-
公开(公告)号：CN104250228B
公开(公告)日：2019-05-10
申请号：CN201410163675.8
申请日：2014-04-22
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: C07D215/14 , C07D311/58 , C07D409/14 , C07D405/10 , C07D333/16 , C07C37/00 , C07C39/17 , C07C39/225 , C07C29/143 , C07C35/21 , C07C213/02 , C07C217/58 , C07C253/30 , C07C255/53 , C07C17/16 , C07C22/04 , C07C319/12 , C07C323/19 , H01L21/027
Abstract: 本发明公开了一种由以下化学式1表示的用于硬掩膜组合物的单体、包括该单体的硬掩膜组合物、以及使用该硬掩膜组合物形成图案的方法。在以下化学式1中，A、A'、A″、L、L'、X、X'、m、和n与在具体实施方式中的定义相同。[化学式1]
-
公开(公告)号：CN104823106B
公开(公告)日：2020-12-22
申请号：CN201380059123.6
申请日：2013-10-02
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: C07C65/40 , G03F7/16 , G03F7/11 , G03F7/40 , G03F7/004 , C07C63/26 , G03F7/075 , G03F7/09 , C07C65/32 , G03F7/26 , C07C63/15 , C07C65/34 , G03F1/00 , G03F7/30 , G03F7/36
Abstract: 本发明是关于一种由化学式1表示的用于硬掩膜组合物的单体、一种含有单体的硬掩膜组合物、以及一种使用硬掩膜组合物的图案形成方法。在上述的化学式1中，A、A′、L、L′、X以及n与说明书中所定义的相同。所述用于硬掩膜组合物的单体具有优良的抗化学性以及抗蚀刻性，不会产生逸出气体。
-
公开(公告)号：CN104250228A
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201410163675.8
申请日：2014-04-22
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: C07D215/14 , C07D311/58 , C07D409/14 , C07D405/10 , C07D333/16 , C07C37/00 , C07C39/17 , C07C39/225 , C07C29/143 , C07C35/21 , C07C213/02 , C07C217/58 , C07C253/30 , C07C255/53 , C07C17/16 , C07C22/04 , C07C319/12 , C07C323/19 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/40 , C07C22/04 , C07C39/12 , C07C39/225 , C07C217/58 , C07C255/53 , C07C323/19 , C07C2601/14 , C07C2603/50 , C07C2603/52 , C07C2603/54 , C07D215/14 , C07D311/58 , C07D333/16 , C07D333/50 , G03F7/09 , G03F7/094 , C07C35/21 , C07C39/17 , C07D405/10 , C07D409/14 , G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种由以下化学式1表示的用于硬掩膜组合物的单体、包括该单体的硬掩膜组合物、以及使用该硬掩膜组合物形成图案的方法。在以下化学式1中，A、A'、A″、L、L'、X、X'、m、和n与在具体实施方式中的定义相同。[化学式1]
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101462956A
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200810184083.9
申请日：2008-12-17
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: C07C69/54 , C08F222/14 , C08F220/18 , G03F7/028
CPC classification number: C07C69/54 , C07C2603/24 , C07C2603/26 , C07C2603/50 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及具有对酸不稳定芳族基团的(甲基)丙烯酸酯、光敏聚合物、以及包括其的光刻胶组合物。所述(甲基)丙烯酸酯由右列式1表示，在式1中，每个取代基具有与说明书中相同的定义。具有对酸不稳定芳族基团的(甲基)丙烯酸酯在酸催化剂存在下易于分解，并且能够提供对于下层具有优异的粘合性能和在光刻印刷过程中的干法蚀刻抗性的光敏聚合物。
-
公开(公告)号：CN104253024B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201410063061.2
申请日：2014-02-24
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/02 , H01L21/311 , C08G61/02
CPC classification number: G03F7/094 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/30 , G03F7/36 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开了硬掩模组合物、使用其形成图案的方法以及包括该图案的半导体集成电路装置，其中该硬掩模组合物包括由以下化学式1表示的单体、包含由以下化学式2表示的部分的聚合物、包含由以下化学式3表示的部分的聚合物、或者它们的组合，以及溶剂。在以下化学式1至3中，A、A′、A″、L、L′、X、X′、m、n、Ar、B、Xa以及Xb与具体实施方式中限定的相同。[化学式1][化学式2][化学式3]
-
公开(公告)号：CN104253024A
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201410063061.2
申请日：2014-02-24
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/02 , H01L21/311 , C08G61/02
CPC classification number: G03F7/094 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/30 , G03F7/36 , G03F7/40 , G03F7/092 , C08G61/02 , C08G2261/314 , G03F7/00 , H01L21/0271
Abstract: 本发明公开了硬掩模组合物、使用其形成图案的方法以及包括该图案的半导体集成电路装置，其中该硬掩模组合物包括由以下化学式1表示的单体、包含由以下化学式2表示的部分的聚合物、包含由以下化学式3表示的部分的聚合物、或者它们的组合，以及溶剂。在以下化学式1至3中，A、A′、A″、L、L′、X、X′、m、n、Ar、B、Xa以及Xb与具体实施方式中限定的相同。[化学式1][化学式2][化学式3]
-
-
公开(公告)号：CN101462957A
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200810184087.7
申请日：2008-12-17
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: C07C69/54 , C08F220/18 , C08F222/14 , C08F220/30 , G03F7/028
CPC classification number: C07C69/54 , C07C2603/24 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及一种芳族(甲基)丙烯酸酯化合物和一种光敏聚合物、以及一种抗蚀剂组合物。芳族(甲基)丙烯酸酯化合物是由右边化学式1表示的具有α－羟基的芳族(甲基)丙烯酸酯。在右边化学式1中，每种取代基与在说明书中的限定相同。本发明的芳族(甲基)丙烯酸酯化合物光敏聚合物在光刻工艺中具有对于底层极好的粘合特性和极好的抗干蚀刻性，并且因此可以用来制备具有极好光刻特性的抗蚀剂组合物。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.037 seconds)
