半导体装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106067794B

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN201610252147.9

    申请日:2016-04-21

    Abstract: 一种半导体装置,提高半导体装置的性能。半导体装置具备具有栅电极(3g)、源电极(3s)以及漏电极(3d)的常开型的结型FET(3)和具有栅电极(4g)、源电极(4s)以及漏电极(4d)的常闭型的MOSFET(4)。结型FET(3)的源电极(3s)与MOSFET(4)的漏电极(4d)进行电连接,从而结型FET(3)与MOSFET(4)串联地连接。结型FET(3)的栅电极(3g)与MOSFET(4)的栅电极(4g)进行电连接。

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