公开(公告)号：CN101436564B

公开(公告)日：2011-10-19

申请号：CN200810176072.6

申请日：2008-11-11

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 西山耕二 ,  吉井弘至

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/00 ,  B08B7/04 ,  G03F7/26 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/67173 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68742 ,  Y10S134/902

Abstract: 提供一种基板处理装置，该基板处理装置在对基板进行斜面清洗处理时，使第一磁铁板配置在下方位置，使第二磁铁板配置在上方位置。此时，在第一磁铁板的外侧区域，各卡销处于闭状态，在第二磁铁板的外侧区域，各卡销处于开状态。即，各卡销的保持部在通过第一磁铁板的外侧区域时，保持与基板的外周端部接触的状态，在通过第二磁铁板的外侧区域时，与基板的外周端部分离。

公开(公告)号：CN1773376B

公开(公告)日：2010-06-23

申请号：CN200510120440.1

申请日：2005-11-10

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 金山幸司 ,  久井章博 ,  浅野彻 ,  小林宽 ,  奥村刚 ,  安田周一 ,  金冈雅 ,  宫城聪 ,  茂森和士

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/70991 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明提供的基板处理装置具有分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置有曝光装置。接口模块具有含有2个干燥处理单元的干燥处理部和接口用搬送机构。在曝光装置中，在对基板实施了曝光处理后，基板通过接口用搬送机构被搬送到干燥处理部的干燥处理单元。在干燥处理部的干燥处理单元中，进行基板的洗涤和干燥。

公开(公告)号：CN1773674B

公开(公告)日：2010-04-14

申请号：CN200510120447.3

申请日：2005-11-10

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 金山幸司 ,  柴田修治 ,  奥村刚 ,  安田周一 ,  金冈雅 ,  宫城聪 ,  茂森和士

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  Y10S414/135

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，基板处理装置具有分度器部、反射防止膜用处理部、抗蚀膜用处理部、干燥/显影处理部以及接口部。曝光装置相邻于接口部而被配置。干燥/显影处理部具有干燥处理部。接口部具有接口用搬送机构。在曝光装置中对基板进行曝光处理之后，通过接口用搬送机构将基板搬送到干燥处理部，在干燥处理部对基板进行清洗以及干燥。

公开(公告)号：CN100495639C

公开(公告)日：2009-06-03

申请号：CN200710001774.6

申请日：2007-01-16

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 滨田哲也

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/027 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01L21/67225 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置具有接口区。相邻于接口区而配置有曝光装置。接口区包括第一以及第二清洗/干燥处理单元。在第一清洗/干燥处理单元中，对曝光处理前的基板进行清洗以及干燥处理；在第二清洗/干燥处理单元中，对曝光处理后的基板进行清洗以及干燥处理。

公开(公告)号：CN101388327A

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：CN200810149148.6

申请日：2008-09-12

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 宫城聪 ,  金冈雅 ,  茂森和士 ,  安田周一 ,  真田雅和

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  G03F7/00 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 提供一种基板处理装置以及基板处理方法，在清洗了基板后，形成冲洗液的液层，覆盖基板的一面。接着，液体供给喷嘴从基板的中心部上方向外侧移动。液体供给喷嘴在从基板的中心部上方移动到规定距离时暂时停止。在此期间内，离心力使液层在薄层区域内切断，从而在液层的中心部形成干燥核斑。然后，液体供给喷嘴再次向外侧移动，从而使没有冲洗液的干燥区域在基板上以干燥核斑为起点扩大。

公开(公告)号：CN100433252C

公开(公告)日：2008-11-12

申请号：CN200610128106.5

申请日：2006-09-04

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 滨田哲也

IPC: H01L21/00 ,  G03F7/00 ,  G03F1/00

CPC classification number: G03F7/38 ,  G03F7/70991

Abstract: 本发明涉及一种对已进行曝光处理的衬底进行处理的设备及方法。在这种衬底处理设备中，已通过曝光装置进行曝光处理的衬底被传输至清洗处理装置中。调整清洗处理装置中已曝光衬底的存在时间(更具体地，等待时间或清洗时间)，以调整清洗处理结束的时刻，从而提供曝光处理完成时刻与清洗处理结束时刻之间的恒定时间间隔。上述调整提供曝光处理完成时刻与曝光后烘烤处理开始时刻之间的恒定时间间隔，还提供清洗处理完成时刻与曝光后烘烤处理开始时刻之间的恒定时间间隔。这实现了在使用化学放大抗蚀剂时形成的图案的线宽均匀性的进一步提高。

公开(公告)号：CN101388333B

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN200810212379.7

申请日：2008-09-12

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 宫城聪 ,  金冈雅 ,  茂森和士 ,  安田周一 ,  真田雅和

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67225

Abstract: 一种基板处理装置和基板处理方法，在清洗基板后，基板进行旋转的状态下，液体供给喷嘴一边喷出冲洗液，一边从基板的中心部上方向外方移动。此时，没有冲洗液的干燥区域在基板上扩大。若液体供给喷嘴移动至基板周边部上方，则基板的旋转速度下降。液体供给喷嘴的移动速度维持原状态。然后，停止喷出冲洗液，并且，液体供给喷嘴移动到基板的外方。由此，干燥区域扩展到基板上整体，基板被干燥。

公开(公告)号：CN1773673B

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN200510120446.9

申请日：2005-11-10

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 安田周一 ,  金冈雅 ,  金山幸司 ,  宫城聪 ,  茂森和士 ,  浅野彻 ,  久井章博 ,  小林宽 ,  奥村刚

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/70991 ,  G03F7/7075 ,  Y10S438/906 ,  Y10S438/908

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，基板处理装置具有：分度器部、反射防止膜用处理部、抗蚀膜用处理部、显影处理部以及接口部。以相邻于接口部的方式配置曝光装置。接口部具有清洗处理部以及接口用搬送机构。在曝光装置中对基板执行曝光处理之前，基板通过接口用搬送机构被搬送到清洗处理部。在清洗处理部中进行基板的清洗以及干燥。

公开(公告)号：CN101436564A

公开(公告)日：2009-05-20

申请号：CN200810176072.6

申请日：2008-11-11

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 西山耕二 ,  吉井弘至

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/00 ,  B08B7/04 ,  G03F7/26 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/67173 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68742 ,  Y10S134/902

Abstract: 提供一种基板处理装置，该基板处理装置在对基板进行斜面清洗处理时，使第一磁铁板配置在下方位置，使第二磁铁板配置在上方位置。此时，在第一磁铁板的外侧区域，各卡销处于闭状态，在第二磁铁板的外侧区域，各卡销处于开状态。即，各卡销的保持部在通过第一磁铁板的外侧区域时，保持与基板的外周端部接触的状态，在通过第二磁铁板的外侧区域时，与基板的外周端部分离。

公开(公告)号：CN101335187A

公开(公告)日：2008-12-31

申请号：CN200810125036.7

申请日：2008-06-27

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 福富义光 ,  三桥毅 ,  小椋浩之 ,  森西健也 ,  川松康夫 ,  长岛广路

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01L21/67178 ,  B05B14/43 ,  B05B14/44 ,  B05C13/00 ,  B05C13/02 ,  B05D3/0486 ,  G03F7/26 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67225 ,  H01L23/34 ,  H01L2924/0002 ,  Y10S414/135 ,  H01L2924/00

Abstract: 一种基板处理装置，其具有设置在上下方向上的多列基板处理列。各基板处理列具有排列在横向上的多个主搬运机构和对应于每个主搬运机构设置并用于处理基板的多个处理单元，各主搬运机构向对应的处理单元搬运基板的同时，与在横向相邻的其他的主搬运机构交接基板，而对基板进行一系列的处理。因为各基板处理列同时对基板进行处理，所以能够使基板处理装置的处理能力增强。