D17/06 ,  C25D17/00

Abstract: 在仅向基板的一方的对置边供电的镀覆装置中使镀覆膜厚分布的均匀性提高。中间遮罩(30)包括：与基板支架的供电边部件对置的一对第一边部件(31)；与基板支架的非供电边部件对置的一对第二边部件(33)；配置于第一边部件(31)的第一电场供给部件(35)；以及配置于第二边部件(33)的第二电场供给部件(37)。第一电场供给部件(35)构成为在位于第二中央开口(30a)的第一边(30a‑1)的延长线上的第一位置(PG‑1)和位于与第一边(30a‑1)对置的第二边(30a‑2)的延长线上的第二位置(PG‑2)之间沿着第一边部件(31)延伸。第二电场供给部件(37)构成为在位于第二中央开口(30a)的第三边(30a‑3)的延长线上的第三位置(PG‑3)和位于与第三边(30a‑3)对置的第四边(30a‑4)的延长线上的第四位置(PG‑4)之间以远离第三位置(PG‑3)及第四位置(PG‑4)的方式成为一对地供给电场。

公开(公告)号：CN116391063A

公开(公告)日：2023-07-04

申请号：CN202280006800.7

申请日：2022-06-01

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 中滨重之

IPC: C25D17/02 ,  C25D17/10 ,  C25D17/00

Abstract: 本发明提供一种能够抑制基板的外周缘的膜厚变得不均匀的技术。镀覆装置(1)具备镀覆槽、阳极、基板保持件、至少一个辅助阳极(60a～60d)、具有供给电的供电部位(62)、和与至少一个辅助阳极连接并且在该辅助阳极的延伸方向上排列的多个连接部位(63)的汇流条(61)、以及至少一个离子电阻体(80a～80d)，离子电阻体构成为在离子电阻体的延伸方向上越接近供电部位，则离子电阻体的电阻率越高。

公开(公告)号：CN115135814B

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202180013895.0

申请日：2021-09-28

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 中滨重之 ,  长井瑞树

IPC: C25D17/00

Abstract: 本发明提供一种能够实现基板的膜厚的面内均匀性的技术。本发明的镀覆装置(1)具备辅助阳极(60a、60b、60c、60d)，辅助阳极的延伸方向的端部附近区域被具有大于零的电导率并且具有比镀覆液的电导率低的电导率的电阻器(65)包覆，辅助阳极的比端部附近区域靠中央侧的区域未被电阻器包覆而露出辅助阳极的表面。

公开(公告)号：CN115135814A

公开(公告)日：2022-09-30

申请号：CN202180013895.0

申请日：2021-09-28

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 中滨重之 ,  长井瑞树

IPC: C25D17/00

Abstract: 本发明提供一种能够实现基板的膜厚的面内均匀性的技术。本发明的镀覆装置(1)具备辅助阳极(60a、60b、60c、60d)，辅助阳极的延伸方向的端部附近区域被具有大于零的电导率并且具有比镀覆液的电导率低的电导率的电阻器(65)包覆，辅助阳极的比端部附近区域靠中央侧的区域未被电阻器包覆而露出辅助阳极的表面。