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发明公开
光学式膜厚测量系统的清洗方法审中-实审

公开(公告)号：CN113226641A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201980085450.6

申请日：2019-12-16

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 高桥信行 , 丸山徹 , 横山太一 , 温中新

IPC: B24B37/013 , B08B3/02 , B24B49/12 , B24B55/06 , H01L21/304

Abstract: 本发明关于一种为了一边研磨晶片等基板，一边测量基板的膜厚而使用的光学式膜厚测量系统的清洗方法。本方法在使用浆液研磨基板(W)之前或之后，向形成于研磨台(3)上的研磨垫(2)的通孔(51)供给冲洗液，以冲洗液清洗配置于通孔(51)的下方的光学传感头(7)，并从通孔(51)通过排放管线(54)排出冲洗液。

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