公开(公告)号：CN104681450A

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：CN201510090062.0

申请日：2008-03-13

Applicant: 泰塞拉公司

Inventor： B·哈巴 ,  洼田与一 ,  姜泽圭 ,  J·M·帕克

IPC: H01L21/48 ,  H01L23/498 ,  H01L21/56 ,  H05K3/40

CPC classification number: H01L24/14 ,  H01L21/4828 ,  H01L21/4853 ,  H01L21/563 ,  H01L23/49811 ,  H01L24/11 ,  H01L2224/0554 ,  H01L2224/0557 ,  H01L2224/05571 ,  H01L2224/05573 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/73203 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01023 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01084 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/014 ,  H05K3/061 ,  H05K3/4007 ,  H05K2201/0367 ,  H05K2203/0369 ,  H05K2203/0597 ,  H05K2203/1476 ,  Y10T29/49126 ,  Y10T428/24174 ,  H01L2224/05599 ,  H01L2224/0555 ,  H01L2224/0556

Abstract: 一种方法包括：向加工过程中的衬底10施加最终耐蚀刻材料34，使得所述最终耐蚀刻材料34至少部分覆盖与所述衬底10一体并从所述衬底的表面18向上突出的第一微触点部分32；以及蚀刻所述衬底10的表面以便留下所述第一微触点部分32下方并与之一体的第二微触点部分36，所述最终耐蚀刻材料34至少部分保护所述第一微触点部分32在进一步蚀刻步骤中不被蚀刻。一种微电子单元，包括：衬底10，以及多个沿竖直方向从所述衬底10突出的微触点38，每个微触点38包括与所述衬底相邻的基部区域42和远离所述衬底的顶端区域32，每个微触点38具有水平尺度，所述水平尺度是所述基部区域42中竖直位置的第一函数，且是所述顶端区域32中竖直位置的第二函数。

公开(公告)号：CN101658078A

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：CN200880011888.1

申请日：2008-03-13

Applicant: 泰塞拉公司

Inventor： B·哈巴 ,  洼田与一 ,  姜泽圭 ,  J·M·帕克

IPC: H05K1/11 ,  H01L23/48

CPC classification number: H01L24/14 ,  H01L21/4828 ,  H01L21/4853 ,  H01L21/563 ,  H01L23/49811 ,  H01L24/11 ,  H01L2224/0554 ,  H01L2224/0557 ,  H01L2224/05571 ,  H01L2224/05573 ,  H01L2224/13099 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/73203 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01023 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01084 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/014 ,  H05K3/061 ,  H05K3/4007 ,  H05K2201/0367 ,  H05K2203/0369 ,  H05K2203/0597 ,  H05K2203/1476 ,  Y10T29/49126 ,  Y10T428/24174 ,  H01L2224/05599 ,  H01L2224/0555 ,  H01L2224/0556

Abstract: 一种方法包括：向加工过程中的衬底10施加最终耐蚀刻材料34，使得所述最终耐蚀刻材料34至少部分覆盖与所述衬底10一体并从所述衬底的表面18向上突出的第一微触点部分32；以及蚀刻所述衬底10的表面以便留下所述第一微触点部分32下方并与之一体的第二微触点部分36，所述最终耐蚀刻材料34至少部分保护所述第一微触点部分32在进一步蚀刻步骤中不被蚀刻。一种微电子单元，包括：衬底10，以及多个沿竖直方向从所述衬底10突出的微触点38，每个微触点38包括与所述衬底相邻的基部区域42和远离所述衬底的顶端区域32，每个微触点38具有水平尺度，所述水平尺度是所述基部区域42中竖直位置的第一函数，且是所述顶端区域32中竖直位置的第二函数。