公开(公告)号：CN1795530A

公开(公告)日：2006-06-28

申请号：CN200480014061.8

申请日：2004-05-21

Applicant: 艾克塞利斯技术公司

Inventor： A·贝克尼尔 ,  T·巴克利 ,  D·费利斯 ,  R·小皮利 ,  P·沙克希威尔 ,  A·史瑞伐斯塔伐 ,  C·华德费德

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32844 ,  Y02C20/30

Abstract: 一种等离子体装置、等离子体装置的各种构件以及无氧且无氮的方法，用于自含有碳及/或氢的低k介电层的基板有效移除光致抗蚀剂材料以及蚀刻后的残留物。

公开(公告)号：CN1795530B

公开(公告)日：2010-12-01

申请号：CN200480014061.8

申请日：2004-05-21

Applicant: 艾克塞利斯技术公司

Inventor： A·贝克尼尔 ,  T·巴克利 ,  D·费利斯 ,  R·小皮利 ,  P·沙克希威尔 ,  A·史瑞伐斯塔伐 ,  C·华德费德

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32844 ,  Y02C20/30

Abstract: 一种等离子体装置、等离子体装置的各种构件以及无氧且无氮的方法，用于自含有碳及/或氢的低k介电层的基板有效移除光致抗蚀剂材料以及蚀刻后的残留物。