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公开(公告)号：CN103874550B
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201280039420.X
申请日：2012-12-13
Applicant: 株式会社海上
IPC: B08B3/12 , H01L21/304
CPC classification number: B08B3/12 , B06B1/0253 , B06B2201/71
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够进一步提高功率管理的可靠性的超声波清洗装置。为此，超声波清洗装置具备被清洗物(11)、清洗液(12)、超声波振子(13)、振荡器(14)、电源部(16)以及功率计(15)，振荡器(14)具有：振荡部(17)；控制部(18)，其进行控制以使得由振荡部(17)振荡产生的第1功率变为设定功率值并向超声波振子输出；检测部(19)，其检测由控制部(18)向超声波振子(13)输出的第2功率；和运算部(20)，运算部(20)具有如下功能：导出利用校正值α对第1检测功率值进行了校正的第1校正功率值，导出利用校正值β对由功率计(15)测定的测定功率值进行了校正的第2校正功率值，在第1校正功率值偏离了第2校正功率值规定值以上的情况下，将对校正值α进行了修正以使得第1校正功率值变为第2校正功率值的修正校正值α’记录到记录部(21)。
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公开(公告)号：CN1264828A
公开(公告)日：2000-08-30
申请号：CN00102720.4
申请日：2000-02-21
Applicant: LG电子株式会社
Inventor： 白承泽
CPC classification number: D06F37/203 , B06B1/045 , B06B2201/71 , G01H11/02
Abstract: 公开一种振动检测装置,包括:一绕线管,具有沿绕线管内周缘的预定长度的运动路径;一芯,随着外部施加的振动或施加到绕线管上的振动而能沿着上述运动路径运动;以及缠绕在绕线管外周缘的线圈,其感应系数随着芯的移动而变化。
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公开(公告)号：CN106660237A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201480079429.2
申请日：2014-09-09
Applicant: 苍的星超声波技术有限公司
Inventor： 柴野佳英
CPC classification number: B29C37/02 , B06B1/0269 , B06B2201/71 , B08B3/12 , B29C35/0261
Abstract: 【课题】本发明的超声波去毛刺装置，在通过向去毛刺清洗水中发射超声波而从模制品上除去毛刺时，能够更进一步提高通过超声波而产生的空穴的冲击力，从而能够有效地除去毛刺；【解决方法】在通过发射超声波而除去模制品的毛刺的超声波去毛刺装置中，在将超声波频率的波的波长设为λmm时，将清洗水储存槽(2)的深度设为1.25λmm，将配置于清洗水储存槽(2)的底面侧的超声波发射机构(6)的频域设为18KHz～28KHz、功率密度设为2W/cm2以上，并设置使浸泡在清洗水中的模制品沿上下方向以至少1/2λmm的行程上下运动的摆动机构(9)；另外，将清洗水的溶氧量设为1mg/L以下，并将去毛刺清洗水的水温设为4℃～8℃。
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公开(公告)号：CN100401479C
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200380110213.X
申请日：2003-12-23
Applicant: 兰姆研究有限公司
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B3/12 , B06B1/0253 , B06B2201/71 , B08B3/10 , H01L21/67057 , H01L21/67253
Abstract: 一个用于清洗基片(202)的系统及其方法，包括一个包括换能器(210)和基片(202)在内的兆频超声波室(206)。换能器(210)面向基片(202)。一个可变的距离d分隔换能器(210)和基片(202)。该系统(200)还包括一个动态可调的射频发生器(212)，其具有一个耦合到换能器的输出端。动态可调的射频发生器(212)可以通过比较振荡器输出端(306)的电压的相位和射频发生器输出端电压的相位来控制。动态可调的射频发生器(212)还可以通过监控输出信号的峰值电压和控制射频发生器而把峰值电压保持在预定的电压范围内来控制。动态可调的射频发生器(212)还可以通过动态地控制可变的直流电源电压来控制。
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公开(公告)号：CN1132005C
公开(公告)日：2003-12-24
申请号：CN00102720.4
申请日：2000-02-21
Applicant: LG电子株式会社
Inventor： 白承泽
CPC classification number: D06F37/203 , B06B1/045 , B06B2201/71 , G01H11/02
Abstract: 公开一种振动检测装置，包括：一绕线管，具有沿绕线管内周缘的预定长度的运动路径；一芯，随着外部运动所施加的振动或施加到绕线管上的振动而能沿着上述运动路径运动；以及缠绕在绕线管外周缘的线圈，其感应系数随着芯的移动而变化，其中所述线圈以这样一种方式缠绕在绕线管外周缘，即，至少在绕线管的预定长度上各部分的绕数是变化的，使得感应系数的变化依赖于线圈的绕数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106794393A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201580053113.0
申请日：2015-09-30
Applicant: 弗洛设计声能学公司
Inventor： 巴特·利普肯斯 , 杰夫·金 , 大卫·索科洛夫斯基 , 安东尼·B·玛斯 , 布莱恩·T·肯尼迪 , 布莱恩·麦卡西 , 本杰明·罗斯-约翰斯路德 , 杰森·迪翁 , 戴恩·米利 , 杰森·巴恩斯
CPC classification number: B01D21/283 , B01D17/044 , B01D17/06 , B01D19/0078 , B06B1/06 , B06B1/0622 , B06B1/0644 , B06B2201/71 , C12M47/04 , C12N13/00
Abstract: 本发明公开了用于从非流动主流体中分离颗粒的声泳装置。该装置包括分离单元和充分透声的容器，其中容器被放置在分离单元内。分离单元中的超声换能器在容器内产生平面声学驻波或多维声学驻波，捕获分布在非流动流体内的颗粒，并使它们聚结或聚集，然后因浮力或重力而分离。
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公开(公告)号：CN106345754A
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201610975117.0
申请日：2016-10-27
Applicant: 广西上上糖业有限公司
CPC classification number: B08B7/02 , B06B1/186 , B06B2201/71 , B08B9/0804 , C13B50/006
Abstract: 一种间歇式分蜜机清洗振动器，所述间歇式分蜜机清洗振动器包括：振动发生装置和挡糖圆筒，所述振动发生装置包括振动单元、振动空间、振动单元驱动装置和振动基座，所述振动单元位于振动空间内，所述振动单元驱动装置连接于振动空间并能够驱动振动单元运动，所述振动空间位于振动基座内，所述振动基座固定于挡糖圆筒的侧壁上。本发明所述的间歇式分蜜机清洗振动器能够有效的清理分蜜机下部的挡糖圆筒。
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公开(公告)号：CN101052478B
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200580034591.3
申请日：2005-10-06
Applicant: 株式会社日立工业设备技术 , 国立大学法人东京大学
CPC classification number: B08B3/12 , B06B2201/71 , B08B3/02 , B08B2203/0288 , G10K11/352
Abstract: 一种超声波清洗装置，其利用施加了超声波的清洗液对被清洗物的表面附着的污渍进行超声波清洗，其特征在于，包括：清洗槽，其贮存所述清洗液；支承台，其在所述清洗液中支承所述被清洗物；超声波产生机构，其朝向所述被清洗物交替会聚频率1～10MHz的第一超声波、和频率在该第一超声波的二分之一以下的第二超声波；会聚位置调节机构，其调节从所述会聚的会聚位置到所述被清洗物的表面的距离；以及移动机构，其使所述超声波产生机构以及所述支承台的至少一个移动，使得由所述超声波产生机构所产生的超声波的效力充分遍及所述被清洗物的表面。
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公开(公告)号：CN101052478A
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200580034591.3
申请日：2005-10-06
Applicant: 株式会社日立工业设备技术 , 国立大学法人东京大学
CPC classification number: B08B3/12 , B06B2201/71 , B08B3/02 , B08B2203/0288 , G10K11/352
Abstract: 一种超声波清洗装置，其利用施加了超声波的清洗液对被清洗物的表面附着的污渍进行超声波清洗，其特征在于，包括：清洗槽，其贮存所述清洗液；支承台，其在所述清洗液中支承所述被清洗物；超声波产生机构，其朝向所述被清洗物交替会聚频率1～10MHz的第一超声波、和频率在该第一超声波的二分之一以下的第二超声波；会聚位置调节机构，其调节从所述会聚的会聚位置到所述被清洗物的表面的距离；以及移动机构，其使所述超声波产生机构以及所述支承台的至少一个移动，使得由所述超声波产生机构所产生的超声波的效力充分遍及所述被清洗物的表面。
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公开(公告)号：CN1759471A
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN200380110213.X
申请日：2003-12-23
Applicant: 兰姆研究有限公司
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B3/12 , B06B1/0253 , B06B2201/71 , B08B3/10 , H01L21/67057 , H01L21/67253
Abstract: 一个用于清洗基片(202)的系统及其方法，包括一个包括换能器(210)和基片(202)在内的兆频超声波室(206)。换能器(210)面向基片(202)。一个可变的距离d分隔换能器(210)和基片(202)。该系统(200)还包括一个动态可调的射频发生器(212)，其具有一个耦合到换能器的输出端。动态可调的射频发生器(212)可以通过比较振荡器输出端(306)的电压的相位和射频发生器输出端电压的相位来控制。动态可调的射频发生器(212)还可以通过监控输出信号的峰值电压和控制射频发生器而把峰值电压保持在预定的电压范围内来控制。动态可调的射频发生器(212)还可以通过动态地控制可变的直流电源电压来控制。
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