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公开(公告)号：CN1199064C
公开(公告)日：2005-04-27
申请号：CN02149980.2
申请日：2002-11-04
Applicant: 株式会社藤仓
CPC classification number: C03B37/032 , C03C25/12 , Y02P40/57 , Y10S242/92
Abstract: 一种制造涂覆光纤的方法和装置，所述涂覆光纤具有树脂涂层的优异表面光滑度并且可以以优异的涂覆性能涂覆彩色墨水。所述方法包括以下步骤：围绕裸光纤(3)形成外涂层，制成涂覆光纤(10)；以及用收线装置(14)通过滑轮缠绕此涂覆光纤，运行的涂覆光纤外层接触的每个固体的表面粗糙度等于或小于0.8μm。当外涂层温度为室温或外涂层的杨氏模量高于500MPa时，在拉制或反绕时涂覆光纤外层接触的每个固体的表面粗糙度等于或小于1.2μm。
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公开(公告)号：CN1882513B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200480033659.1
申请日：2004-11-17
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: C03B37/027 , C03C25/12 , G02B6/00
CPC classification number: C03B37/0253 , C03B37/02718 , C03B37/029 , C03B2201/23 , C03B2205/40 , C03B2205/56 , C03B2205/72 , C03C13/045 , C03C2201/23 , Y02P40/57
Abstract: 一种光纤裸线的拉丝方法，包括：使用加热装置熔化光纤母材，拉出光纤裸线的步骤；以及在前述加热熔化步骤之后，自然冷却或者通过冷却装置强制冷却前述光纤裸线的步骤；其中，当用前述加热装置加热熔化了的光纤母材的加热熔化部分处于1800℃或其以上的温度的时间为T(min)、前述光纤母材的包覆层中的OH基的浓度为X(wtppm)时，在前述加热熔化步骤中，利用前述加热装置将光纤母材拉制成光纤裸线过程中的温度历史，满足关系式T≤-0.01X+12。
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公开(公告)号：CN1882513A
公开(公告)日：2006-12-20
申请号：CN200480033659.1
申请日：2004-11-17
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: C03B37/027 , C03C25/12 , G02B6/00
CPC classification number: C03B37/0253 , C03B37/02718 , C03B37/029 , C03B2201/23 , C03B2205/40 , C03B2205/56 , C03B2205/72 , C03C13/045 , C03C2201/23 , Y02P40/57
Abstract: 一种光纤裸线的拉丝方法，包括：使用加热装置熔化光纤母材，拉出光纤裸线的步骤；以及在前述加热熔化步骤之后，自然冷却或者通过冷却装置强制冷却前述光纤裸线的步骤；其中，当用前述加热装置加热熔化了的光纤母材的加热熔化部分处于1800℃或其以上的温度的时间为T(min)、前述光纤母材的包覆层中的OH基的浓度为X(wtppm)时，在前述加热熔化步骤中，利用前述加热装置将光纤母材拉制成光纤裸线过程中的温度历史，满足关系式T≤－0.01X+12。
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公开(公告)号：CN1444062A
公开(公告)日：2003-09-24
申请号：CN02149980.2
申请日：2002-11-04
Applicant: 株式会社藤仓
CPC classification number: C03B37/032 , C03C25/12 , Y02P40/57 , Y10S242/92
Abstract: 一种制造涂覆光纤的方法和装置，所述涂覆光纤具有树脂涂层的优异表面光滑度并且可以以优异的涂覆性能涂覆彩色墨水。所述方法包括以下步骤：围绕裸光纤(3)形成外涂层，制成涂覆光纤(10)；以及用收线装置(14)通过滑轮缠绕此涂覆光纤，运行的涂覆光纤外层接触的每个固体的表面粗糙度等于或小于0.8μm。当外涂层温度为室温或外涂层的杨氏模量高于500MPa时，在拉制或反绕时涂覆光纤外层接触的每个固体的表面粗糙度等于或小于1.2μm。
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公开(公告)号：CN101506959B
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN200780030699.4
申请日：2007-06-22
Applicant: 株式会社藤仓 , 国立大学法人千叶大学
IPC: H01L21/363 , C23C14/08 , C23C14/32 , C30B23/08 , C30B29/16
CPC classification number: C23C14/086 , C23C14/46 , C30B23/02 , C30B29/16 , H01L21/02403 , H01L21/0242 , H01L21/02472 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02573 , H01L21/02631
Abstract: 一种氧化锌系半导体晶体的制造方法，用于至少使锌和氧到达基板表面，在该基板上生长氧化锌系半导体晶体，在1×10-4Torr以下的真空气氛中，将上述锌的一部分或全部离子化，并使其到达上述基板表面，生长氧化锌系半导体晶体。结果，可提供能够生长晶体的生长速度快、生长表面平坦性和结晶性良好，并且晶体内的杂质极少的氧化锌系半导体晶体的氧化锌系半导体晶体的制造方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1898585A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200480038162.9
申请日：2004-02-18
Applicant: 株式会社藤仓
CPC classification number: C03C4/0042 , C03B2201/22 , C03C25/607 , G02B6/02 , Y02P40/57
Abstract: 光纤维处理方法，其至少具备使收纳有光纤维的空间内形成减压气氛的第一工序和向前述空间内导入含氘气体，使前述光纤维曝露在前述含氘气体中的第二工序。
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公开(公告)号：CN1292271C
公开(公告)日：2006-12-27
申请号：CN02156042.0
申请日：2002-12-11
Applicant: 株式会社藤仓
CPC classification number: B29D11/00663 , B29L2011/0075
Abstract: 制造了一种光纤涂覆模具，使得光纤对树脂涂层的界面剪切速率根据涂覆杯中树脂的压力值来计算，并且界面剪切速率在-1.5×105到0秒-1的范围。同样，制造了一种光纤涂覆模具，使得光纤对涂覆树脂涂层的界面剪切速率根据涂覆树脂的直径来计算，并且界面剪切速率在-3×105到2×105秒-1的范围。通过实现这些，可以实现一种可用于光纤拉制方法中的模具使得即使在高速拉制操和高生产率中完成稳定树脂涂覆操作。
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公开(公告)号：CN1255691C
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN02124894.X
申请日：2002-06-24
Applicant: 株式会社藤仓
CPC classification number: G02B6/02009 , G02B6/02261 , G02B6/0228 , G02B6/02395 , G02B6/03627 , G02B6/03644
Abstract: 这个色散补偿光纤包括带有有芯体和包覆层的未覆盖的色散补偿光纤以及环绕未覆盖的色散补偿光纤放置的树脂涂层，所述涂层具有小于或等于10g/mm的粘结性。作为另一选择地，所述色散补偿光纤包括带有有芯体和包覆层的未覆盖的色散补偿光纤以及环绕未覆盖的色散补偿光纤放置的树脂涂层，其中所述涂层具有小于或等于10g/mm的粘结性；并且所述色散补偿光纤包括一个单或双涂层以及在所述单或双涂层上构成的具有等于或大于3微米厚度的外涂层。
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公开(公告)号：CN101506959A
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200780030699.4
申请日：2007-06-22
Applicant: 株式会社藤仓 , 国立大学法人千叶大学
IPC: H01L21/363 , C23C14/08 , C23C14/32 , C30B23/08 , C30B29/16
CPC classification number: C23C14/086 , C23C14/46 , C30B23/02 , C30B29/16 , H01L21/02403 , H01L21/0242 , H01L21/02472 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02573 , H01L21/02631
Abstract: 一种氧化锌系半导体晶体的制造方法，用于至少使锌和氧到达基板表面，在该基板上生长氧化锌系半导体晶体，在1×10－4Torr以下的真空气氛中，将上述锌的一部分或全部离子化，并使其到达上述基板表面，生长氧化锌系半导体晶体。结果，可提供能够生长晶体的生长速度快、生长表面平坦性和结晶性良好，并且晶体内的杂质极少的氧化锌系半导体晶体的氧化锌系半导体晶体的制造方法。
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公开(公告)号：CN100417958C
公开(公告)日：2008-09-10
申请号：CN200480038162.9
申请日：2004-02-18
Applicant: 株式会社藤仓
CPC classification number: C03C4/0042 , C03B2201/22 , C03C25/607 , G02B6/02 , Y02P40/57
Abstract: 光纤维处理方法，其至少具备使收纳有光纤维的空间内形成减压气氛的第一工序和向前述空间内导入含氘气体，使前述光纤维曝露在前述含氘气体中的第二工序。
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