公开(公告)号：CN103109344B

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201180034051.0

申请日：2011-07-08

Applicant: 欧瑞康先进科技股份公司

Inventor： H.罗尔曼 ,  M.杜布斯

IPC: H01J37/34

CPC classification number: C23C14/352 ,  H01J37/3408 ,  H01J37/3447 ,  H01J37/347

Abstract: 一种磁控管溅射设备，包括基板支承件(2)，其在真空室(1)内保持基板(3)，基板(3)具有将被涂覆的面朝上的平面基板表面(4)。基板(3)可以是例如200mm直径的圆盘。在与中心平面(5)一定距离处，两个长方形的标靶(7a,7b)被对称地布置，其朝向中心平面(5)倾斜，以便与由基板表面(4)所限定的平面围成8°与35°之间的锐角(β；-β)。具有等距的矩形准直器板的准直器(13)被布置在基板表面(4)的上方。利用此配置，涂层的高均匀性是可实现的，尤其是，在如果准直器(13)与基板表面(4)的距离被选择为准直器(13)垂直于所述表面的延伸的倍数n，优选n等于1或2的情况下，以用于抑制波纹。

公开(公告)号：CN105568242A

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201610136387.2

申请日：2010-04-23

Applicant: 欧瑞康先进科技股份公司

Inventor： M.杜布斯 ,  K.鲁姆 ,  H.罗尔曼

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/50 ,  H01J37/34

CPC classification number: C23C14/0036 ,  C23C14/0094 ,  C23C14/352 ,  C23C14/505 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3426 ,  H01J37/3438 ,  H01J37/3444

Abstract: 本申请涉及具有多个溅射源的反应溅射。用于通过反应溅射来涂覆衬底(14)的设备(1)包括轴(8)；关于所述轴(8)成对称布置的至少两个目标(11,12)，以及连接到目标(11,12)的电源，其中目标能交替地作为阴极和阳极工作。该方法为制造涂覆的衬底(14)的方法，其通过在包括轴(8)的设备(1)中进行反应溅射来涂覆衬底(14)。该方法包括：a)提供待涂覆的衬底(14)；b)提供关于所述轴(8)成对称布置的至少两个目标(11,12)；c)在涂覆期间交替地操作所述目标(11,12)作为阴极和阳极。优选地，在溅射期间旋转目标(11,12)和/或目标被同心地布置，且最内部的圆形目标被至少一个环形外部目标包围。