公开(公告)号：KR1020050109925A

公开(公告)日：2005-11-22

申请号：KR1020057013165

申请日：2004-01-11

Applicant: 네거브테크 리미티드

Inventor： 푸만도브 ,  뉴만가드 ,  와그너마크 ,  도탄노암 ,  세갈램 ,  실버스테인샤이

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/20

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/95607 ,  G01N21/95623 ,  G01N2021/479 ,  G01N2021/8825 ,  G01N2201/0697 ,  G01N2201/0826

Abstract: Fast on-line electro-optical detection of wafer defects by illuminating with a short light pulse from a repetitively pulsed laser, a section of the wafer while it is moved across the field of view of an imaging system, and imaging the moving wafer onto a focal plane assembly, optically forming a continuous surface of photo-detectors at the focal plane of the optical imaging system. The continuously moving wafer is illuminated by a laser pulse of duration significantly shorter than the pixel dwell time, such that there is effectively no image smear during the wafer motion. The laser pulse has sufficient energy and brightness to impart the necessary illumination to each sequentially inspected field of view required for creating an image of the inspected wafer die. A novel fiber optical illumination delivery system, which is effective in reducing the effects of source coherence is described. Other novel aspects of the system include a system for compensating for variations in the pulse energy of a Q-switched laser output, methods for autofocussing of the wafer imaging system, and novel methods for removal of repetitive features of the image by means of Fourier plane filtering, to enable easier detection of wafer defects.

Abstract translation: 通过用来自重复脉冲激光器的短光脉冲照射晶片缺陷的快速在线电光检测，晶片的一部分在成像系统的视场内移动，并将移动的晶片成像到 焦平面组件，在光学成像系统的焦平面处光学地形成光电检测器的连续表面。 持续移动的晶片被持续时间显着短于像素停留时间的激光脉冲照亮，使得在晶片运动期间实际上没有图像污迹。 激光脉冲具有足够的能量和亮度，以对于产生被检查的晶片管芯的图像所需的每个顺序检查的视场赋予必要的照明。 描述了一种有效减少源相干效应的新型光纤照明传输系统。 该系统的其他新颖的方面包括用于补偿Q开关激光输出的脉冲能量变化的系统，用于晶片成像系统的自动聚焦的方法，以及通过傅里叶平面去除图像的重复特征的新颖方法 过滤，以便更容易地检测晶片缺陷。

公开(公告)号：KR101113602B1

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：KR1020057013165

申请日：2004-01-11

Applicant: 네거브테크 리미티드

Inventor： 푸만도브 ,  뉴만가드 ,  와그너마크 ,  도탄노암 ,  세갈램 ,  실버스테인샤이

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/20

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/95607 ,  G01N21/95623 ,  G01N2021/479 ,  G01N2021/8825 ,  G01N2201/0697 ,  G01N2201/0826

Abstract: 웨이퍼가 이미징 시스템의 뷰 필드를 통과하는 동안 웨이퍼의 섹션을, 반복적으로 펄싱된 레이저로부터 단파장 광펄스를 가지고 조명하고, 초점평면 어세블리상으로 이동 웨이퍼를 이미징하고, 광 이미징 시스템의 초점평면에서 광검출기의 연속 평면을 광형성함으로서, 웨이퍼 디펙트의 고속 온라인 광전 검출하는 것에 대하여 기술되었다. 연속으로 이동하는 웨이퍼는 화소 드웰 시간 보다 상당히 짧은 규레이션의 레이저 펄스에 의해 조명되어 웨이퍼 모션동안 사실 아무런 이미지 스미어도 없게 된다. 이 레이저 펄스는 상당한 에너지 및 휘도를 가져, 피검사 웨이퍼 다의 이미지를 생성하기 위해 필요한 각각의 연속 피검사되는 뷰 필드에 필요한 조명을 부여하게 된다. 소스 코히어런스의 효과를 감소시키는데 효과적인 새로운 섬유 광 조명 전달 시스템이 기술되어 있다. 시스템의 다른 새로운 태양은 Q 스위칭된 레이저 출력의 펄스 에너지내의 변화에 대하여 보상하는 시스템, 웨이퍼 이미징 시스템의 오토포커싱을 위한 방법, 및 퓨리에 평면 필터링에 의해 이미지의 반복적인 특징의 제거를 위한 새로운 방법을 포함하여, 웨이퍼 디펙트의 보다 용이한 검출이 가능하다.
웨이퍼 디펙트, 초점면, 대물 평면, 코히어런스, 레이저