公开(公告)号：JP5057622B2

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：JP2001297773

申请日：2001-09-27

Applicant: 株式会社Adeka ,  株式会社渡辺商行

Inventor： 桂子 三瓶 ,  啓史 上原 ,  仁一 尾見 ,  嗣貴 旭岡 ,  有康 栗田 ,  博 森田 ,  昌樹 楠原 ,  弘行 渡部 ,  真木雄 高橋

IPC: C01B33/158 ,  C03B8/02 ,  C01B33/154 ,  C03B19/10 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1065 ,  C03C2201/10 ,  C03C2203/24

公开(公告)号：JP4649677B2

公开(公告)日：2011-03-16

申请号：JP2004200985

申请日：2004-07-07

Applicant: 株式会社Adeka ,  株式会社渡辺商行

Inventor： 仁一 尾見 ,  博 森田

IPC: C01B33/18

公开(公告)号：JP4504491B2

公开(公告)日：2010-07-14

申请号：JP37520699

申请日：1999-12-28

Applicant: 株式会社Adeka ,  株式会社渡辺商行

Inventor： 桂子 三瓶 ,  啓史 上原 ,  忠洋 仲田 ,  修一 多田 ,  仁一 尾見 ,  邦夫 杉山 ,  博 森田 ,  昌樹 楠原 ,  弘行 渡部

IPC: C03B20/00 ,  C01B33/18

CPC classification number: C03B19/1065

公开(公告)号：JPWO2009063887A1

公开(公告)日：2011-03-31

申请号：JP2009541143

申请日：2008-11-12

Applicant: 株式会社Adeka ,  株式会社Adeka

Inventor： 森田　博 ,  博 森田 ,  宏美 佐藤 ,  宏美 佐藤 ,  純 小林 ,  純 小林 ,  仁一 尾見 ,  仁一 尾見 ,  斎藤　誠一 ,  誠一 斎藤

IPC: G03F7/075 ,  C08G77/16 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08G77/50 ,  C08G77/14 ,  C08G77/80 ,  C08K5/235 ,  C08K5/5419 ,  C08L83/06 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/40 ,  H01L23/296 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/12044 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/124 ,  H01L2924/00

Abstract: 透明性が高いだけでなく、基板製作時の温度に耐えられる耐熱性、耐溶剤性、さらには永久レジストとしての耐経時変化性に優れた絶縁層を与えることのできるポジ型感光性組成物、このポジ型感光性組成物を用いたポジ型永久レジスト及びポジ型永久レジストの製造方法を提供する。下記一般式(1)、で表される環状シロキサン化合物の1種以上と、下記一般式(2)、で表されるアリールアルコキシシラン化合物の1種以上と、を反応させて得られる構造の、(A)シラノール基を有する硬化性シリコーン樹脂、(B)ジアゾナフトキノン類、及び(C)溶剤、を含有するポジ型感光性組成物、このポジ型感光性組成物を用いたポジ型永久レジスト及びポジ型永久レジストの製造方法である。

公开(公告)号：JPWO2012086370A1

公开(公告)日：2014-05-22

申请号：JP2012549698

申请日：2011-11-28

Applicant: 株式会社Adeka ,  株式会社Adeka

Inventor： 智幸 岩島 ,  智幸 岩島 ,  松本　拓也 ,  拓也 松本 ,  孝 末吉 ,  孝 末吉 ,  宏美 竹之内 ,  宏美 竹之内 ,  仁一 尾見 ,  仁一 尾見

IPC: G03F7/075 ,  C08F290/06 ,  C08G77/20 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08G77/20 ,  C08F299/08 ,  G03F7/032 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0757

Abstract: 本発明は、透明性、耐薬品性、耐熱性及びアルカリ現像性に優れ、更には永久レジストとしての耐熱性及び耐継時変化性に優れ、絶縁層として好適なアルカリ現像性のネガ型感光性樹脂組成物及び該感光性樹脂組成物を用いた永久レジストを提供するものであり、具体的には、特定の不飽和シラン化合物、特定のシラン化合物及び特定の環状シロキサン化合物を加水分解縮合反応して得られるポリシロキサン化合物、並びに光ラジカル発生剤を含有する感光性樹脂組成物を提供するものである。

公开(公告)号：JP5666266B2

公开(公告)日：2015-02-12

申请号：JP2010262740

申请日：2010-11-25

Applicant: 株式会社Adeka ,  株式会社Adeka

Inventor： 森田　博 ,  博 森田 ,  宏美 竹之内 ,  宏美 竹之内 ,  純 小林 ,  純 小林 ,  仁一 尾見 ,  仁一 尾見

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/023

公开(公告)号：JP4020940B2

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：JP2006124070

申请日：2006-04-27

Applicant: 東京地下鉄株式会社 ,  株式会社Adeka ,  館山建設株式会社

Inventor： 弘 井上 ,  力蔵 仲田 ,  善彦 佐伯 ,  博典 多々良 ,  仁一 尾見 ,  壽弘 岡崎

IPC: E21D11/00

公开(公告)号：JP5105555B2

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：JP2009541143

申请日：2008-11-12

Applicant: 株式会社Adeka

Inventor： 博 森田 ,  宏美 佐藤 ,  純 小林 ,  仁一 尾見 ,  誠一 斎藤

IPC: G03F7/075 ,  C08G77/16 ,  G03F7/023 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08G77/50 ,  C08G77/14 ,  C08G77/80 ,  C08K5/235 ,  C08K5/5419 ,  C08L83/06 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/40 ,  H01L23/296 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/12044 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/124 ,  H01L2924/00

公开(公告)号：JP5479993B2

公开(公告)日：2014-04-23

申请号：JP2010096941

申请日：2010-04-20

Applicant: 株式会社Adeka

Inventor： 宏美 竹之内 ,  仁一 尾見 ,  誠一 斎藤

IPC: G03F7/075 ,  C08G59/40 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/023

公开(公告)号：JP5062820B2

公开(公告)日：2012-10-31

申请号：JP2007075991

申请日：2007-03-23

Applicant: 株式会社Adeka

Inventor： 宏美 佐藤 ,  仁一 尾見 ,  誠一 斎藤 ,  博 森田

IPC: C07F7/21 ,  C08G77/50 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075

CPC classification number: C07F7/21 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0757

Abstract: Disclosed is a cyclic siloxane compound which enables to obtain a positive resist composition having excellent physical properties as a resist. Also disclosed is a positive resist composition using such a cyclic siloxane compound. Specifically disclosed is a cyclic siloxane compound which is obtained by hydrosilylating a compound represented by the general formula (1) below and/or a compound which is obtained by hydrosilylating a compound represented by the general formula (1) below with a divinyl compound represented by the general formula (2) below, with a monovinyl compound represented by the general formula (3) below. (1) CH 2 =CH-R 2 -CH=CH 2 (2) CH 2 =CR 3 -(R 4 ) h -T (3)