감소된 히스테리시스를 갖는 2차원 반도체 트랜지스터 및 이의 제조 방법

    公开(公告)号:WO2021206219A1

    公开(公告)日:2021-10-14

    申请号:PCT/KR2020/007864

    申请日:2020-06-17

    Inventor: 유현용 한규현

    Abstract: 본 발명의 일 실시예 따른 트랜지스터는 게이트 전극, 상기 게이트 전극 상에 제공된 게이트 절연막, 상기 게이트 절연막 상에 제공되며, 전자를 갖는 유기 물질로 구성되는 유기 도펀트층, 상기 유기 도펀트층 상에 제공된 2차원 반도체층, 상기 2차원 반도체층 상에 제공된 소스 전극 및 상기 2차원 반도체층 상에 제공되며, 상기 소스 전극과 이격된 드레인 전극을 포함한다. 본 발명은 유기 도펀트층을 포함하는 2차원 반도체 트랜지스터를 통해 2차원 반도체 트랜지스터의 히스테리시스를 감소시킬 수 있다.

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