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公开(公告)号：CN103261885A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201180061112.2
申请日：2011-12-13
Applicant: 硅电子股份公司
CPC classification number: G01N29/02 , B08B3/12 , H01L21/02052 , H01L21/67057 , H01L21/67253 , Y10T436/17 , Y10T436/176152 , Y10T436/20 , Y10T436/207497 , Y10T436/209163
Abstract: 本发明提供能够在无需复杂操作且降低成本的情况下实时精确监测清洁液的溶解氮浓度的溶解氮浓度监测方法。利用溶解氧浓度计43测量超声波照射期间的溶解氧浓度DO2。通过由测得的溶解氧浓度DO2减去初始溶解氧浓度D0计算溶解氧浓度增加量ΔDO2。然后，由储存部分46读出对应于特定的溢流率或超声波输出功率水平的近似式，并将由储存部分46读出的近似式用于由溶解氧浓度增加量ΔDO2计算混合的超纯水的溶解氮浓度DN2。
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公开(公告)号：CN103223406B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201310031343.X
申请日：2013-01-28
Applicant: 硅电子股份公司
Abstract: 本申请提供了一种允许待清洗物体不具有未直接暴露给超声波的区域的清洗装置、仪器和方法。解决手段是一种清洗装置1包括清洗槽2、耦合槽3、超声波产生单元6和变更单元7。清洗槽2保持用于清洗作为待清洗物体的基板10的清洗液4。耦合槽3保持中间介质5，并且清洗槽2具有与中间介质5接触的部分。超声波产生单元6设置在耦合槽3处，并且经由中间介质5超声振荡清洗液4。变更单元7变更清洗液4中的声速和中间介质5中的声速之间的差别。
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公开(公告)号：CN103223406A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201310031343.X
申请日：2013-01-28
Applicant: 硅电子股份公司
Abstract: 本申请提供了一种允许待清洗物体不具有未直接暴露给超声波的区域的清洗装置、仪器和方法。解决手段是一种清洗装置1包括清洗槽2、耦合槽3、超声波产生单元6和变更单元7。清洗槽2保持用于清洗作为待清洗物体的基板10的清洗液4。耦合槽3保持中间介质5，并且清洗槽2具有与中间介质5接触的部分。超声波产生单元6设置在耦合槽3处，并且经由中间介质5超声振荡清洗液4。变更单元7变更清洗液4中的声速和中间介质5中的声速之间的差别。
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公开(公告)号：CN103261885B
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201180061112.2
申请日：2011-12-13
Applicant: 硅电子股份公司
CPC classification number: G01N29/02 , B08B3/12 , H01L21/02052 , H01L21/67057 , H01L21/67253 , Y10T436/17 , Y10T436/176152 , Y10T436/20 , Y10T436/207497 , Y10T436/209163
Abstract: 本发明提供能够在无需复杂操作且降低成本的情况下实时精确监测清洁液的溶解氮浓度的溶解氮浓度监测方法。利用溶解氧浓度计43测量超声波照射期间的溶解氧浓度DO2。通过由测得的溶解氧浓度DO2减去初始溶解氧浓度D0计算溶解氧浓度增加量ΔDO2。然后，由储存部分46读出对应于特定的溢流率或超声波输出功率水平的近似式，并将由储存部分46读出的近似式用于由溶解氧浓度增加量ΔDO2计算混合的超纯水的溶解氮浓度DN2。
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公开(公告)号：CN103094146B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201210433444.5
申请日：2012-11-02
Applicant: 硅电子股份公司
CPC classification number: G01N21/274 , G01N21/70 , G01N21/71 , G01N29/2418 , G01N2021/8416
Abstract: 本发明提供能够有效且稳定地清洁基材的清洁设备，用于校正在该清洁设备中使用的溶解的气体的浓度的测量装置的方法，以及用于测量溶解的气体的浓度的测量方法。根据本发明的校正方法是用于校正用于测量在液体中溶解的气体的浓度的测量装置的校正方法。在该校正方法中，实施改变液体中溶解的气体的浓度并预先确定在用超声波照射液体时发生的发光的强度显示出峰的气体的浓度作为参考浓度的步骤（S10）。然后，实施通过用超声波照射液体同时改变液体中的气体的浓度使发光的强度显示出峰时利用待校正的测量装置测量液体中气体的浓度以确定气体的浓度的测量值的步骤（S20）。实施基于测量值和参考浓度校正待校正的测量装置的步骤（S30）。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103170476B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201210574090.6
申请日：2012-12-26
Applicant: 硅电子股份公司
IPC: B08B3/12
CPC classification number: B08B3/12 , B06B2201/71 , H01L21/02052 , H01L21/67057
Abstract: 本发明提供能够在稳定的情况下实现高的颗粒去除效率的超声波清洁法。该超声波清洁法用于用超声波照射具有溶解在其中的气体的溶液以对有待在所述溶液中清洁的物品进行清洁。所述方法包括以下步骤。用超声波照射具有第一溶解的气体的浓度的所述溶液。在用超声波照射所述溶液的状态下，将所述溶液中的溶解的气体的浓度从所述第一溶解的气体的浓度改变至低于所述第一溶解的气体的浓度的第二溶解的气体的浓度。通过用超声波照射所述溶液发生声致发光，同时将所述溶液中的所述溶解的气体的浓度从所述第一溶解的气体的浓度改变至所述第二溶解的气体的浓度。
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公开(公告)号：CN103223405A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201310020562.8
申请日：2013-01-21
Applicant: 硅电子股份公司
CPC classification number: B08B3/12
Abstract: 本发明的目的是提供一种清洗方法，其中可改进去除特定尺寸的杂质的效率。因此本发明提供一种清洗方法，其包括以下步骤：准备清洗液(S10)，和通过在用超声波辐射清洗液的情况下将要清洗的物体浸入清洗液中来清洗要清洗的物体(S20)。在清洗步骤(S20)中，已根据要以最大去除效率从要清洗的物体中去除的杂质的尺寸调整了所述清洗液中的溶解氮浓度。如此可通过根据要去除的杂质的尺寸改变清洗液中的溶解氮浓度有效地去除特定尺寸的杂质。
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公开(公告)号：CN103170476A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201210574090.6
申请日：2012-12-26
Applicant: 硅电子股份公司
IPC: B08B3/12
CPC classification number: B08B3/12 , B06B2201/71 , H01L21/02052 , H01L21/67057
Abstract: 本发明提供能够在稳定的情况下实现高的颗粒去除效率的超声波清洁法。该超声波清洁法用于用超声波照射具有溶解在其中的气体的溶液以对有待在所述溶液中清洁的物品进行清洁。所述方法包括以下步骤。用超声波照射具有第一溶解的气体的浓度的所述溶液。在用超声波照射所述溶液的状态下，将所述溶液中的溶解的气体的浓度从所述第一溶解的气体的浓度改变至低于所述第一溶解的气体的浓度的第二溶解的气体的浓度。通过用超声波照射所述溶液发生声致发光，同时将所述溶液中的所述溶解的气体的浓度从所述第一溶解的气体的浓度改变至所述第二溶解的气体的浓度。
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公开(公告)号：CN103418575A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201310193863.0
申请日：2013-05-22
Applicant: 硅电子股份公司
IPC: B08B3/12
CPC classification number: H01L21/02052 , B08B3/12
Abstract: 本发明的主题是提供能够以稳定的方式得到高的颗粒去除率的超声清洁方法和超声清洁装置。解决问题的方法是一种超声清洁方法，用于在溶解有气体的液体中清洁待清洁的物体，所述方法用超声波辐照所述液体，并包括以下步骤：制备溶解有气体的液体(S10)。在施加超声波于液体的同时清洁待清洁的物体，以使相对于没有施加超声波的情况，其中溶解有气体的液体其折射率的空间变化率更大的区域出现在沿超声波行进的方向(S40)。
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公开(公告)号：CN103418574A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201310189030.7
申请日：2013-05-21
Applicant: 硅电子股份公司
CPC classification number: H01L21/67057 , B08B3/12
Abstract: 本发明的主题提供了能够以稳定的方式得到高的颗粒去除率的超声清洁方法和超声清洁装置。解决问题的方法是一种超声清洁方法，用于在溶解有气体的液体中清洁待清洁的物体，所述方法用超声波辐照所述液体，并包括以下步骤：制备溶解有气体的液体(S10)。用超声波辐照液体的同时搅拌液体，实现含有溶解在液体中的气体的气泡连续产生的状态(S20)。待清洁的物体在含有气体的气泡连续产生的状态中被清洁(S30)。
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