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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020170012489A
公开(公告)日：2017-02-02
申请号：KR1020170000188
申请日：2017-01-02
Applicant: 대구가톨릭대학교산학협력단 , 정상권
Abstract: 롤투롤증착장치가개시된다. 일실시예에있어서, 상기롤투롤증착장치는챔버, 언와인딩롤러, 와인딩롤러, 타겟, 제1롤러, 제2롤러및 전원부를포함한다. 상기언와인딩롤러는상기챔버내부에배치되며, 롤링하여유연성기판을공급한다. 상기와인딩롤러는상기챔버내부에상기언와인딩롤러와대향하게배치되며, 롤링하여상기유연성기판을회수한다. 상기타겟은상기챔버내부에배치되며, 일면이상기챔버내부에상기언와인딩롤러와상기와인딩롤러사이를이동하는상기기판에대향하여배치되며, 스퍼터링에의하여상기기판의일면에막을증착한다. 상기제1롤러와상기제2롤러는상기챔버내부에상기언와인딩롤러및 상기와인딩롤러사이에서서로이격되어배치되며, 상기타겟과대향하여이동하는상기기판이상기타겟과소정의거리를유지하도록한다. 상기전원부는상기기판과상기타겟사이에전압을인가하여상기챔버내부에플라즈마를생성한다. 이경우, 상기제1롤러는롤링하여상기언와인딩롤러로부터상기기판을공급받아상기제2롤러로제공한다. 상기제2롤러는롤링하여상기제1롤러가제공하는상기기판을공급받아상기와인딩롤러로제공한다. 상기제1롤러와상기제2롤러는상기기판의타면과접하여, 상기기판중에서상기제1롤러와상기제2롤러사이에위치하는상기기판부분-이하증착영역이라함-의장력이소정의수준으로유지되도록하여상기증착영역이상기타겟과상기소정의거리를유지하도록한다.
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公开(公告)号：KR1020160145463A
公开(公告)日：2016-12-20
申请号：KR1020150103564
申请日：2015-07-22
Applicant: 대구가톨릭대학교산학협력단 , 정상권
Abstract: 롤투롤증착장치가개시된다. 일실시예에있어서, 상기롤투롤증착장치는챔버, 언와인딩롤러, 와인딩롤러, 타겟, 제1롤러, 제2롤러및 전원부를포함한다. 상기언와인딩롤러는상기챔버내부에배치되며, 롤링하여유연성기판을공급한다. 상기와인딩롤러는상기챔버내부에상기언와인딩롤러와대향하게배치되며, 롤링하여상기유연성기판을회수한다. 상기타겟은상기챔버내부에배치되며, 일면이상기챔버내부에상기언와인딩롤러와상기와인딩롤러사이를이동하는상기기판에대향하여배치되며, 스퍼터링에의하여상기기판의일면에막을증착한다. 상기제1롤러와상기제2롤러는상기챔버내부에상기언와인딩롤러및 상기와인딩롤러사이에서서로이격되어배치되며, 상기타겟과대향하여이동하는상기기판이상기타겟과소정의거리를유지하도록한다. 상기전원부는상기기판과상기타겟사이에전압을인가하여상기챔버내부에플라즈마를생성한다. 이경우, 상기제1롤러는롤링하여상기언와인딩롤러로부터상기기판을공급받아상기제2롤러로제공한다. 상기제2롤러는롤링하여상기제1롤러가제공하는상기기판을공급받아상기와인딩롤러로제공한다. 상기제1롤러와상기제2롤러는상기기판의타면과접하여, 상기기판중에서상기제1롤러와상기제2롤러사이에위치하는상기기판부분-이하증착영역이라함-의장력이소정의수준으로유지되도록하여상기증착영역이상기타겟과상기소정의거리를유지하도록한다.
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公开(公告)号：KR1020160117115A
公开(公告)日：2016-10-10
申请号：KR1020150092887
申请日：2015-06-30
IPC: H01L21/02 , H01L21/683
Abstract: 기판회전이가능한스퍼터장치가개시된다. 일실시예에있어서, 상기스퍼터장치는챔버, 상기챔버내부에배치되며중심축을중심으로회전하는관형의기판, 상기기판을상기중심축을중심으로회전시키는회전기구, 일면이상기기판에대향하여배치되며스퍼터링에의하여상기기판의표면에막을증착하는타겟및 상기기판과상기타겟사이에전압을인가하여상기챔버내부에플라즈마를생성하는전원부를포함한다. 상기회전기구는상기기판을회전시켜상기스퍼터링에의하여상기기판의상기표면에증착되는상기막이소정의균일도를가지도록한다.
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公开(公告)号：KR101773668B1
公开(公告)日：2017-08-31
申请号：KR1020150092887
申请日：2015-06-30
IPC: H01L21/02 , H01L21/683
Abstract: 기판회전이가능한스퍼터장치가개시된다. 일실시예에있어서, 상기스퍼터장치는챔버, 상기챔버내부에배치되며중심축을중심으로회전하는관형의기판, 상기기판을상기중심축을중심으로회전시키는회전기구, 일면이상기기판에대향하여배치되며스퍼터링에의하여상기기판의표면에막을증착하는타겟및 상기기판과상기타겟사이에전압을인가하여상기챔버내부에플라즈마를생성하는전원부를포함한다. 상기회전기구는상기기판을회전시켜상기스퍼터링에의하여상기기판의상기표면에증착되는상기막이소정의균일도를가지도록한다.
Abstract translation: 公开了一种能够旋转基板的溅射设备。 在一个实施例中，溅射装置包括腔室，布置在腔室内并围绕中心轴线旋转的管状基底，用于使基底围绕中心轴线旋转的旋转机构， 用于在衬底表面上沉积膜的目标和用于通过在衬底和目标之间施加电压在室中产生等离子体的电源。 旋转机构旋转衬底，使得通过溅射沉积在衬底表面上的膜具有预定的均匀性。
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公开(公告)号：KR1020170003495A
公开(公告)日：2017-01-09
申请号：KR1020160177298
申请日：2016-12-23
IPC: H01L21/02 , H01L21/203 , H01L21/683
Abstract: 기판회전이가능한스퍼터장치가개시된다. 일실시예에있어서, 상기스퍼터장치는챔버, 상기챔버내부에배치되며중심축을중심으로회전하는관형의기판, 상기기판을상기중심축을중심으로회전시키는회전기구, 일면이상기기판에대향하여배치되며스퍼터링에의하여상기기판의표면에막을증착하는타겟및 상기기판과상기타겟사이에전압을인가하여상기챔버내부에플라즈마를생성하는전원부를포함한다. 상기회전기구는상기기판을회전시켜상기스퍼터링에의하여상기기판의상기표면에증착되는상기막이소정의균일도를가지도록한다.
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