公开(公告)号：KR1020170012489A

公开(公告)日：2017-02-02

申请号：KR1020170000188

申请日：2017-01-02

Applicant: 대구가톨릭대학교산학협력단 ,  정상권

Inventor： 정상권 ,  배강 ,  이창현 ,  김화민 ,  손선영 ,  이창규

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/34 ,  C23C14/54

Abstract: 롤투롤증착장치가개시된다. 일실시예에있어서, 상기롤투롤증착장치는챔버, 언와인딩롤러, 와인딩롤러, 타겟, 제1롤러, 제2롤러및 전원부를포함한다. 상기언와인딩롤러는상기챔버내부에배치되며, 롤링하여유연성기판을공급한다. 상기와인딩롤러는상기챔버내부에상기언와인딩롤러와대향하게배치되며, 롤링하여상기유연성기판을회수한다. 상기타겟은상기챔버내부에배치되며, 일면이상기챔버내부에상기언와인딩롤러와상기와인딩롤러사이를이동하는상기기판에대향하여배치되며, 스퍼터링에의하여상기기판의일면에막을증착한다. 상기제1롤러와상기제2롤러는상기챔버내부에상기언와인딩롤러및 상기와인딩롤러사이에서서로이격되어배치되며, 상기타겟과대향하여이동하는상기기판이상기타겟과소정의거리를유지하도록한다. 상기전원부는상기기판과상기타겟사이에전압을인가하여상기챔버내부에플라즈마를생성한다. 이경우, 상기제1롤러는롤링하여상기언와인딩롤러로부터상기기판을공급받아상기제2롤러로제공한다. 상기제2롤러는롤링하여상기제1롤러가제공하는상기기판을공급받아상기와인딩롤러로제공한다. 상기제1롤러와상기제2롤러는상기기판의타면과접하여, 상기기판중에서상기제1롤러와상기제2롤러사이에위치하는상기기판부분-이하증착영역이라함-의장력이소정의수준으로유지되도록하여상기증착영역이상기타겟과상기소정의거리를유지하도록한다.

公开(公告)号：KR1020160145463A

公开(公告)日：2016-12-20

申请号：KR1020150103564

申请日：2015-07-22

Applicant: 대구가톨릭대학교산학협력단 ,  정상권

Inventor： 정상권 ,  배강 ,  이창현 ,  김화민 ,  손선영 ,  이창규

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/54 ,  C23C14/34

Abstract: 롤투롤증착장치가개시된다. 일실시예에있어서, 상기롤투롤증착장치는챔버, 언와인딩롤러, 와인딩롤러, 타겟, 제1롤러, 제2롤러및 전원부를포함한다. 상기언와인딩롤러는상기챔버내부에배치되며, 롤링하여유연성기판을공급한다. 상기와인딩롤러는상기챔버내부에상기언와인딩롤러와대향하게배치되며, 롤링하여상기유연성기판을회수한다. 상기타겟은상기챔버내부에배치되며, 일면이상기챔버내부에상기언와인딩롤러와상기와인딩롤러사이를이동하는상기기판에대향하여배치되며, 스퍼터링에의하여상기기판의일면에막을증착한다. 상기제1롤러와상기제2롤러는상기챔버내부에상기언와인딩롤러및 상기와인딩롤러사이에서서로이격되어배치되며, 상기타겟과대향하여이동하는상기기판이상기타겟과소정의거리를유지하도록한다. 상기전원부는상기기판과상기타겟사이에전압을인가하여상기챔버내부에플라즈마를생성한다. 이경우, 상기제1롤러는롤링하여상기언와인딩롤러로부터상기기판을공급받아상기제2롤러로제공한다. 상기제2롤러는롤링하여상기제1롤러가제공하는상기기판을공급받아상기와인딩롤러로제공한다. 상기제1롤러와상기제2롤러는상기기판의타면과접하여, 상기기판중에서상기제1롤러와상기제2롤러사이에위치하는상기기판부분-이하증착영역이라함-의장력이소정의수준으로유지되도록하여상기증착영역이상기타겟과상기소정의거리를유지하도록한다.

公开(公告)号：KR200487005Y1

公开(公告)日：2018-07-25

申请号：KR2020160003289

申请日：2016-06-13

Applicant: 정상권

Inventor： 정상권

IPC: F16K11/02 ,  F16K11/044 ,  F16K1/34 ,  F16K1/36 ,  F16K27/02 ,  E03C1/04

Abstract: 본고안은수전금구용이중경로토출밸브에관한것으로, 더욱상세하게는유로조절봉의조작에따라물의토출을상방또는하방중 어느하나로변경이가능한수전금구용이중경로토출밸브에관한것이다.

公开(公告)号：KR1020110046074A

公开(公告)日：2011-05-04

申请号：KR1020090102904

申请日：2009-10-28

Applicant: 김만수 ,  정상권 ,  김태우

Inventor： 김만수 ,  정상권 ,  김태우 ,  손상호

IPC: C23C14/35 ,  H01L21/203

Abstract: PURPOSE: A magnetic field control cathode gun of sputtering deposition system is provided to maintain uniform magnetic field distribution by uniformly controlling the distance between a magnet and a target. CONSTITUTION: A magnetic field control cathode gun of sputtering deposition system comprises a body(210), a yoke(280), a magnet(250), a target(220), a guide shield(290), an insulation part(260) and an interval adjuster. The yoke is installed in the front of the body. The magnet is installed in the surface of the yoke. The target is fixed to the body in order to locate in the front of the magnet. The interval adjuster controls distance between magnet and target.

Abstract translation: 目的：提供溅射沉积系统的磁场控制阴极枪，通过均匀控制磁体和靶之间的距离来保持均匀的磁场分布。 构造：溅射沉积系统的磁场控制阴极枪包括主体（210），磁轭（280），磁体（250），靶（220），导向屏蔽（290），绝缘部分（260） 和间隔调整器。 轭架安装在车身前部。 磁铁安装在磁轭的表面。 目标是固定在身体上，以便位于磁体前面。 间隔调节器控制磁铁和目标之间的距离。

公开(公告)号：KR1020090069886A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：KR1020070137705

申请日：2007-12-26

Applicant: 김만수 ,  정상권 ,  임성기 ,  이성호

Inventor： 김만수 ,  정상권 ,  임성기 ,  손상호 ,  이성호

IPC: C23C14/34

Abstract: An indium tin oxide film for a transparent electrode manufactured using a low frequency sputtering device and a manufacturing method thereof are provided to deposit the indium tin oxide film by the low frequency sputtering discharge in the room temperature. A manufacturing method for an indium tin oxide film for a transparent electrode manufactured using a low frequency sputtering device comprises: a step of coating a silicon oxide film on a matrix(S210); a step of loading the matrix coated with the silicon oxide film on the low frequency sputtering device(S220); a step of generating the power source using the low frequency power supply part with a protection circuit stabilizing the initial discharge voltage(S230); a step of sputtering-discharging on the matrix coated with the silicon oxide film using the indium and tin oxide as a target(S240); and a step of depositing the indium tin oxide film on the silicon oxide coated film be the sputtering discharge in the room temperature(S250). The matrix is a polymer film or a glass substrate.

Abstract translation: 提供使用低频溅射装置制造的透明电极用氧化铟锡膜及其制造方法，以在室温下通过低频溅射放电淀积氧化铟锡膜。 使用低频溅射装置制造的用于透明电极的氧化铟锡膜的制造方法包括：在基体上涂覆氧化硅膜的步骤（S210）; 将涂覆有氧化硅膜的基体载置在低频溅射装置上的步骤（S220）; 使用具有稳定初始放电电压的保护电路的低频电源部产生电源的步骤（S230）; 使用铟锡氧化物作为目标在涂覆有氧化硅膜的基体上溅射放电的步骤（S240）; 并且在氧化硅涂覆膜上沉积铟锡氧化物膜的步骤是在室温下的溅射放电（S250）。 基质是聚合物膜或玻璃基材。

公开(公告)号：KR1020000037309A

公开(公告)日：2000-07-05

申请号：KR1020000020204

申请日：2000-04-17

Applicant: 정상권

Inventor： 정상권

IPC: G06Q30/08

Abstract: PURPOSE: A method for an auction on the internet with a fixed highest price is provided to bid off a bidder without a conflict among bidders suggesting nearest bidding prices to the highest price, by previously designating the highest price of a product to make the bidders bid prices under the highest price. CONSTITUTION: A method for an auction on the internet with a fixed highest price comprises the steps of: if a user registers a bidding price under the highest price, storing the bidding price; deciding whether nobody bids for a price same with the bidding price and whether the bidding price is a middle/highest price; if one bidder satisfies the bidding price, displaying the bidder as a successful bidder.

Abstract translation: 目的：提供一种以固定的最高价格在互联网上拍卖的方式，通过以前指定产品的最高价格，使投标人出价，将投标人之间的冲突提交给投标人，提出最接近的投标价格到最高价格 价格在最高的价格。 规定：以固定最高价格在互联网上拍卖的方法包括以下步骤：如果用户以最高价格登记投标价格，存储投标价格; 决定是否投标价格与招标价格相同，招标价格是否是中等/最高价格; 如果一个投标人满足招标价格，则显示投标人为中标者。

公开(公告)号：KR1020160117115A

公开(公告)日：2016-10-10

申请号：KR1020150092887

申请日：2015-06-30

Applicant: (주)미주테크 ,  정상권

Inventor： 이창규 ,  정상권 ,  배강 ,  김화민 ,  손선영

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/683

Abstract: 기판회전이가능한스퍼터장치가개시된다. 일실시예에있어서, 상기스퍼터장치는챔버, 상기챔버내부에배치되며중심축을중심으로회전하는관형의기판, 상기기판을상기중심축을중심으로회전시키는회전기구, 일면이상기기판에대향하여배치되며스퍼터링에의하여상기기판의표면에막을증착하는타겟및 상기기판과상기타겟사이에전압을인가하여상기챔버내부에플라즈마를생성하는전원부를포함한다. 상기회전기구는상기기판을회전시켜상기스퍼터링에의하여상기기판의상기표면에증착되는상기막이소정의균일도를가지도록한다.

公开(公告)号：KR1020140134784A

公开(公告)日：2014-11-25

申请号：KR1020130054226

申请日：2013-05-14

Applicant: 정상권 ,  정준용

Inventor： 정상권 ,  정준용

IPC: G06Q30/02 ,  G06Q40/06 ,  G06Q50/10 ,  G06Q50/00 ,  G06Q50/30

CPC classification number: G06Q30/0279 ,  G06Q40/06 ,  G06Q50/01 ,  G06Q50/10 ,  G06Q50/30

Abstract: 본 발명은 콘텐츠를 개발함에 있어서, 부족한 자금을 충당하기 위하여 인터넷 상에서 투자자들로부터 개발 프로젝트의 펀드를 공모하는 방법을 제시함으로써 투자자들을 모아 양질의 콘텐츠를 개발하는데 필요한 펀드를 모집하는 것에 관한 것으로, 본 발명을 따르면 펀드 모집이 용이해지고, 투자자는 양질의 콘텐츠를 찾아서 프로젝트를 성공시킬 수 있는 펀드에 투자할 수 있도록 필요한 정보들을 제공받음으로써 객관적 투자가 이루어질 수 있는 편의를 제공받으며, 콘텐츠 개발 사업자와 투자자가 상호 필요성에 따라 원활하고 신뢰성 높은 거래와 정산금 분배가 이루어질 수 있도록 하는 펀드 공모 시스템 및 그 방법에 관한 것이다.

Abstract translation: 本发明涉及一种收集投资者收集开发高质量内容所需资金的系统和方法，其中提出了一种从互联网投资者那里申请开发项目的资金的方法，以便在内容开发时资金不足。 根据本发明，用于邀请内容开发资金的系统和方法能够：容易地收集资金; 为投资者提供便利，提供必要的信息，通过搜索高质量的内容，客观地投资于具有高成功可能性的项目的资金; 并允许在内容开发提供商和投资者之间顺利可靠地交易和分配调整数额。

公开(公告)号：KR200264808Y1

公开(公告)日：2002-02-21

申请号：KR2020010036228

申请日：2001-11-23

Applicant: 정상권

Inventor： 정상권

IPC: B60R1/00

Abstract: 본 고안에 따른 차량의 주행상황 표시 및 녹화 장치는, 차량이 사고가 발생하면 사고시의 현장 상황을 연속적인 영상 정보로써 저장하여 사고에 명확한 증거자료로 활용할 수 있기 때문에 사고에 대한 분쟁 소지를 방지하고, 차량이 좁은 길을 주행하거나 주차하는 경우, 운전자의 사각지대를 없애 안전하게 주행할 수 있다.

公开(公告)号：KR101773668B1

公开(公告)日：2017-08-31

申请号：KR1020150092887

申请日：2015-06-30

Applicant: (주)미주테크 ,  정상권

Inventor： 이창규 ,  정상권 ,  배강 ,  김화민 ,  손선영

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/683

Abstract: 기판회전이가능한스퍼터장치가개시된다. 일실시예에있어서, 상기스퍼터장치는챔버, 상기챔버내부에배치되며중심축을중심으로회전하는관형의기판, 상기기판을상기중심축을중심으로회전시키는회전기구, 일면이상기기판에대향하여배치되며스퍼터링에의하여상기기판의표면에막을증착하는타겟및 상기기판과상기타겟사이에전압을인가하여상기챔버내부에플라즈마를생성하는전원부를포함한다. 상기회전기구는상기기판을회전시켜상기스퍼터링에의하여상기기판의상기표면에증착되는상기막이소정의균일도를가지도록한다.

Abstract translation: 公开了一种能够旋转基板的溅射设备。 在一个实施例中，溅射装置包括腔室，布置在腔室内并围绕中心轴线旋转的管状基底，用于使基底围绕中心轴线旋转的旋转机构， 用于在衬底表面上沉积膜的目标和用于通过在衬底和目标之间施加电压在室中产生等离子体的电源。 旋转机构旋转衬底，使得通过溅射沉积在衬底表面上的膜具有预定的均匀性。