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公开(公告)号：JP2021022578A
公开(公告)日：2021-02-18
申请号：JP2020181816
申请日：2020-10-29
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01J37/305 , H01J37/28 , H01J37/147 , H01J37/22
Abstract: 【課題】電子ビームの照射領域が意図通りの長方形とならない場合に、照射領域を長方形に近づけることができる電子ビームの照射領域補正方法を提供する。 【解決手段】電子ビーム発生装置からの電子ビームを、時間tとともに変化する電圧V1(t)を第1電極に印加することで第1方向にスキャンし、時間tとともに変化する電圧V2(t)を第2電極に印加することで前記第1方向と直交する第2方向にスキャンすることにより、長方形の領域をターゲットとして電子ビームを照射するように意図された電子ビーム照射装置において、電子ビームの照射領域が長方形ではなく前記第1方向に歪んだ概略平行四辺形となっている場合に、前記第1電極に電圧V1(t)+kV2(t)(kは定数)を印加し、前記第2電極に電圧V2(t)を印加することによって、電子ビームの照射領域が長方形となるよう補正する。 【選択図】図3A
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公开(公告)号：JP2016127023A
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：JP2015252534
申请日：2015-12-24
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/20 , H01J37/29 , G01N23/225 , H01L21/66 , H01J37/073
Abstract: 【課題】 試料の検査領域全面で均一な検査を行うことのできる検査装置を提供する。 【解決手段】 検査装置は、ステージ上の試料に対して一次ビームを照射する一次光学系と、一次ビームを試料に照射することにより試料から発生した二次ビームの像を生成する二次元センサを含む検出器と、二次ビームを二次元センサに導く2次光学系を備える。一次光学系は、ガウス分布のレーザー光を発生するレーザー光源1701と、ガウス分布のレーザー光を均一分布のレーザー光に強度分布変換するホモジナイザー1703と、均一分布のレーザー光が照射されることにより一次ビームを発生する光電面1702を備える。 【選択図】 図17
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种允许对样品的整个检查区域进行均匀检查的检查装置。解决方案：一种检查装置，包括：用于将样品照射在具有主光束的台上的主光学系统;检测器，包括： 二维传感器，通过用一次光束照射样品，产生从样品产生的次级光束的图像;以及二次光学系统，用于将二次光束引入二维传感器。 主光学系统包括产生高斯分布的激光的激光光源1701，均匀化器1703，其将高斯分布的激光的强度分布转换为均匀分布的激光，以及光电表面1702，当照射时产生主光束 具有均匀分布的激光。选择图：图17
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公开(公告)号：JP6584946B2
公开(公告)日：2019-10-02
申请号：JP2015252534
申请日：2015-12-24
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/20 , H01J37/29 , G01N23/2252 , G01N23/2251 , H01L21/66 , H01J37/073
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公开(公告)号：JP2018142472A
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：JP2017036584
申请日：2017-02-28
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01J37/05 , H01J37/20 , H01J37/22 , H01J37/147 , H01J37/04
Abstract: 【課題】電子線検査装置において光軸調整の作業に要する時間を大幅に短縮できる光軸調整方法および電子線検査装置を提供する。 【解決手段】レンズをウォブリングしたときに検出器にて撮像される電子像のシフト量とアライナに供給される補正電流または補正電圧との相関関係が予め測定されて記憶装置に記憶されており、(a)コラム内に電子ビームを生成し、レンズをウォブリングし、検出器にて撮像される電子像のシフト量を測定し、(b)測定されたシフト量を予め定められた収束条件と比較し、(c)測定されたシフト量が収束条件より大きい場合には、記憶装置に記憶された相関関係に基づいて、シフト量が小さくなるような補正電流または補正電圧を算出し、算出された補正電流または補正電圧をアライナに供給し、(a)からやり直す。 【選択図】 図4
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2018133243A
公开(公告)日：2018-08-23
申请号：JP2017026951
申请日：2017-02-16
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01J37/305 , H01J37/22
CPC classification number: H01L21/3065 , H01J37/1474 , H01J37/3023 , H01J37/3053 , H01L21/0273
Abstract: 【課題】性能がよい電子ビーム照射装置を提供する。 【解決手段】電子ビームを偏向器で偏向させて照射対象に照射する電子ビーム照射装置における電子ビームの照射エリアを調整する方法であって、電子ビーム照射レシピに基づいて前記偏向器を制御することにより、照射された電子ビームに対応した電流を検出する調整プレートに対して照射位置を変えながら電子ビームを照射する電子ビーム照射ステップと、前記調整プレートから検出される電流を取得する電流取得ステップと、取得された電流値に対応する画像データを形成する画像形成ステップと、形成された画像データに基づいて、電子ビームの照射エリアが適切か否かの判定を行う判定ステップと、照射エリアが不適切と判定された場合に、前記電子ビーム照射レシピを更新するレシピ更新ステップと、を備える電子ビームの照射エリア調整方法が提供される。 【選択図】図2A
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公开(公告)号：JP2020136122A
公开(公告)日：2020-08-31
申请号：JP2019029446
申请日：2019-02-21
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: G21K5/04 , H01J37/147 , H01J37/22 , H01J37/28 , H01J37/04
Abstract: 【課題】簡易に電子ビームの位置合わせを行うことができる電子線照射装置、および、簡易な電子線照射装置における電子ビームの位置合わせ方法を提供する。 【解決手段】アライナを通過した電子ビームを複数の電極を有する偏向器で偏向させる電子線照射装置における電子ビームの位置合わせ方法であって、前記複数の電極の1つに試験電圧を印加し、他の電極に基準電圧を印加して前記電子ビームの像を検出することを、前記複数の電極のそれぞれについて行い、各電極に対応する前記電子ビームの像の位置に基づいて前記電子ビームの位置ずれを特定し、前記電子ビームの位置ずれがキャンセルされるよう前記アライナの偏向を調整する、電子ビームの位置合わせ方法が提供される。 【選択図】図5
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公开(公告)号：JP2019133978A
公开(公告)日：2019-08-08
申请号：JP2018012442
申请日：2018-01-29
Applicant: 株式会社荏原製作所
Inventor： 田島 涼
IPC: G03F7/20 , H01J37/305 , H01J37/04 , H01L21/027
Abstract: 【課題】電子ビーム照射装置における偏向器の偏向感度を算出する偏向感度算出方法および偏向感度算出システムを提供する。 【解決手段】電子ビームを偏向器で偏向させて照射対象に照射する電子ビーム照射装置における電子ビームの照射エリアを調整する方法であって、電子ビーム照射レシピに基づいて前記偏向器を制御することにより、照射された電子ビームに対応した電流を検出する調整プレートに対して照射位置を変えながら電子ビームを照射する電子ビーム照射ステップと、前記調整プレートから検出される電流を取得する電流取得ステップと、取得された電流値に対応する画像データを形成する画像形成ステップと、形成された画像データに基づいて、電子ビームの照射エリアが適切か否かの判定を行う判定ステップと、照射エリアが不適切と判定された場合に、前記電子ビーム照射レシピを更新するレシピ更新ステップと、を備える電子ビームの照射エリア調整方法が提供される。 【選択図】図2A
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公开(公告)号：JP6273094B2
公开(公告)日：2018-01-31
申请号：JP2013057863
申请日：2013-03-21
Applicant: 株式会社荏原製作所
Inventor： 田島 涼
IPC: G01B15/08 , G01B15/04 , G01N23/225
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公开(公告)号：JP2016157695A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：JP2016055532
申请日：2016-03-18
Applicant: 株式会社荏原製作所
Inventor： 野路 伸治 , 佐竹 徹 , 曽布川 拓司 , 金馬 利文 , 畠山 雅規 , 吉川 省二 , 村上 武司 , 渡辺 賢治 , 狩俣 努 , 末松 健一 , 田部 豊 , 田島 涼 , 遠山 敬一
IPC: G01N23/225 , G01N23/203 , H01L21/66 , H01J37/244 , H01J37/29
Abstract: 【課題】写像投影式光学系において蛍光像をTDIセンサに伝達するリレー光学系の光信号伝達損失を低減できる電子線検査装置を提供する。 【解決手段】試料表面の情報を得た電子を写像投影式光学系(二次系コラム29・1)でMCP29・2に拡大投影して結像させる。電子はMCPで増倍され、蛍光材で蛍光像に変換され、FOP29・3によってTDIセンサ29・4に伝達される。TDIセンサの像信号は接続ピン29.5、フィードスルーフランジ29・6を経由してTDIカメラ29・7に伝達される。写像投影光学系の静電レンズの電圧を調整して所望の拡大投影倍率を得て、TDIセンサの画素サイズに基づく試料表面上の画素サイズを定める。TDIセンサまでをコラムの真空中に設けたのでFOPを短縮できる。このため光信号の透過率を向上できて信号強度を高くなるので高速動作が可能になる。 【選択図】図29
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种电子束检查装置，其能够减少在投影映射型光学系统中将荧光图像发送到TDI传感器的中继光学系统的光信号传输损耗。解决方案：获得关于样品的信息的电子 表面通过投影映射型光学系统（第二列29-1）放大并投影在MCP 29-2上以形成图像。 电子被MCP放大，通过荧光材料转换为荧光图像，并通过FOP 29-3传输到TDI传感器29-4。 TDI传感器的图像信号通过连接销29.5和场通过法兰29-6传输到TDI相机29-7。 调整投影映射型光学系统的静电透镜的电压以获得期望的放大倍率，并且确定基于TDI传感器的像素尺寸的样品表面上的像素尺寸。 由于即使在真空中提供TDI传感器，也可以减少FOP。 因此，可以提高光信号的透射率，从而提高信号强度，从而可以执行高速操作。图29
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