公开(公告)号：CN105474371A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201480047433.0

申请日：2014-06-27

Applicant: 法国圣戈班玻璃厂

Inventor： J.帕尔姆 ,  S.波尔纳 ,  T.哈普 ,  R.迪伊特米勒 ,  T.达里博 ,  S.乔斯特 ,  R.维马

IPC: H01L21/36 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L31/0749 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02425 ,  H01L21/02485 ,  H01L21/02491 ,  H01L21/02568 ,  H01L31/0336 ,  H01L31/0445 ,  H01L31/18

Abstract: 本发明涉及用于薄层太阳能电池的层系统，所述层系统包括用于吸收光的吸收层和布置在吸收层上的缓冲层，所述缓冲层包含NaxIny-x/3S，其中0.063≤x≤0.625并且0.681≤y≤1.50。

公开(公告)号：CN102762761A

公开(公告)日：2012-10-31

申请号：CN201180010767.7

申请日：2011-02-22

Applicant: 法国圣戈班玻璃厂

Inventor： J.帕尔姆 ,  S.波尔纳 ,  S.约斯特 ,  T.哈普

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/56 ,  C23C16/44 ,  C30B23/00 ,  C30B29/48 ,  C23C14/54

CPC classification number: H01L31/18 ,  C23C14/0617 ,  C23C14/0623 ,  C23C14/54 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4412 ,  C30B23/005 ,  C30B29/48

Abstract: 本发明涉及一种用于在物体(20)上沉积由至少两种成分制成的层的设备，其具有用于布置该物体的沉积室(11)，至少一个具有待沉积的材料的源(12)，以及至少一个用于控制沉积过程的装置(40)，该设备如此配置：使得可以在沉积到基材上之前，通过选择性结合特定量的所述至少一种成分来在待沉积的材料的气相中改变其至少一种成分的浓度，其中该至少一种成分的选择性结合的量可以通过改变至少一种控制参数来进行控制，该参数主动偶合到所述组分的结合率。此外，涉及一种用于在物体上沉积由至少两种成分制成的层的设备，其中用于控制沉积过程的装置具有由反应性材料制成的至少一个吸气元件，其中该反应性材料包括铜和/或钼。还涉及一种用于在物体上沉积由至少两种成分制成的层的方法，其中至少一种成分的选择性结合的量是通过改变用于控制沉积过程的装置的结合率来控制的。

公开(公告)号：CN102762761B

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：CN201180010767.7

申请日：2011-02-22

Applicant: 法国圣戈班玻璃厂

Inventor： J.帕尔姆 ,  S.波尔纳 ,  S.约斯特 ,  T.哈普

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/56 ,  C23C16/44 ,  C30B23/00 ,  C30B29/48 ,  C23C14/54

CPC classification number: H01L31/18 ,  C23C14/0617 ,  C23C14/0623 ,  C23C14/54 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4412 ,  C30B23/005 ,  C30B29/48

Abstract: 本发明涉及一种用于在物体(20)上沉积由至少两种成分制成的层的设备，其具有用于布置该物体的沉积室(11)，至少一个具有待沉积的材料的源(12)，以及至少一个用于控制沉积过程的装置(40)，该设备如此配置：使得可以在沉积到基材上之前，通过选择性结合特定量的所述至少一种成分来在待沉积的材料的气相中改变其至少一种成分的浓度，其中该至少一种成分的选择性结合的量可以通过改变至少一种控制参数来进行控制，该参数主动偶合到所述组分的结合率。此外，涉及一种用于在物体上沉积由至少两种成分制成的层的设备，其中用于控制沉积过程的装置具有由反应性材料制成的至少一个吸气元件，其中该反应性材料包括铜和/或钼。还涉及一种用于在物体上沉积由至少两种成分制成的层的方法，其中至少一种成分的选择性结合的量是通过改变用于控制沉积过程的装置的结合率来控制的。