公开(公告)号：CN1284049C

公开(公告)日：2006-11-08

申请号：CN200410048823.8

申请日：2004-06-04

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 屋木康彦 ,  薮慎太郎 ,  氏益稔

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种曝光装置的曝光方法，能够通过短的步骤精度良好地进行基板与掩模的校准，并迅速地对基板整体进行曝光。其对具有校准标记的基板以及具有掩模标记并设有规定图案的掩模进行校准，在掩模密合于基板的状态下进行曝光，包括：以掩模标记为基础，求出掩模的一半区域以及整体的对角线彼此交叉所得到的分配点MA、MB的步骤；以校准标记为基础，求出基板的一半区域以及整体的对角线彼此交叉所得到的分配点WA、WB的步骤；对分配点MB与分配点WB进行比较的比较步骤；通过比较步骤，判断分配点WB相对于分配点MB是否在容许范围内的判断步骤；以及在判断步骤判断在容许范围内时，将曝光光线照射于上述基板整体的步骤。

公开(公告)号：CN100454146C

公开(公告)日：2009-01-21

申请号：CN200610007356.3

申请日：2004-06-04

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 屋木康彦 ,  薮慎太郎 ,  氏益稔

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H05K3/00

Abstract: 一种曝光装置，对基板与掩模进行校准，在将上述掩模密合于上述基板的状态下进行曝光，其中基板具有多个定位用的校准标记，掩模具有用来与上述校准标记对准位置的多个掩模标记并设有规定图案，曝光装置具有：以多个掩模标记为基础，求出掩模整个区域的对角线彼此交叉所得到的分配点MB的单元；以上述校准标记为基础，求出基板的整个区域的对角线彼此交叉所得到的分配点WB的单元；对掩模标记的分配点MB与校准标记的分配点WB进行比较的第一比较单元；根据第一比较单元的比较结果，判断上述校准标记的分配点WB相对于上述掩模标记的分配点MB是否在容许范围内的第一判断单元；在上述第一判断单元判断出在容许范围内时，将曝光光线照射于上述基板整体。

公开(公告)号：CN1573569A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410048823.8

申请日：2004-06-04

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 屋木康彦 ,  薮慎太郎 ,  氏益稔

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种曝光装置的曝光方法，能够通过短的步骤精度良好地进行基板与掩模的校准，并迅速地对基板整体进行曝光。其对具有校准标记的基板以及具有掩模标记并设有规定图案的掩模进行校准，在掩模密合于基板的状态下进行曝光，包括：以掩模标记为基础，求出掩模的一半区域以及整体的对角线彼此交叉所得到的分配点MA、MB的步骤；以校准标记为基础，求出基板的一半区域以及整体的对角线彼此交叉所得到的分配点WA、WB的步骤；对分配点MB与分配点WB进行比较的比较步骤；通过比较步骤，判断分配点WB相对于分配点MB是否在容许范围内的判断步骤；以及在判断步骤判断在容许范围内时，将曝光光线照射于上述基板整体的步骤。

公开(公告)号：CN1818794A

公开(公告)日：2006-08-16

申请号：CN200610007356.3

申请日：2004-06-04

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 屋木康彦 ,  薮慎太郎 ,  氏益稔

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H05K3/00

Abstract: 一种曝光装置，对基板与掩模进行校准，在将上述掩模密合于上述基板的状态下进行曝光，其中基板具有多个定位用的校准标记，掩模具有用来与上述校准标记对准位置的多个掩模标记并设有规定图案，曝光装置具有：以多个掩模标记为基础，求出掩模整个区域的对角线彼此交叉所得到的分配点MB的单元；以上述校准标记为基础，求出基板的整个区域的对角线彼此交叉所得到的分配点WB的单元；对掩模标记的分配点MB与校准标记的分配点WB进行比较的第一比较单元；根据第一比较单元的比较结果，判断上述校准标记的分配点WB相对于上述掩模标记的分配点MB是否在容许范围内的第一判断单元；在上述第一判断单元判断出在容许范围内时，将曝光光线照射于上述基板整体。