Abstract:
PURPOSE: A laser etching apparatus and an aperture forming method using the same are provided to form a gap pattern on a rear passivation layer through a further simplified process using the laser etching technology in stead of photo etching technology in the manufacturing process of thin solar battery of high efficiency. CONSTITUTION: A stage part(160) supports the silicon substrate of solar battery formed with the rear passivation layer. A laser generator(110) generates the laser beam adjusted according to the passivation information. A beam forming unit(130) modifies the size and the shape of a spot of the laser beam according to the size and the shape of the aperture.
Abstract:
PURPOSE: A laser etching apparatus and an aperture forming method using the same are provided to form a gap pattern on a rear passivation layer through a further simplified process using the laser etching technology in stead of photo etching technology in the manufacturing process of thin solar battery of high efficiency. CONSTITUTION: A stage part(160) supports the silicon substrate of solar battery formed with the rear passivation layer. A laser generator(110) generates the laser beam adjusted according to the passivation information. A beam forming unit(130) modifies the size and the shape of a spot of the laser beam according to the size and the shape of the aperture. A projection unit(150) concentrates the laser beam scanned by the scanning unit and irradiates the laser beam.
Abstract:
PURPOSE: A laser etching apparatus and an aperture forming method using the same are provided to form the gap pattern on a rear passivation layer through a process simplified further using the laser etching technology in stead of photo etching technology in the process of manufacturing the thin solar battery of high efficiency. CONSTITUTION: A stage part(160) supports a silicon substrate of solar battery formed with the rear passivation layer. A laser beam generator(110) generates the laser beat adjusted according to the property of the silicon substrate. A bean forming unit(130) modifies the size and the shape of laser beam spot according to the size and the shape of the aperture.
Abstract:
PURPOSE: A silicon wafer texturing method for a solar battery having a tight and uniform pyramid structure, a silicon wafer for solar battery textured using the same, and a solar battery including the same are provided to form a regular and small pyramid structure on a wafer surface by removing the blocking effect of hydrogen effectively through a texturing process in a low pressure. CONSTITUTION: A wafer is kept in a state of normal pressure after a silicon wafer is dipped into an etching liquid within a chamber. After low pressure is applied to the etching liquid, the pressure is maintained at a constant rate. A high pressure is then applied to the etching liquid in a decompression process and maintained. The pressure applied to the etching solution is controlled again to be a low pressure. The above steps are repeated several times.
Abstract:
태양전지 제조에 이용되는 레이저 식각장치 및 이를 이용한 공극 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 태양전지 제조 시 후면 패시베이션층에 공극을 형성하기 위한 레이저 식각장치에 있어서, 상기 후면 패시베이션층이 형성된 태양전지의 실리콘 기판을 거치하는 스테이지부와, 실리콘 기판의 특성에 따라 조정된 레이저 빔을 발진하는 레이저 발진부와, 공극의 크기와 모양에 따라 레이저 빔의 스폿의 크기와 모양을 변형하는 빔 형성부와, 하나 이상의 공극이 배열된 공극 패턴에 따라 레이저 빔이 공극의 위치에 조사되도록 스캔하는 스캔부와, 스캔부에 의해 스캔된 레이저 빔을 집광하여 조사하는 투영부를 포함하는 레이저 식각장치에 의하면, 고효율의 박형화된 태양전지를 제조하는 과정에서 사진 식각 기술 대신에 레이저 식각 기술을 이용하여 보다 단순화된 공정을 통해서 후면 패시베이션층에 공극 패턴을 형성� � 수 있다. 태양전지, 레이저, 식각, 패시베이션
Abstract:
태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법 및 이에 의하여 텍스쳐링된 태양전지용 실리콘 웨이퍼가 제공된다. 본 발명에 따른 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법은 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링을 위한 화학적 식각 공정에 있어서, 식각 용액에 가해지는 압력을 상압 미만의 저압으로 조절하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의한 저압에서의 텍스쳐링 공정을 통해 효과적으로 수소 기체의 차단 효과를 제거함으로써 실리콘 웨이퍼 표면에 보다 규칙적이고 작은 피라미드를 형성한다. 종래 기술에 비하여 피라미드의 사이즈는 약 2∼3마이크로미터 감소하였고 RMS 조도도 약 200nm 감소하여 개선된 표면상태를 얻었으며 반사도 또한 전 파장범위에서 약 2∼3% 감소한다.