公开(公告)号：CN102216736B

公开(公告)日：2015-01-14

申请号：CN200980142382.9

申请日：2009-08-25

Applicant: 格拉斯哥大学理事会

Inventor： 乔纳森.M.R.韦弗 ,  菲利普.S.多布森 ,  戴维.P.伯特 ,  斯蒂芬.汤姆斯 ,  凯文.E.多彻蒂 ,  张瑗

IPC: G01D5/26 ,  G01D11/00

CPC classification number: G01D5/266 ,  G01D5/38 ,  G01D11/00 ,  G01J9/0246 ,  G01J2009/0234 ,  G01N21/45 ,  G03H1/0005

Abstract: 提供可见光干涉图案的各种使用。适当的干涉图案是通过来自孔的图案的衍射形成的那些。在此公开的典型使用涉及空间度量，例如平动的和/或角位置确定系统。进一步的使用包括分析光自身的属性(例如电磁辐射的波长的确定)。更进一步的使用包括分析光通过其中的物质的一个或多个属性(例如折射指数)。干涉图案的一部分在像素话的检测器例如CCD芯片上被俘获，并且俘获的图案与计算的图案相比较。最强处之间的间隔的非常精确的测量是可能的，从而允许在干涉图案中检测器的位置的非常精确的测量。

公开(公告)号：CN102216736A

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN200980142382.9

申请日：2009-08-25

Applicant: 格拉斯哥大学理事会

Inventor： 乔纳森.M.R.韦弗 ,  菲利普.S.多布森 ,  戴维.P.伯特 ,  斯蒂芬.汤姆斯 ,  凯文.E.多彻蒂 ,  张瑗

IPC: G01D5/26 ,  G01D11/00

CPC classification number: G01D5/266 ,  G01D5/38 ,  G01D11/00 ,  G01J9/0246 ,  G01J2009/0234 ,  G01N21/45 ,  G03H1/0005

Abstract: 提供可见光干涉图案的各种使用。适当的干涉图案是通过来自孔的图案的衍射形成的那些。在此公开的典型使用涉及空间度量，例如平动的和/或角位置确定系统。进一步的使用包括分析光自身的属性(例如电磁辐射的波长的确定)。更进一步的使用包括分析光通过其中的物质的一个或多个属性(例如折射指数)。干涉图案的一部分在像素话的检测器例如CCD芯片上被俘获，并且俘获的图案与计算的图案相比较。最强处之间的间隔的非常精确的测量是可能的，从而允许在干涉图案中检测器的位置的非常精确的测量。