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公开(公告)号：CN100543439C
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200580002967.2
申请日：2005-01-26
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: G01M11/02
CPC classification number: G01M99/002 , G01M11/30
Abstract: 本发明提供一种精密的测定方法，用于提高多模光纤的DMD测定精度，准确地测定、评价多模光纤的特性。其特征在于，在多模光纤的DMD测定中，监控测定时间内的温度变化，在控制了温度变化量的环境下进行DMD测定。
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公开(公告)号：CN100403070C
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN02126954.8
申请日：2002-07-24
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: G02B6/00 , C03B37/012
CPC classification number: G02B6/03688 , C03B37/01228 , C03B37/014 , C03B37/01861 , C03B2203/22 , C03B2203/36 , G02B6/02238 , G02B6/02261 , G02B6/0228 , G02B6/03605 , G02B6/03627 , G02B6/03644 , Y02P40/57
Abstract: 一种制造光纤预制棒的改进方法，使用了CVD方法，其中部分或整个光纤预制棒是通过在底管(14)的内壁上淀积玻璃形成的。方法包括第一步在底管(14)的内壁上淀积玻璃并破坏底管(14)以形成硅棒；第二步去掉硅棒周围的底管(14)或去掉底管(14)和部分有机玻璃；第三步在第二步中得到的硅棒的外表面上淀积玻璃。通过使用本方法将镀层(19)的折射率设置为小于纯硅的折射率，可以得到传输损耗非常低的光纤。
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公开(公告)号：CN1910435A
公开(公告)日：2007-02-07
申请号：CN200580002967.2
申请日：2005-01-26
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: G01M11/02
CPC classification number: G01M99/002 , G01M11/30
Abstract: 本发明提供一种精密的测定方法，用于提高多模光纤的DMD测定精度，准确地测定、评价多模光纤的特性。其特征在于，在多模光纤的DMD测定中，监控测定时间内的温度变化，在控制了温度变化量的环境下进行DMD测定。
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公开(公告)号：CN1220083C
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN02150251.X
申请日：2002-11-06
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: G02B6/18 , C03B37/012
CPC classification number: C03B37/0142 , C03B2203/22 , C03B2203/36 , C03B2207/60 , C03B2207/64 , C03B2207/70 , G02B6/02214 , G02B6/0281 , G02B6/03611 , G02B6/03644
Abstract: 一种光纤和光纤预制棒，通过控制其芯体中的折射率的变化值，使其光学特性，诸如波长色散，接近于设计值，由此实现高质量和高速度的传输，以及相应的制造方法。光纤或光纤预制棒是以这样一种方式制造的，使得在芯体的相对于包层的相对折射率为其最大值的80%或更高的区域中的每个位置处，相对折射率沿包层的直径的位置的变化率绝对值为0.5或更小，其中沿包层直径的位置是由相对于包层直径的百分数来定义的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1218198C
公开(公告)日：2005-09-07
申请号：CN01145666.3
申请日：2001-10-03
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: G02B6/22 , G02B6/18 , C03B37/018 , C03C13/04
CPC classification number: G02B6/03661 , C03C13/045 , G02B6/02261 , G02B6/03611 , G02B6/03644
Abstract: 本发明涉及抗氢性提高了的光纤。光纤包括高浓度锗层和低浓度锗层。高浓度锗层在光纤的中心位置，其含氧化锗，相对于高浓度锗层总重量，浓度为0.1%(重量)或更多。低浓度锗层在高浓度锗层周围，其含氧化锗，相对于低浓度锗层总重量，浓度小于0.1%(重量)。从高浓度锗层漏进低浓度锗层的光功率与经光纤传播的总光功率的比率是0.4%或更小。
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公开(公告)号：CN1217209C
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：CN03101856.4
申请日：2003-01-20
Applicant: 株式会社藤仓
CPC classification number: G02B6/02242 , G02B6/02009 , G02B6/02271 , G02B6/02285 , G02B6/03666 , G02B6/03688 , G02B6/29377 , H04B10/2525
Abstract: 一种光纤，其在1460nm波长带具有+1.0ps/nm/km或更大的色散、在1550nm波长带具有0.04ps/nm2/km或更小的色散斜率、以及1450nm或更小的截止波长，其中RDS与波长λ的关系是-1.67×10-5λ+0.0300≥RDS(λ)≥-1.67×10-5λ+0.0285，RDS是色散斜率与色散的比值。
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公开(公告)号：CN1199064C
公开(公告)日：2005-04-27
申请号：CN02149980.2
申请日：2002-11-04
Applicant: 株式会社藤仓
CPC classification number: C03B37/032 , C03C25/12 , Y02P40/57 , Y10S242/92
Abstract: 一种制造涂覆光纤的方法和装置，所述涂覆光纤具有树脂涂层的优异表面光滑度并且可以以优异的涂覆性能涂覆彩色墨水。所述方法包括以下步骤：围绕裸光纤(3)形成外涂层，制成涂覆光纤(10)；以及用收线装置(14)通过滑轮缠绕此涂覆光纤，运行的涂覆光纤外层接触的每个固体的表面粗糙度等于或小于0.8μm。当外涂层温度为室温或外涂层的杨氏模量高于500MPa时，在拉制或反绕时涂覆光纤外层接触的每个固体的表面粗糙度等于或小于1.2μm。
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公开(公告)号：CN1898167B
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN200480038163.3
申请日：2004-12-17
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: C03B37/027 , C03B37/12
CPC classification number: C03B37/032 , C03B37/02745 , C03B2203/19 , C03B2203/36 , C03B2205/06
Abstract: 本发明提供一种光纤扭转装置，能防止拉丝中的光纤的摆动，能对光纤裸线实施稳定的被覆。该光纤扭转装置具有扭转辊装置(25)，该扭转辊装置具备扭转辊(22)，通过对光纤线施加扭转，在位于光纤线的上游侧的光纤母材熔化部分加入扭转；以及对扭转辊(22)进行轴支撑的支撑部(21)，构成扭转辊装置(25)状态下的扭转辊(22)的外周精度小于等于15μm。
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公开(公告)号：CN100374886C
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN02154350.X
申请日：2002-11-27
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: G02B6/02 , C03B37/018 , C03B37/023
CPC classification number: C03B37/01413 , C03B37/02718 , C03B2201/04 , C03B2201/075 , C03B2205/56 , G02B6/03622 , Y02P40/57
Abstract: 一种光纤可通过在包括芯部(1)和第一包层(2)的玻璃棒外面气相沉积SiO2，和拉伸通过第二包层(3)形成的玻璃预制棒来形成。制造单模光纤使第一包层部分的直径D和芯部的直径d的比在4.0到4.8的范围，OH的浓度是0.1ppm或更小。还制造一种光纤使其D/d的比值大于4.8，其OH的浓度是0.1ppm或更小。因此，即使出现氢扩散，仍可以保持1380nm波长范围的初损耗。
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