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公开(公告)号：CN110955118B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN201910149815.9
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置和曝光方法。利用抑制了设置空间的RtoR输送系统的曝光装置进行长基板的双面曝光。在RtoR输送系统的曝光装置(10)中，在曝光载台(15)的单侧配置供给卷轴(22)、收卷卷轴(32)，在相反侧配置基板折回机构(50)。然后，基板折回机构(50)使从供给卷轴(22)送出的长基板(W)朝向相反方向折回，并且使正面背面翻转。曝光部(40)在曝光载台(15)与包含供给卷轴(22)、收卷卷轴(32)的基板供给/收卷装置(20)一体地进行相对移动的期间内，对长基板(W)的正面侧曝光对象部分(W1)和背面侧曝光对象部分(W2)这双方同时进行曝光。
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公开(公告)号：CN112859532A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202011296878.6
申请日：2020-11-18
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 绿川悟
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种直接曝光装置和基板的曝光方法。能够良好地保持曝光区域的平面度，即使是焦点深度浅的曝光光学系统，也能够对可进行高分辨率的图案曝光的基板的两个面同时进行曝光。直接曝光装置具有：一对曝光单元，它们隔着基板对置配置；以及一对吸附部，它们在各曝光单元的曝光区域中吸附所述基板的与所述曝光区域相反的面。
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公开(公告)号：CN110320765A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201910149661.3
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供曝光装置。构成能够抑制长基板的曲折前行的基板输送系统。在RtoR输送系统能够与曝光载台(15)一起沿着基板输送方向M移动的曝光装置(10’)中，张力辊(36)设置于曝光载台(15)的下游侧。并且，在RtoR输送系统的移动中，张力辊(36)相对于其他的辊而进行位置变动并施加张力，以抑制长基板W1、W2的挠曲。
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公开(公告)号：CN109491209A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201811060520.6
申请日：2018-09-12
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供一种曝光装置。具有RtoR(Roll to Roll carrier：卷筒对卷筒输送系统)输送系统，在抑制长基板的曲折前行的同时进行曝光。一种曝光装置(10)，其具有输送长基板(W1、W2)的RtoR输送系统，其中，在该曝光装置(10)中设置有：基板供给装置(20)，其保持设置于曝光载台(15)的上游侧的供给卷轴(22A、22B)；以及基板收卷装置(30)，其保持设置于下游侧的收卷卷轴(32A、32B)。在曝光动作时，曝光载台(15)利用载台移动机构(50)在X方向上移动，同时，基板供给装置(20)和基板收卷装置(30)利用输送部移动机构60一起在X方向上移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105093861A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201510244466.0
申请日：2015-05-14
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 提供一种曝光装置，其是卷对卷方式的曝光装置，能够在长条工件上不产生划痕疵的情况下缩短生产节拍，并且所形成的图案的连接精度良好。所述曝光装置具有：曝光台(31)，其保持长条工件(W)；台移动部(32)，其使曝光台(31)往复移动；供给侧约束辊(15)，其设置在供给卷轴(11)的下游侧且曝光单元(51)的上游侧，约束长条工件(W)；以及卷绕侧约束辊(25)，其设置在曝光单元(51)的下游侧且卷绕卷轴(21)的上游侧，约束长条工件(W)，所述供给侧约束辊(15)和卷绕侧约束辊(25)中的至少一方具有辊驱动单元。
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公开(公告)号：CN112859532B
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202011296878.6
申请日：2020-11-18
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 绿川悟
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种直接曝光装置和基板的曝光方法。能够良好地保持曝光区域的平面度，即使是焦点深度浅的曝光光学系统，也能够对可进行高分辨率的图案曝光的基板的两个面同时进行曝光。直接曝光装置具有：一对曝光单元，它们隔着基板对置配置；以及一对吸附部，它们在各曝光单元的曝光区域中吸附所述基板的与所述曝光区域相反的面。
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公开(公告)号：CN110320765B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN201910149661.3
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供曝光装置。构成能够抑制长基板的曲折前行的基板输送系统。在RtoR输送系统能够与曝光载台(15)一起沿着基板输送方向M移动的曝光装置(10’)中，张力辊(36)设置于曝光载台(15)的下游侧。并且，在RtoR输送系统的移动中，张力辊(36)相对于其他的辊而进行位置变动并施加张力，以抑制长基板W1、W2的挠曲。
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公开(公告)号：CN110955118A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201910149815.9
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置。利用抑制了设置空间的RtoR输送系统的曝光装置进行长基板的双面曝光。在RtoR输送系统的曝光装置(10)中，在曝光载台(15)的单侧配置供给卷轴(22)、收卷卷轴(32)，在相反侧配置基板折回机构(50)。然后，基板折回机构(50)使从供给卷轴(22)送出的长基板(W)朝向相反方向折回，并且使正面背面翻转。曝光部(40)在曝光载台(15)与包含供给卷轴(22)、收卷卷轴(32)的基板供给/收卷装置(20)一体地进行相对移动的期间内，对长基板(W)的正面侧曝光对象部分(W1)和背面侧曝光对象部分(W2)这双方同时进行曝光。
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公开(公告)号：CN105093861B
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：CN201510244466.0
申请日：2015-05-14
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 提供一种曝光装置，其是卷对卷方式的曝光装置，能够在长条工件上不产生划痕疵的情况下缩短生产节拍，并且所形成的图案的连接精度良好。所述曝光装置具有：曝光台(31)，其保持长条工件(W)；台移动部(32)，其使曝光台(31)往复移动；供给侧约束辊(15)，其设置在供给卷轴(11)的下游侧且曝光单元(51)的上游侧，约束长条工件(W)；以及卷绕侧约束辊(25)，其设置在曝光单元(51)的下游侧且卷绕卷轴(21)的上游侧，约束长条工件(W)，所述供给侧约束辊(15)和卷绕侧约束辊(25)中的至少一方具有辊驱动单元。
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