Patent search ap:("皮尔茨公司") AND inv:"乔尔·里特" Page 1

1.

发明公开
杂散光减少的光学装置及其制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN119471943A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202411083198.4

申请日：2024-08-08

Applicant: 皮尔茨公司

Inventor： 丹尼尔·安比尔 , 多米尼克·古尔迪曼 , 苏珊娜·科涅奇纳 , 谢尔吉耶·马伊洛 , 乔尔·里特 , 马丁·文德勒

IPC: G02B7/02 , G02B1/04

Abstract: 本发明涉及杂散光减少的光学装置及其制造方法。该光学装置包括：由第一材料制成的光束成形元件，其具有彼此相对的基部表面和顶表面，并且具有将基部表面和顶表面彼此连接的周围侧表面；以及由第二材料制成的支撑体，其形成有用于光束成形元件的容器并且具有与光束成形元件的侧表面的至少一个公共接触表面。在光束成形元件与支撑体之间的接触表面处，第一材料和第二材料彼此直接接触。第一材料可透过限定的电磁辐射，第二材料可吸收限定的电磁辐射。此外，第一材料和第二材料相对于限定的电磁辐射各自具有限定折射率。第二材料的限定折射率被设置为与第一材料的限定折射率成限定比率，以便为接触表面处的限定的电磁辐射设置特定的转变特性。

Patent Agency Ranking