杂散光减少的光学装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN119471943A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202411083198.4

    申请日:2024-08-08

    Abstract: 本发明涉及杂散光减少的光学装置及其制造方法。该光学装置包括:由第一材料制成的光束成形元件,其具有彼此相对的基部表面和顶表面,并且具有将基部表面和顶表面彼此连接的周围侧表面;以及由第二材料制成的支撑体,其形成有用于光束成形元件的容器并且具有与光束成形元件的侧表面的至少一个公共接触表面。在光束成形元件与支撑体之间的接触表面处,第一材料和第二材料彼此直接接触。第一材料可透过限定的电磁辐射,第二材料可吸收限定的电磁辐射。此外,第一材料和第二材料相对于限定的电磁辐射各自具有限定折射率。第二材料的限定折射率被设置为与第一材料的限定折射率成限定比率,以便为接触表面处的限定的电磁辐射设置特定的转变特性。

    用于识别相机图像中的投影结构图案的结构元素的方法和设备

    公开(公告)号:CN107077729B

    公开(公告)日:2021-02-09

    申请号:CN201580049754.9

    申请日:2015-08-10

    Abstract: 在用于识别相机图像中的投影到场景(14)上的结构图案(16)的各个结构元素(12)的方法中,使用投影仪(36)将结构图案(16)投影到场景(14)上,并且使用第一相机(M)和至少一个第二相机(H,V)来拾取投影到场景(14)上的结构图案(16)。第一相机(M)和至少一个第二相机(H,V)被定位成彼此相距一定距离,并且投影仪(36)被定位成在距第一相机(M)和距至少一个第二相机(H,V)一定距离处且在第一相机和至少一个第二相机(M,H,V)的直线连接线(26,28)之外。对于第一相机(M)的相机图像中要识别的结构元素(12),通过下述校准数据来确定至少一个第二相机(V,H)的相机图像中的可以与第一相机(M)的相机图像中要识别的结构元素(12)一对一关联的结构元素(12):所述校准数据针对各个结构元素(12)在各自情况下具有第一参数和至少第二参数的组合,第一参数使相应结构元素(12)与第一相机(M)和投影仪(36)的位置和定向相关,至少第二参数使相应结构元素(12)与至少一个第二相机(H,V)和投影仪(36)的位置和定向相关,所述校准数据通过使用第一相机和至少一个第二相机(M,H,V)记录由投影仪(36)投影的结构图案(16)的校准图像(76,78)来获得。

    用于识别相机图像中的投影结构图案的结构元素的方法和设备

    公开(公告)号:CN107077729A

    公开(公告)日:2017-08-18

    申请号:CN201580049754.9

    申请日:2015-08-10

    Abstract: 在用于识别相机图像中的投影到场景(14)上的结构图案(16)的各个结构元素(12)的方法中,使用投影仪(36)将结构图案(16)投影到场景(14)上,并且使用第一相机(M)和至少一个第二相机(H,V)来拾取投影到场景(14)上的结构图案(16)。第一相机(M)和至少一个第二相机(H,V)被定位成彼此相距一定距离,并且投影仪(36)被定位成在距第一相机(M)和距至少一个第二相机(H,V)一定距离处且在第一相机和至少一个第二相机(M,H,V)的直线连接线(26,28)之外。对于第一相机(M)的相机图像中要识别的结构元素(12),通过下述校准数据来确定至少一个第二相机(V,H)的相机图像中的可以与第一相机(M)的相机图像中要识别的结构元素(12)一对一关联的结构元素(12):所述校准数据针对各个结构元素(12)在各自情况下具有第一参数和至少第二参数的组合,第一参数使相应结构元素(12)与第一相机(M)和投影仪(36)的位置和定向相关,至少第二参数使相应结构元素(12)与至少一个第二相机(H,V)和投影仪(36)的位置和定向相关,所述校准数据通过使用第一相机和至少一个第二相机(M,H,V)记录由投影仪(36)投影的结构图案(16)的校准图像(76,78)来获得。

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