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发明公开
基板支撑机构、基板清洗装置及基板处理方法审中-实审

公开(公告)号：CN115483150A

公开(公告)日：2022-12-16

申请号：CN202210661203.X

申请日：2022-06-13

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 宫﨑充 , 中野央二郎 , 井上拓也

IPC: H01L21/687 , H01L21/02 , H01L21/67 , B08B3/02 , B08B13/00

Abstract: 本发明提供一种用来抑制清洗构件的磨耗、或未预期的污物的产生的基板支撑机构、基板清洗装置及基板处理方法。本发明的基板支撑机构(100)包括：第一支撑部(110)，能够自由摇动，包括在闭合状态下能够与基板(W)的其中一面的周缘接触的接触区域；第二支撑部(120)，支撑所述基板(W)的另一面；及第一支撑部移动部(140)，使所述第一支撑部(110)摇动。

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