公开(公告)号：KR100270989B1

公开(公告)日：2000-11-01

申请号：KR1019980016542

申请日：1998-05-08

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 황규호

IPC: G02F1/015

Abstract: PURPOSE: A thin film actuated mirror array is provided to grow a sacrifice material on top and bottom electrodes uniformly and smoothly and prevent a short circuit between the top and bottom electrodes owing to a remaining impurity and a damage thereof owing to a solution for etching the sacrifice. CONSTITUTION: An active matrix(410) has an embedded MOS transistor and the first metal layer(535) having a drain pad to be connected to a drain. A support member includes a support line formed on the active matrix, a support layer(570) integrated with the support line, and the first anchor(571) and the second anchors(572a,572b) for supporting a support layer(570). A common electrode line is formed on the support line(574) and is supplied with a bias current signal. A bottom electrode includes the first and second bottom electrode sections(580) formed on the support layer(570), a bottom electrode connection section integrated with the first and second bottom electrode sections, and the first and second bottom electrode protrusions(580a,581a) protruded from the first and second bottom electrode sections(580). A via contact(690) connects the first and second bottom electrode protrusions(580a,581a) and the drain pad of the first metal layer(535). The first and second active layers(590,591) are formed on the first and second bottom electrode sections(580), respectively. The first and second top electrodes(600,601) are formed on the first and second active layers(590,591), respectively. The first and second top electrode connection members(630,631) cover a part of an insulation layer(620) and connect the first and second top electrodes(600,601) and the common electrode line(640) via the first and second holes. A mirror(660) is formed on the first and second top electrodes(600,601) so as to be spaced from the electrodes(600,601).

Abstract translation: 目的：提供薄膜致动反射镜阵列，以均匀且平滑地在顶部和底部电极上生长牺牲材料，并且由于残留的杂质和由于蚀刻的溶液而导致的损伤，防止顶部和底部电极之间的短路 牺牲。 构成：有源矩阵（410）具有嵌入式MOS晶体管，并且第一金属层（535）具有连接到漏极的漏极焊盘。 支撑构件包括形成在有源矩阵上的支撑线，与支撑线一体化的支撑层（570）以及用于支撑支撑层（570）的第一锚定件（571）和第二锚定件（572a，572b）。 公共电极线形成在支撑线（574）上并被提供有偏置电流信号。 底部电极包括形成在支撑层（570）上的第一和第二底部电极部分（580），与第一和第二底部电极部分一体化的底部电极连接部分，以及第一和第二底部电极突出部分（580a，581a ）从第一和第二底部电极部分（580）突出。 通孔接点（690）连接第一和第二底部电极突起（580a，581a）和第一金属层（535）的漏极焊盘。 第一和第二有源层（590,591）分别形成在第一和第二底部电极部分（580）上。 第一和第二顶部电极（600,601）分别形成在第一和第二有源层（590,591）上。 第一和第二顶部电极连接构件（630,631）覆盖绝缘层（620）的一部分，并且经由第一孔和第二孔连接第一和第二顶部电极（600,601）和公共电极线（640）。 在第一和第二顶部电极（600,601）上形成与电极（600,601）间隔开的反射镜（660）。

公开(公告)号：KR100258108B1

公开(公告)日：2000-06-01

申请号：KR1019970057136

申请日：1997-10-31

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 황규호

IPC: G02F1/015

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a thin film actuated mirror array is to prevent an upper layer and a transformed layer from being damaged when removing a sacrificial layer. CONSTITUTION: A number of metal oxide transistor transistors are built in a driving substrate(510) in a form of matrix. A passivation layer(530) is formed on the driving substrate and a drain pad(520) formed on the driving substrate. An actuator includes a membrane(560) with one side contacted with a drain pad(520) of the passivation layer and an air gap(550) interposed between the other side and the passivation layer, a lower electrode(570) formed on the membrane, a transformed layer(580) formed on the lower electrode, an upper electrode(590) formed on the transformed layer, a scribe(600) formed by patterning a desired portion of the upper electrode, a wiring hole(610) vertically formed from one side of the transformed layer to the drain pad through the lower electrode, the membrane, the passivation layer, and a wiring member(620) for electrically connecting the lower electrode with the drain pad.

Abstract translation: 目的：制造薄膜致动反射镜阵列的方法是防止在去除牺牲层时上层和变形层受损。 构成：许多金属氧化物晶体管晶体管以矩阵形式构建在驱动基板（510）中。 在驱动基板上形成钝化层（530），形成在驱动基板上的漏极焊盘（520）。 致动器包括一个薄膜（560），一个侧面与钝化层的漏极焊盘（520）接触，并且夹在另一侧和钝化层之间的气隙（550），形成在膜上的下部电极（570） ，形成在下电极上的变换层（580），形成在变换层上的上电极（590），通过对上电极的期望部分进行构图而形成的划线（600），从垂直方向形成的布线孔（610） 通过下电极，膜，钝化层和用于将下电极与排泄焊盘电连接的布线构件（620）将经转换的层的一侧通过下电极，膜，漏极焊盘。

公开(公告)号：KR100256874B1

公开(公告)日：2000-05-15

申请号：KR1019970057100

申请日：1997-10-31

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 황규호

IPC: G02F1/015

Abstract: PURPOSE: A thin-film micromirror array-actuated(TMA) manufacturing method planarizes the surface of a planarization layer to compensate the step caused by an active matrix, thereby improving the planarization rate of a sacrificial layer to be removed in the following process and provide the uniformity of overall residual thickness of the sacrificial layer. CONSTITUTION: A planarization layer(130) for planarizing the surface of an active matrix(100) composed of transistors is laminated on an etch stop layer(125). The planarization layer(130) is deposited with a phosphor silicate glass(PSG) or a low temperature oxide(LTO) with excellent step coverage in the thickness of 1.5 to 2.0 micrometer. The planarization layer(130) is polished to planarize the uneven surface thereof by using a CMP method until the surface of the etch stop layer(125) is exposed. So, the even surface is provided by compensating for the step caused by the active matrix(100). A sacrificial layer(135) is provided on the evened planarization layer(130) to form an air gap.

Abstract translation: 目的：薄膜微镜阵列致动（TMA）制造方法对平坦化层的表面进行平面化，以补偿由有源矩阵引起的步骤，从而提高在以下过程中待除去的牺牲层的平坦化速率，并提供 牺牲层的总剩余厚度的均匀性。 构造：用于平坦化由晶体管构成的有源矩阵（100）的表面的平坦化层（130）层压在蚀刻停止层（125）上。 平坦化层（130）用厚度为1.5至2.0微米的极好阶梯覆盖层的磷光体玻璃（PSG）或低温氧化物（LTO）沉积。 对平坦化层（130）进行研磨以使其CMP的平坦表面平坦化，直到蚀刻停止层（125）的表面露出为止。 因此，通过补偿由有源矩阵（100）引起的步长来提供偶数表面。 牺牲层（135）设置在均匀平坦化层（130）上以形成气隙。

公开(公告)号：KR100251100B1

公开(公告)日：2000-04-15

申请号：KR1019970028909

申请日：1997-06-30

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 황규호 ,  최윤준

IPC: G02F1/015

Abstract: PURPOSE: A thin film type apparatus for controlling a light path preventing initial inclining of an actuator and a method for manufacturing the same are provided to minimize initial inclining of an actuator and improve a contrast of an image by forming a secondary supporting member between an active matrix and a supporting layer. CONSTITUTION: An active matrix comprises the first metal layer(105) extended from a drain and a source of a MOS transistor and formed on the active matrix(100), the first protective layer(110) formed on the first metal layer(105), the second metal layer(115) formed on the first protective layer(110), the second protective layer(120) formed on the second metal layer(115) and an etching preventing layer(125) formed on the second protective layer(120). An actuator(170) involves a lower electrode(145) formed in parallel with a lower part of the active matrix(100), a strain layer(150) laminated on the lower electrode(145), and an upper electrode(155) laminated on the strain layer(150). The actuator also comprises a via hole(160) formed from the strain layer(150) to a drain pad of the first metal layer(105) vertically and a via contact formed inside the via hole(160). A supporting component(141) comprises a supporting layer(140), a supporting member(131) supporting the actuator(170) and a secondary supporting member(135) preventing initial inclining of the actuator(170).

Abstract translation: 目的：提供一种用于控制防止初始倾斜致动器的光路的薄膜型装置及其制造方法，以使致动器的初始倾斜最小化，并通过在活动部件之间形成辅助支撑构件来改善图像的对比度 矩阵和支撑层。 构成：有源矩阵包括形成在有源矩阵（100）上的从漏极延伸的第一金属层（105）和MOS晶体管的源极，形成在第一金属层（105）上的第一保护层（110） 形成在第一保护层（110）上的第二金属层（115），形成在第二金属层（115）上的第二保护层（120）和形成在第二保护层（120）上的防蚀层 ）。 致动器（170）包括与有源矩阵（100）的下部平行形成的下部电极（145），层压在下部电极（145）上的应变层（150）和层压在上部电极（155）上的应变层 在应变层（150）上。 致动器还包括从应变层（150）到第一金属层（105）的漏极焊盘垂直形成的通孔（160）和形成在通孔（160）内部的通孔接触点。 支撑部件（141）包括支撑层（140），支撑致动器（170）的支撑构件（131）和防止致动器（170）的初始倾斜的次级支撑构件（135）。

公开(公告)号：KR1019990084639A

公开(公告)日：1999-12-06

申请号：KR1019980016545

申请日：1998-05-08

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 황규호

IPC: G02F1/015

Abstract: 포인트 결함을 방지할 수 있고, 화질을 향상시킬 수 있는 박막형 광로 조절 장치 및 그 제조 방법이 개시된다. 상기 장치는, 액티브 매트릭스, 지지 요소, 제1 및 제2 액츄에이팅부 그리고 거울을 포함하며, 상기 지지 요소는, 액티브 매트릭스의 상부에 형성된 지지 라인, 지지 라인과 일체로 형성되며 사각형의 고리 형상을 갖는 지지층, 지지층 중 상기 지지 라인과 인접한 부분 하부의 액티브 매트릭스에 각기 접촉되어 지지층을 지지하는 제1 앵커, 그리고 제2 앵커들을 포함한다. 단차 경계면이 발생하는 것을 방지함으로써, 제1 및 제2 액츄에이팅부의 상부에 형성된 거울의 반사각을 일정하게 유지하여 입사광의 광효율을 향상시킬 수 있으며, 하부 전극의 Iso-cutting 단계를 배제함으로써, 상부 전극과 하부 전극간에 전기적인 단락이 발생하는 것을 방지하여 화소의 포인트 결함을 효과적으로 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990058703A

公开(公告)日：1999-07-15

申请号：KR1019970078851

申请日：1997-12-30

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 황규호

IPC: G02F1/015

Abstract: 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법에 따르면, 게이트, 소오스 및 드레인으로 이루어진 MOS 트랜지스터의 상부에 제1 금속층을 형성한 후, 제1 금속층을 패터닝하여 게이트 라인, 소오스 라인 및 드레인 패드를 형성하고, 드레인 패드의 주변부에 더미 패드를 형성한 후, 더미 패드와 제1 금속층의 상부에 제1 보호층을 형성하며, 더미 패드를 평탄화 종료층으로 하여 아래의 더미 패드가 노출될 때까지 제1 보호층의 표면을 평탄화하여 액티브 매트릭스를 형성하고, 액티브 매트릭스의 상부에 액츄에이터 및 거울을 형성한다. 제1 보호층의 평탄화 공정 시 더미 패드 부위에 스트레스가 집중됨으로써, 액티브 매트릭스 중 비교적 단차가 높게 형성되는 게이트 라인과 소오스 라인이 교차되는 부분의 절연층이 손상되지 않게 되어 이 부위에서 전기적인 쇼트가 발생하는 것을 최소화할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990039328A

公开(公告)日：1999-06-05

申请号：KR1019970059375

申请日：1997-11-12

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 황규호

IPC: G02F1/015

Abstract: 거울의 수명을 증가시키며 그 수평도를 향상시킬 수 있는 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법이 개시된다. 액티브 매트릭스의 상부에 제1 희생층을 형성하고 액츄에이터를 형성한 후, 액츄에이터의 상부에 제2 희생층을 형성한다. 제2 희생층 패턴이 완만한 경사를 갖는 각 부위 별로 노광량을 조절 할 수 있는 그레이 마스크를 사용하여 제2 희생층에 패턴을 형성하고 포스트 및 거울을 형성한다. 거울의 포스트를 형성하기 위하여 그레이 마스크를 사용하여 제2 희생층 패턴이 완만한 경사를 갖도록 형성한 후, 이러한 완만한 경사를 갖는 제2 희생층 패턴을 따라 포스트가 완만한 경사를 갖도록 형성함으로써 거울 및 포스트를 형성하는 동안 포스트에 응력이 집중되는 모서리 부분이 형성되지 않는다. 그러므로, 포스트로부터 발생하는 균열이 거울로 전파되는 것을 방지하여 거울의 수평도를 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 거울의 열화도 최소화하여 거울의 수명을 연장할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990035304A

公开(公告)日：1999-05-15

申请号：KR1019970057099

申请日：1997-10-31

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 황규호

IPC: G02F1/015

Abstract: 희생층의 평탄화율을 향상시킬 수 있는 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법이 개시된다. M×N (M, N은 정수) 개의 MOS 트랜지스터가 내장된 액티브 매트릭스의 상부에 제2 보호층을 형성한 후, 제2 보호층을 화학 기계적 연마(CMP) 방법으로 평탄화시킨다. 제2 보호층의 상부에 폴리 실리콘을 사용하여 희생층을 형성한 후, 희생층의 상부에 지지층, 하부 전극, 변형층 및 상부 전극을 포함하는 액츄에이터를 형성한다. 상기 지지층의 상부에 거울을 형성한 후, 상기 희생층을 플루오르화 브롬(BrF
3 ) 또는 플루오르화 크세논(XeF
2 )을 사용하여 제거한다. 제2 보호층의 표면을 평탄화함으로써, 액티브 매트릭스로부터 기인하는 단차를 보상하여 후속 공정에서 제거되는 희생층의 평탄화율을 향상시킬 수 있다. 또한, 액티브 매트릭스 상에 형성된 희생층을 전체적으로 잔류 두께 균일성을 확보할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990019078A

公开(公告)日：1999-03-15

申请号：KR1019970042380

申请日：1997-08-29

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 황규호

IPC: G02F1/015

Abstract: 액츄에이터의 초기 기울어짐을 방지할 수 있는 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법이 개시되어 있다. M×N 개의 트랜지스터가 내장되고 상기 트랜지스터의 드레인으로부터 연장되며 드레인 패드를 갖는 제1 금속층을 포함하는 액티브 매트릭스가 제공된다. 액티브 매트릭스의 상부에 질화물을 증착시킨 후, 증착된 질화물을 패터닝하여 상기 제1 금속층 드레인 패드의 상부에 제1 층을 형성한다. 제1 층 및 액티브 매트릭스의 상부에 제1 희생층을 형성한 후, 제1 희생층을 연마하여 상기 제1 층을 노출시킨다. 노출된 제1 층의 상부 및 제1 희생층의 상부에 제2 층을 형성한다. 제2 층의 상부에 하부 전극, 변형층, 및 상부 전극을 갖는 액츄에이터를 형성한다. 상부 전극의 상부에 거울을 형성한다. 제1 층 및 제1 희생층을 형성하고 이들을 평탄화한 후, 그 상부에 제2 층을 형성함으로써, 액츄에이터의 지지부와 나머지 부분 사이의 단차를 극복하여 그 경계면에서 변형 응력이 집중되는 것을 방지할 수 있으며, 그 결과 액츄에이터의 초기 기울어짐을 최소화할 수 있다. 그러므로, AMA 모듈 전체에 걸쳐 각각의 액츄에이터들의 초기 기울어짐을 균일하게 하여 액츄에이터들을 동일한 구동 각도로 구동함으로써, 스크린에 투영되는 화상의 화질을 향상시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980069197A

公开(公告)日：1998-10-26

申请号：KR1019970006129

申请日：1997-02-27

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 황규호 ,  최윤준

IPC: H01L27/146

Abstract: 2개의 액츄에이팅부를 가지는 박막형 광로 조절 장치가 개시되어 있다. 상기 장치는 트랜지스터가 내장되고, 양측 상부에 패드가 형성된 액티브 매트릭스, 상기 액티브 매트릭스의 일측 상부에 형성된 제1 하부 전극, 상기 제1 하부 전극의 상부에 형성된 제1 변형층, 상기 제1 변형층의 상부에 형성된 제1 상부 전극 및 상기 제1 상부 전극의 상단에 형성된 제1 지지부를 갖는 제1 액츄에이팅부, 상기 액티브 매트릭스의 타측 상부에 상기 액티브 매트릭스와 평행하도록 형성된 제2 하부 전극, 상기 제2 하부 전극의 상부에 형성된 제2 변형층, 상기 제2 변형층의 상부에 형성된 제2 상부 전극 및 상기 제2 상부 전극의 상단에 형성된 제2 지지부를 갖는 제2 액츄에이팅부, 그리고 거울을 포함한다. 상기 장치는 제1 액츄에이팅부 및 제2 액츄에이팅부가 대칭적으로 형성되어 있으므로 제1 액츄에이팅부 및 제2 액츄에이팅부의 초기 기울어짐에 관계없이 거울을 항상 수평하게 유지할 수 있다. 또한 액츄에이팅부들이 서로 반대 방향으로 구동하므로 2배의 구동 각도로 거울을 구동시켜 광효율을 높일 수 있으며, 콘트라스트를 향상시켜 밝고 선명한 화상을 맺을 수 있다.