公开(公告)号：TW201832020A

公开(公告)日：2018-09-01

申请号：TW107119466

申请日：2017-02-21

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 泰爾溫 提波 ,  TEL,WIM TJIBBO ,  史達爾法蘭克 ,  STAALS,FRANK ,  莫斯羅馬克 約翰 ,  MASLOW,MARK JOHN ,  亞蘭希亞多羅伊 ,  ANUNCIADO,ROY ,  喬錢森馬利那 ,  JOCHEMSEN,MARINUS ,  克瑞馬雨果 奧格斯提納斯 約瑟夫 ,  CRAMER,HUGO AUGUSTINUS JOSEPH ,  休威斯湯馬士 ,  THEEUWES,THOMAS ,  希尼保羅 克利絲丁安 ,  HINNEN,PAUL CHRISTIAAN

IPC: G03F7/20

Abstract: 本發明提供一種方法，其包括：藉由將關於藉由一圖案化程序處理之一基板之一圖案之一第一變數的一指紋與該第一變數之某一值組合來計算該基板或用於該基板之該第一變數之一值；及至少部分地基於該第一變數之該所計算值來判定該圖案之一第二變數之一值。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种方法，其包括：借由将关于借由一图案化进程处理之一基板之一图案之一第一变量的一指纹与该第一变量之某一值组合来计算该基板或用于该基板之该第一变量之一值；及至少部分地基于该第一变量之该所计算值来判定该图案之一第二变量之一值。

公开(公告)号：TW201921274A

公开(公告)日：2019-06-01

申请号：TW107147685

申请日：2017-08-18

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 泰爾溫 提波 ,  TEL,WIM TJIBBO ,  莫斯羅馬克 約翰 ,  MASLOW,MARK JOHN ,  史達爾法蘭克 ,  STAALS,FRANK ,  希尼保羅 克利絲丁安 ,  HINNEN,PAUL CHRISTIAAN

IPC: G06F17/50

Abstract: 一種方法，其涉及判定在一基板已由一或多個製程裝置根據一圖案化製程處理之後該一或多個製程裝置對該基板之一特性作出的一貢獻，該判定該貢獻係藉由自該基板之該特性之值移除一微影裝置對該特性之一貢獻及一或多個微影前製程裝置對該特性之一貢獻來完成。

Abstract in simplified Chinese: 一种方法，其涉及判定在一基板已由一或多个制程设备根据一图案化制程处理之后该一或多个制程设备对该基板之一特性作出的一贡献，该判定该贡献系借由自该基板之该特性之值移除一微影设备对该特性之一贡献及一或多个微影前制程设备对该特性之一贡献来完成。

公开(公告)号：TWI668524B

公开(公告)日：2019-08-11

申请号：TW107119466

申请日：2017-02-21

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 泰爾溫 提波 ,  TEL,WIM TJIBBO ,  史達爾法蘭克 ,  STAALS,FRANK ,  莫斯羅馬克 約翰 ,  MASLOW,MARK JOHN ,  亞蘭希亞多羅伊 ,  ANUNCIADO,ROY ,  喬錢森馬利那 ,  JOCHEMSEN,MARINUS ,  克瑞馬雨果 奧格斯提納斯 約瑟夫 ,  CRAMER,HUGO AUGUSTINUS JOSEPH ,  休威斯湯馬士 ,  THEEUWES,THOMAS ,  希尼保羅 克利絲丁安 ,  HINNEN,PAUL CHRISTIAAN

IPC: G03F7/20