Abstract:
An electrode structure used in a plasma processing apparatus which performs a predetermined process on an object (W) to be processed by using a plasma in a process chamber (26) in which a vacuum can be formed. An electrode unit (38) has a heater unit (44) therein. A cooling block (40) having a cooling jacket (58) is joined to the electrode unit (38) so as to cool the electrode unit. A heat resistant metal seal member (66A, 66B) seals an electrode-side heat transfer space (62, 64) formed between the electrode unit and the cooling block. Electrode-side heat transfer gas supply means (94) supplies a heat transfer gas to the electrode-side heat transfer space. Accordingly, a sealing characteristic of the electrode-side heat transfer space does not deteriorate even in a high temperature range such as a temperature higher than 200 DEG C and, for example, a range from 350 DEG C to 500 DEG C, and the heat transfer gas does not leak.
Abstract:
진공흡인 가능하게 된 처리 용기(26)내에 플라즈마를 이용하여 피처리체(W)에 대하여 소정의 처리를 실행하는 플라즈마 처리 장치에 이용되는 전극 구조체가 제공된다. 전극부(38)는 가열 히터부(44)를 내부에 갖는다. 냉각 재킷(58)을 갖는 냉각 블록(40)이 전극부(38)에 접합되어 전극부를 냉각한다. 내열성 메탈 밀봉 부재(66A, 66B)는 전극부와 냉각 블록 사이에 형성되는 전극측 전열 공간(62, 64)을 밀봉한다. 전극측 전열 가스 공급 수단(94)은 전극측 전열 공간에 전열 가스를 공급한다. 이에 의해 20℃ 이상, 예컨대 350 내지 500℃ 정도의 고온 영역에 있어서도 전극측 전열 공간의 밀봉성이 열화하지 않고 전열 가스가 누출되는 일이 없다.