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公开(公告)号：TWI681250B
公开(公告)日：2020-01-01
申请号：TW107116367
申请日：2018-05-15
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 蘇靜 , SU, JING , 鄒毅 , ZOU, YI , 林晨希 , LIN, CHENXI , 曹 宇 , CAO, YU , 盧 彥文 , LU, YEN-WEN , 陳炳德 , CHEN, BEEN-DER , 張權 , ZHANG, QUAN , 巴倫 斯坦尼斯拉斯 雨果 路易斯 , BARON, STANISLAS HUGO LOUIS , 羅 亞 , LUO, YA
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公开(公告)号：TWI683189B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：TW107114374
申请日：2018-04-27
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 伊瑪 亞力山大 , YPMA, ALEXANDER , 塔伯里 希拉 艾米爾 , TABERY, CYRUS EMIL , 凡 果珀 賽門 亨德立克 席林 , VAN GORP, SIMON HENDRIK CELINE , 林晨希 , LIN, CHENXI , 桑塔格 戴格 , SONNTAG, DAG , 希可利 哈奇 爾金 , CEKLI, HAKKI ERGUN , 亞發雷茲 桑契斯 魯賓 , ALVAREZ SANCHEZ, RUBEN , 劉士嶔 , LIU, SHIH-CHIN , 海斯汀思 賽門 飛利浦 史賓斯 , HASTINGS, SIMON PHILIP SPENCER , 曼徹奇可夫 伯瑞斯 , MENCHTCHIKOV, BORIS , 迪 瑞提 克里斯汀 西奧多爾 , DE RUITER, CHRISTIAAN THEODOOR , 譚 伯格 彼德 , TEN BERGE, PETER , 拉索 麥可 詹姆士 , LERCEL, MICHAEL JAMES , 段 薇 , DUAN, WEI , 吉泰 皮耶-伊夫 傑羅姆 伊萬 , GUITTET, PIERRE-YVES JEROME YVAN
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW201843533A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107114374
申请日：2018-04-27
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 伊瑪 亞力山大 , YPMA, ALEXANDER , 塔伯里 希拉 艾米爾 , TABERY, CYRUS EMIL , 凡 果珀 賽門 亨德立克 席林 , VAN GORP, SIMON HENDRIK CELINE , 林晨希 , LIN, CHENXI , 桑塔格 戴格 , SONNTAG, DAG , 希可利 哈奇 爾金 , CEKLI, HAKKI ERGUN , 亞發雷茲 桑契斯 魯賓 , ALVAREZ SANCHEZ, RUBEN , 劉士嶔 , LIU, SHIH-CHIN , 海斯汀思 賽門 飛利浦 史賓斯 , HASTINGS, SIMON PHILIP SPENCER , 曼徹奇可夫 伯瑞斯 , MENCHTCHIKOV, BORIS , 迪 瑞提 克里斯汀 西奧多爾 , DE RUITER, CHRISTIAAN THEODOOR , 譚 伯格 彼德 , TEN BERGE, PETER , 拉索 麥可 詹姆士 , LERCEL, MICHAEL JAMES , 段 薇 , DUAN, WEI , 吉泰 皮耶-伊夫 傑羅姆 伊萬 , GUITTET, PIERRE-YVES JEROME YVAN
Abstract: 本發明揭示一種用於預測經受一製程之一基板之一電特性的方法及相關聯電腦程式。該方法包括：基於電度量衡資料及製程度量衡資料之分析來判定該電特性對一製程特性之一敏感度，該電度量衡資料包括自先前經處理基板之經量測之電特性，且該製程度量衡資料包括與自該等先前經處理基板量測之該製程特性有關的至少一個參數之量測；獲得關於該基板之描述該至少一個參數之製程度量衡資料；及基於該敏感度及該製程度量衡資料來預測該基板之該電特性。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于预测经受一制程之一基板之一电特性的方法及相关联电脑进程。该方法包括：基于电度量衡数据及制程度量衡数据之分析来判定该电特性对一制程特性之一敏感度，该电度量衡数据报括自先前经处理基板之经量测之电特性，且该制程度量衡数据报括与自该等先前经处理基板量测之该制程特性有关的至少一个参数之量测；获得关于该基板之描述该至少一个参数之制程度量衡数据；及基于该敏感度及该制程度量衡数据来预测该基板之该电特性。
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公开(公告)号：TW202030652A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108141334
申请日：2019-11-14
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 張 幼平 , ZHANG, YOUPING , 曼徹奇可夫 伯瑞斯 , MENCHTCHIKOV, BORIS , 塔伯里 希拉 艾米爾 , TABERY, CYRUS EMIL , 鄒毅 , ZOU, YI , 林晨希 , LIN, CHENXI , 程亞娜 , CHENG, YANA , 海斯汀思 賽門 飛利浦 史賓斯 , HASTINGS, SIMON PHILIP SPENCER , 杰尼 麥辛姆 飛利浦 費德里科 , GENIN, MAXIME PHILIPPE FREDERIC
Abstract: 本發明描述一種用於預測與在一基板上製造半導體裝置之一製程相關之良率的方法，該方法包含：獲得一經訓練之第一模型，該經訓練之第一模型將模型化參數轉譯為一良率參數，該等模型化參數包含：a)與以下各者中之一或多者相關聯的幾何參數：藉由該製程製造之一裝置元件的一幾何特性、尺寸或位置，及b)經訓練之自由參數；獲得製程參數資料，該製程參數資料包含特性化該製程的製程參數；將該製程參數資料轉換為該等幾何參數的值；及使用該經訓練之第一模型及該等幾何參數的該等值來預測該良率參數。
Abstract in simplified Chinese: 本发明描述一种用于预测与在一基板上制造半导体设备之一制程相关之良率的方法，该方法包含：获得一经训练之第一模型，该经训练之第一模型将模型化参数转译为一良率参数，该等模型化参数包含：a)与以下各者中之一或多者相关联的几何参数：借由该制程制造之一设备组件的一几何特性、尺寸或位置，及b)经训练之自由参数；获得制程参数数据，该制程参数数据报含特性化该制程的制程参数；将该制程参数数据转换为该等几何参数的值；及使用该经训练之第一模型及该等几何参数的该等值来预测该良率参数。
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公开(公告)号：TW202014809A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108148336
申请日：2018-04-27
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 伊瑪 亞力山大 , YPMA, ALEXANDER , 塔伯里 希拉 艾米爾 , TABERY, CYRUS EMIL , 凡 果珀 賽門 亨德立克 席林 , VAN GORP, SIMON HENDRIK CELINE , 林晨希 , LIN, CHENXI , 桑塔格 戴格 , SONNTAG, DAG , 希可利 哈奇 爾金 , CEKLI, HAKKI ERGUN , 亞發雷茲 桑契斯 魯賓 , ALVAREZ SANCHEZ, RUBEN , 劉士嶔 , LIU, SHIH-CHIN , 海斯汀思 賽門 飛利浦 史賓斯 , HASTINGS, SIMON PHILIP SPENCER , 曼徹奇可夫 伯瑞斯 , MENCHTCHIKOV, BORIS , 迪 瑞提 克里斯汀 西奧多爾 , DE RUITER, CHRISTIAAN THEODOOR , 譚 伯格 彼德 , TEN BERGE, PETER , 拉索 麥可 詹姆士 , LERCEL, MICHAEL JAMES , 段薇 , DUAN, WEI , 吉泰 皮耶-伊夫 傑羅姆 伊萬 , GUITTET, PIERRE-YVES JEROME YVAN
Abstract: 本發明揭示一種用於預測經受一製程之一基板之一電特性的方法及相關聯電腦程式。該方法包括：基於電度量衡資料及製程度量衡資料之分析來判定該電特性對一製程特性之一敏感度，該電度量衡資料包括自先前經處理基板之經量測之電特性，且該製程度量衡資料包括與自該等先前經處理基板量測之該製程特性有關的至少一個參數之量測；獲得關於該基板之描述該至少一個參數之製程度量衡資料；及基於該敏感度及該製程度量衡資料來預測該基板之該電特性。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于预测经受一制程之一基板之一电特性的方法及相关联电脑进程。该方法包括：基于电度量衡数据及制程度量衡数据之分析来判定该电特性对一制程特性之一敏感度，该电度量衡数据报括自先前经处理基板之经量测之电特性，且该制程度量衡数据报括与自该等先前经处理基板量测之该制程特性有关的至少一个参数之量测；获得关于该基板之描述该至少一个参数之制程度量衡数据；及基于该敏感度及该制程度量衡数据来预测该基板之该电特性。
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公开(公告)号：TW201837613A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW106145451
申请日：2017-12-25
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Abstract: 本發明揭示一種方法，其中出於各種目的而使用藉由兩個不同程序模型模擬之一影像之一特性之偏差或藉由一程序模型模擬與藉由一度量衡工具量測的該特性之偏差，以便縮減校準時間、改良該模型之準確度且改良總製程。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种方法，其中出于各种目的而使用借由两个不同进程模型仿真之一影像之一特性之偏差或借由一进程模型仿真与借由一度量衡工具量测的该特性之偏差，以便缩减校准时间、改良该模型之准确度且改良总制程。
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公开(公告)号：TWI639887B
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW106115229
申请日：2017-05-09
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 蘇靜 , SU, JING , 鄒毅 , ZOU, YI , 林晨希 , LIN, CHENXI , 亨奇 史蒂芬 , HUNSCHE, STEFAN , 喬錢森 馬利那 , JOCHEMSEN, MARINUS , 盧 彥文 , LU, YEN-WEN , 鍾 玲莉 , CHEONG, LIN LEE
IPC: G03F1/70 , G06F17/50 , H01L21/027
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