半导体器件
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105762145B

    公开(公告)日:2019-05-07

    申请号:CN201610127875.7

    申请日:2009-06-10

    Abstract: 本发明提供一种半导体器件。在半导体器件(SM1)的封装(PA)内包装了形成有功率金氧半场效晶体管的半导体芯片(4PH,4PL)、和形成有控制其动作的控制电路的半导体芯片(4D),半导体芯片(4PH,4PL,4D)各自被搭载在印模焊垫(7D1,7D2,7D3)上。高边的半导体芯片(4PH)的源电极用的接合焊垫(12S1,12S2),经由金属板(8A)与印模焊垫(7D2)电连接。在印模焊垫(7D2)的上表面设有形成于搭载了半导体芯片(4PL)的区域的电镀层(9b)、以及形成于接合有金属板(8A)的区域的电镀层(9c),电镀层(9b)和电镀层(9c)经由未形成有电镀层的区域被隔开。本发明可提高半导体器件的可靠性。

    半导体器件及其制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108807323A

    公开(公告)日:2018-11-13

    申请号:CN201810226534.4

    申请日:2018-03-19

    Abstract: 本发明提供半导体器件及其制造方法,能提高半导体器件的性能。一实施方式的半导体器件具有导线(12),其在形成于半导体芯片的绝缘膜上的开口部(13H1)处,在一个接合面(SEt1)的多个部位接合。另外,半导体器件具有以与接合面(SEt1)接触的方式封固上述半导体芯片及导线(12)的封固体。接合面(SEt1)具有供导线(12)的接合部(12B1)接合的区域(SER1)、供导线(12)的接合部(12B2)接合的区域(SER2)、以及位于区域(SER1)与区域(SER2)之间的区域(SER3)。区域(SER3)的宽度(WH3)比区域(SER1)的宽度(WH1)及区域(SER2)的宽度(WH2)小。

    半导体装置
    6.
    发明公开
    半导体装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN112768414A

    公开(公告)日:2021-05-07

    申请号:CN202011126718.7

    申请日:2020-10-20

    Abstract: 本公开的各实施例涉及半导体装置。一种半导体装置包括:半导体芯片,该半导体芯片包括用于进行开关的场效应晶体管;裸片焊盘,半导体芯片经由第一键合材料被安装在该裸片焊盘上;引线,该引线通过金属板电连接到用于半导体芯片的源极的焊盘;引线耦合部,与引线一体地形成;以及用于密封它们的密封部。用于半导体芯片的漏极的背表面电极与裸片焊盘经由第一键合材料键合,金属板与用于半导体芯片的源极的焊盘经由第二键合材料键合,并且金属板与所引线耦合部经由第三键合材料键合。第一键合材料、第二键合材料和第三键合材料具有导电性,并且第一键合材料和第二键合材料中的每一项的弹性模量低于第三键合材料的弹性模量。

    半导体器件
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105470226B

    公开(公告)日:2020-05-19

    申请号:CN201510632177.8

    申请日:2015-09-29

    Abstract: 本发明提供一种半导体器件,其目的在于,抑制半导体器件的可靠性降低。半导体器件具有:形成在陶瓷衬底(CS1)上的多个金属图案(MP);和搭载在多个金属图案(MP)中的一部分上的半导体芯片(CP)。另外,在多个金属图案(MP)的周缘部形成有多个凹部(DP)。另外,在多个金属图案(MP)中的与半导体芯片(CP)重叠的区域不形成多个凹部(DP)。另外,在多个金属图案(MP)中的、配置在最靠近陶瓷衬底(CS1)的上表面(CSt)的周缘部的位置的多个金属图案(MPT)上设置有多个凹部(DP)。

    半导体装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105679728B

    公开(公告)日:2019-08-13

    申请号:CN201510876267.1

    申请日:2015-12-03

    Abstract: 本发明涉及半导体装置,提高半导体装置的放热特性。例如,半导体装置(PKG1)具有与搭载了成为热源的半导体芯片(CHP1)的芯片搭载部(TAB1)的第2部分(P2)连接的引线(LD1A(P2))以及与搭载了成为热源的半导体芯片(CHP1)的芯片搭载部(TAB1)的第3部分(P3)连接的引线(LD1A(P3))。并且,引线(LD1A(P2))与引线(LD1A(P3))分别具有从密封体(MR)突出的突出部分。由此,能够提高半导体装置(PKG1)的放热特性。

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