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公开(公告)号：CN104508561B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201380040503.5
申请日：2013-09-05
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , B08B1/04 , H01L21/027 , H01L21/304
CPC classification number: G03F7/70925
Abstract: 得到一种曝光装置的除尘装置和除尘方法，该曝光装置的除尘装置和除尘方法使得在除尘中暂时附着于除尘辊而被去除的灰尘、污物或异物等不会再次附着到除尘对象物上。一种曝光装置的除尘装置，所述曝光装置在感光性基板上曝光出图案，其特征在于，所述曝光装置的除尘装置具有：除尘辊，其能够通过周面与所述曝光装置内的除尘对象物的除尘表面接触/分离；以及移动机构，其以在使所述除尘辊的周面与所述除尘对象物的除尘表面接触的同时使所述除尘辊旋转的方式，使所述除尘辊与除尘对象物相对移动，所述除尘辊的周长被设定为比由所述移动机构控制的、所述除尘辊的周面与所述除尘对象物的除尘表面的接触移动距离长。
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公开(公告)号：CN104418122A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410407693.6
申请日：2014-08-19
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供一种小型且低成本的输送装置及具有该输送装置的曝光装置，能够在长条状工件的输送路径的整体范围内施加适当的张力，能够在不使长条状工件弯曲行进的情况下对其进行输送，能够通过去除附着在长条状工件的表面的异物来防止曝光缺陷和显影缺陷。输送装置将架设于供给卷轴与卷取卷轴之间的长条状工件在其长度方向上进行输送，其特征在于，输送装置设置有浮动辊，浮动辊位于供给卷轴与卷取卷轴之间，随着长条状工件的输送进行升降，并对长条状工件施加张力，浮动辊在其外周面形成有异物去除单元，浮动辊在随着长条状工件的输送进行升降的同时，使异物去除单元与长条状工件的一个面接触并旋转，由此，对长条状工件的一个面进行清扫。
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公开(公告)号：CN101315523B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN200810099348.5
申请日：2008-05-21
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供一种绘图装置，使清洁滚轮接触工作台上的工件表面时，防止因为清洁滚轮接触工件而导致工件在工作台上偏离或剥离。在绘图工作台(13)表面形成的多个抽吸口通过抽吸管(V)分别由对应的抽吸泵(P)进行抽吸。利用压力传感器(S)检测该抽吸管内的真空度。绘图工作台驱动马达(18)可使绘图工作台往复移动于从待机位置至超过由绘图光学系统确定的绘图位置的位置。清洁单元上下移动驱动用气缸(43)使清洁滚轮(49)在机械手(15)及绘图光学系统之间相对于绘图工作台上下移动。控制部(6)只有在由压力传感器检测到的真空度超过特定值时，利用清洁单元上下移动驱动用气缸，使该清洁滚轮下降并接触绘图工作台，并在该状态下使绘图工作台移动。
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公开(公告)号：CN105467773B
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201510617271.6
申请日：2015-09-24
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 直接曝光装置，在将图案曝光于从供给卷轴送出并被卷绕到卷绕卷轴上的长条状工件的直接曝光装置中，能够在抑制曝光辊直径增大的同时，扩大曝光图像的焦点对准区，并使描绘图案的线条变细。该直接曝光装置具有：圆筒部件，其在上述供给卷轴与卷绕卷轴之间，在其周面的一定范围内保持长条状工件的同时进行旋转；引导构件，其在长条状工件从上述圆筒部件脱离的脱离位置处，沿与上述圆筒部件的轴垂直截面中的径向垂直的切线方向引导长条状工件；以及曝光构件，其在包含上述脱离位置的输送方向的前后一定范围内，对从上述圆筒部件脱离并沿上述切线方向延伸的长条状工件描绘图案。
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公开(公告)号：CN1912748A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN200610115461.9
申请日：2006-08-10
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 森田亮
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 提供了曝光装置及曝光方法，基板与光罩薄膜的精度由温度及湿度的调整作业调整为相同，可与输送通路的影响及曝光装置内部的环境的变化对应地调整，且即使在具备预校准部的曝光装置中，也可在适当的位置进行温度及湿度的检测与供给。一种曝光装置(1)包括曝光部(20，40)，对基板(W)进行曝光处理，该基板(W)由设置在与保持光罩薄膜(M)的晒图框对置的位置上的曝光台(21)搬运；预校准部(10)，配置于该曝光部的正前方，通过推动上述基板的端面的推动销移动部(14b)进行预先定位，曝光装置(1)由温度调整装置(61A)、湿度调整装置(65A)、基板温度湿度检测装置(16)、光罩温度湿度检测装置(24)以及温度湿度控制装置(82)构成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1257437C
公开(公告)日：2006-05-24
申请号：CN03156857.2
申请日：2003-09-10
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , G03B27/18 , H01L21/68 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70733 , G03F7/7035 , G03F7/70741
Abstract: 一种曝光设备，其包括：设置在加载/卸载位置与曝光位置之间处于不同高度的第一传送通道和第二传送通道；第一和第二工作台，其中之一设置在所述的加载/卸载位置，而另一个设置在所述的曝光位置；升降机构，其将所述第一和第二工作台的其中之一提升至所述的第一传送通道，并将所述第二和第一工作台中的另一个下降至所述的第二传送通道；和传送机构，其分别将所述的第一和第二工作台传送至所述的加载/卸载位置和曝光位置。所述的第一和第二工作台中的每一都具有其上设置有工件的载物台板和事先安装有掩模的透光板。
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公开(公告)号：CN105093861B
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：CN201510244466.0
申请日：2015-05-14
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 提供一种曝光装置，其是卷对卷方式的曝光装置，能够在长条工件上不产生划痕疵的情况下缩短生产节拍，并且所形成的图案的连接精度良好。所述曝光装置具有：曝光台(31)，其保持长条工件(W)；台移动部(32)，其使曝光台(31)往复移动；供给侧约束辊(15)，其设置在供给卷轴(11)的下游侧且曝光单元(51)的上游侧，约束长条工件(W)；以及卷绕侧约束辊(25)，其设置在曝光单元(51)的下游侧且卷绕卷轴(21)的上游侧，约束长条工件(W)，所述供给侧约束辊(15)和卷绕侧约束辊(25)中的至少一方具有辊驱动单元。
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公开(公告)号：CN1493925A
公开(公告)日：2004-05-05
申请号：CN03156857.2
申请日：2003-09-10
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , G03B27/18 , H01L21/68 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70733 , G03F7/7035 , G03F7/70741
Abstract: 一种曝光设备，其包括：设置在加载/卸载位置与曝光位置之间处于不同高度的第一传送通道和第二传送通道；第一和第二工作台，其中之一设置在所述的加载/卸载位置，而另一个设置在所述的曝光位置；升降机构，其将所述第一和第二工作台的其中之一提升至所述的第一传送通道，并将所述第二和第一工作台中的另一个下降至所述的第二传送通道；和传送机构，其分别将所述的第一和第二工作台传送至所述的加载/卸载位置和曝光位置。所述的第一和第二工作台中的每一都具有其上设置有工件的载物台板和事先安装有掩模的透光板。
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公开(公告)号：CN105467773A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201510617271.6
申请日：2015-09-24
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 直接曝光装置，在将图案曝光于从供给卷轴送出并被卷绕到卷绕卷轴上的长条状工件的直接曝光装置中，能够在抑制曝光辊直径增大的同时，扩大曝光图像的焦点对准区，并使描绘图案的线条变细。该直接曝光装置具有：圆筒部件，其在上述供给卷轴与卷绕卷轴之间，在其周面的一定范围内保持长条状工件的同时进行旋转；引导构件，其在长条状工件从上述圆筒部件脱离的脱离位置处，沿与上述圆筒部件的轴垂直截面中的径向垂直的切线方向引导长条状工件；以及曝光构件，其在包含上述脱离位置的输送方向的前后一定范围内，对从上述圆筒部件脱离并沿上述切线方向延伸的长条状工件描绘图案。
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公开(公告)号：CN100451842C
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200610115461.9
申请日：2006-08-10
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 森田亮
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 提供了曝光装置及曝光方法，基板与光罩薄膜的精度由温度及湿度的调整作业调整为相同，可与输送通路的影响及曝光装置内部的环境的变化对应地调整，且即使在具备预校准部的曝光装置中，也可在适当的位置进行温度及湿度的检测与供给。一种曝光装置(1)包括曝光部(20，40)，对基板(W)进行曝光处理，该基板(W)由设置在与保持光罩薄膜(M)的晒图框对置的位置上的曝光台(21)搬运；预校准部(10)，配置于该曝光部的正前方，通过推动上述基板的端面的推动销移动部(14b)进行预先定位，曝光装置(1)由温度调整装置(61A)、湿度调整装置(65A)、基板温度湿度检测装置(16)、光罩温度湿度检测装置(24)以及温度湿度控制装置(82)构成。
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