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公开(公告)号：CN101436564B
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN200810176072.6
申请日：2008-11-11
Applicant: 株式会社迅动
CPC classification number: H01L21/67173 , H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/68728 , H01L21/68742 , Y10S134/902
Abstract: 提供一种基板处理装置，该基板处理装置在对基板进行斜面清洗处理时，使第一磁铁板配置在下方位置，使第二磁铁板配置在上方位置。此时，在第一磁铁板的外侧区域，各卡销处于闭状态，在第二磁铁板的外侧区域，各卡销处于开状态。即，各卡销的保持部在通过第一磁铁板的外侧区域时，保持与基板的外周端部接触的状态，在通过第二磁铁板的外侧区域时，与基板的外周端部分离。
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公开(公告)号：CN101436564A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200810176072.6
申请日：2008-11-11
Applicant: 株式会社迅动
CPC classification number: H01L21/67173 , H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/68728 , H01L21/68742 , Y10S134/902
Abstract: 提供一种基板处理装置，该基板处理装置在对基板进行斜面清洗处理时，使第一磁铁板配置在下方位置，使第二磁铁板配置在上方位置。此时，在第一磁铁板的外侧区域，各卡销处于闭状态，在第二磁铁板的外侧区域，各卡销处于开状态。即，各卡销的保持部在通过第一磁铁板的外侧区域时，保持与基板的外周端部接触的状态，在通过第二磁铁板的外侧区域时，与基板的外周端部分离。
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公开(公告)号：CN101355019B
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：CN200810144319.6
申请日：2008-07-25
Applicant: 株式会社迅动
CPC classification number: H01L21/67046
Abstract: 一种基板清洗装置及具有该基板清洗装置的基板处理装置，具有清洗处理单元，所述清洗处理单元具有旋转卡盘，所述旋转卡盘用于在水平保持基板的同时，使基板绕贯穿基板中心的铅垂轴旋转。在旋转卡盘的外侧，设置有斜面清洗部。斜面清洗部具有清洗刷。清洗刷具有与铅直轴旋转对称的形状，并且具有上斜面清洗面、端面清洗面以及下斜面清洗面。端面清洗面是以垂直方向为轴心的圆筒面。上斜面清洗面从端面清洗面的上端向外侧上方倾斜延伸，下斜面清洗面从端面清洗面的下端向外侧下方倾斜延伸。
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公开(公告)号：CN101355019A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200810144319.6
申请日：2008-07-25
Applicant: 株式会社迅动
CPC classification number: H01L21/67046
Abstract: 一种基板清洗装置及具有该基板清洗装置的基板处理装置，具有清洗处理单元，所述清洗处理单元具有旋转卡盘，所述旋转卡盘用于在水平保持基板的同时，使基板绕贯穿基板中心的铅垂轴旋转。在旋转卡盘的外侧，设置有斜面清洗部。斜面清洗部具有清洗刷。清洗刷具有与铅直轴旋转对称的形状，并且具有上斜面清洗面、端面清洗面以及下斜面清洗面。端面清洗面是以垂直方向为轴心的圆筒面。上斜面清洗面从端面清洗面的上端向外侧上方倾斜延伸，下斜面清洗面从端面清洗面的下端向外侧下方倾斜延伸。
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