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公开(公告)号：CN118689041A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202311154305.3
申请日：2023-09-07
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 松永真一
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置，在配置有具备微透镜阵列的投影光学系统的曝光装置中，将高分辨率的图案投影于曝光面的大范围。曝光装置(10)的投影光学系统(25)具有第1成像光学系统(30)、MLA(32)、分割光学系统(40)、第2成像光学系统(50)，分割光学系统(40)将由DMD(22)调制后的光的图案像分割成4个分割图案像(DA1、DA2、DA3、DA4)，并投影于沿副扫描方向(Y方向)相连的扫描带区域(SB2、SB1、SB4、SB3)。并且，将MLA(32)配置于第1成像光学系统(30)的第1成像面(FS)的位置，分割光学系统(40)接近MLA(32)而配置。
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公开(公告)号：CN110320765A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201910149661.3
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供曝光装置。构成能够抑制长基板的曲折前行的基板输送系统。在RtoR输送系统能够与曝光载台(15)一起沿着基板输送方向M移动的曝光装置(10’)中，张力辊(36)设置于曝光载台(15)的下游侧。并且，在RtoR输送系统的移动中，张力辊(36)相对于其他的辊而进行位置变动并施加张力，以抑制长基板W1、W2的挠曲。
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公开(公告)号：CN110320765B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN201910149661.3
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供曝光装置。构成能够抑制长基板的曲折前行的基板输送系统。在RtoR输送系统能够与曝光载台(15)一起沿着基板输送方向M移动的曝光装置(10’)中，张力辊(36)设置于曝光载台(15)的下游侧。并且，在RtoR输送系统的移动中，张力辊(36)相对于其他的辊而进行位置变动并施加张力，以抑制长基板W1、W2的挠曲。
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公开(公告)号：CN1299145C
公开(公告)日：2007-02-07
申请号：CN200410045552.0
申请日：2004-05-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G02B15/16 , G02B13/22 , G02B17/08 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/2002 , G03F7/70258
Abstract: 本发明提供了一种将掩模图形投影到工件上的投影曝光装置。该装置有基座、光源、光学系统、掩模支承机构、工件支承机构以及对准机构。光学系统使光线形成为载有掩模的图像信息的投影光线，并引导该投影光线通过预定光路，从而使投影光线能够投影到工件的曝光表面上。光学系统包括投影光学系统和照明光学系统。该投影光学系统垂直于基座布置。掩模和工件支承机构分别相对于基座垂直支承掩模和工件。这样，工件的曝光表面能够与在光路中的成像平面重合。
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公开(公告)号：CN1573406A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410045552.0
申请日：2004-05-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G02B15/16 , G02B13/22 , G02B17/08 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/2002 , G03F7/70258
Abstract: 本发明提供了一种将掩模图形投影到工件上的投影曝光装置。该装置有基座、光源、光学系统、掩模支承机构、工件支承机构以及对准机构。光学系统使光线形成为载有掩模的图像信息的投影光线，并引导该投影光线通过预定光路，从而使投影光线能够投影到工件的曝光表面上。光学系统包括投影光学系统和照明光学系统。该投影光学系统垂直于基座布置。掩模和工件支承机构分别相对于基座垂直支承掩模和工件。这样，工件的曝光表面能够与在光路中的成像平面重合。
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