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公开(公告)号：KR102237508B1
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：KR1020140073526A
申请日：2014-06-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 요스케 하치야 , 히사시 가와노 , 미츠노리 나카모리 , 준 노나카 , 쇼고 미조타 , 다츠야 나가마츠 , 다이스케 사이키 , 가즈히로 데라오카 , 다카시 야부타
IPC: H01L21/302 , H01L21/02 , H01L21/08
Abstract: 소수화 처리된 기판의 표면을 제전하는 것이 가능한 액 처리 방법 등을 제공한다.
액 처리가 행해진 회전하는 기판(W)의 표면에 소수화액을 공급하여, 상기 기판의 표면을 소수화하고, 이 소수화된 기판(W)의 표면에, 알칼리성의 린스액을 공급하여 린스 세정을 행함으로써, 액 처리에 따라 대전한 기판(W)의 제전을 행한다.
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