公开(公告)号：KR1020130029003A

公开(公告)日：2013-03-21

申请号：KR1020120086050

申请日：2012-08-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 구누기모토유이치로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273 ,  B05C11/1005

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus, a liquid processing method and a storage medium are provided to stably supply the amount of process liquid. CONSTITUTION: A wafer is placed in a liquid processing module. A nozzle(11) performs a liquid process with process liquid. An arm(13) moves the nozzle to the upper part of the liquid processing module and supports the nozzle. A camera(16) is installed in the arm and photographs the end of the nozzle to obtain image data. A liquid level is detected based on the image data. [Reference numerals] (3) Control unit; (33) Treatment recipe; (34) Analysis program; (36) First memory; (37) Second memory

Abstract translation: 目的：提供液体处理设备，液体处理方法和存储介质以稳定地供应处理液体的量。 构成：将晶片放置在液体处理模块中。 喷嘴（11）用处理液进行液体处理。 臂（13）将喷嘴移动到液体处理模块的上部并支撑喷嘴。 相机（16）安装在手臂中并拍摄喷嘴的末端以获得图像数据。 基于图像数据检测液位。 （附图标记）（3）控制单元; （33）治疗方法; （34）分析方案; （36）第一记忆; （37）第二记忆

公开(公告)号：KR101851344B1

公开(公告)日：2018-05-31

申请号：KR1020120086050

申请日：2012-08-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 구누기모토유이치로

IPC: H01L21/027

Abstract: 액처리모듈(2)에재치된웨이퍼(W)에대하여처리액노즐(11)로부터처리액을공급하여액처리를행함에있어서, 처리액의공급량을안정시키고, 이에의해웨이퍼(W) 간에서의도포의균일성을도모하는것이다. 노즐(11)이노즐버스(15)에대기하고있을때, 일정량만큼석백밸브(52)에의해석백을행하여노즐(11)의선단부의레지스트액의액면을인상한다. 노즐(11)을액처리모듈(2)의상방으로이동시킨후, 노즐(11)을지지하는암(13)에설치된카메라(16)에의해당해노즐(11)의선단부를촬상하여, 화상데이터를취득한다. 이화상데이터에기초하여액면레벨을검출하고, 그검출결과에따라액면레벨이미리설정한기준레벨이되도록석백밸브(52)를제어한다. 이때문에, 레지스트토출전의액면레벨이일정화되어, 처리액의토출량이일정화된다.

公开(公告)号：KR1020120051575A

公开(公告)日：2012-05-22

申请号：KR1020110107431

申请日：2011-10-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카모토야스히로 ,  구누기모토유이치로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/16

Abstract: PURPOSE: A position control method of a nozzle, a computer storage medium, and a coating processing device are provided to accurately control a position of a nozzle which provides a coating solution regardless of a skill level of a worker. CONSTITUTION: A spin chuck(20) is installed on the central part inside a processing container for rotating a wafer. A suction port(20a) for absorbing the wafer is installed on the central part of the upper surface of the spin chuck. A cup for collecting liquid dropping from the wafer is installed near the spin chuck. A first arm(31) supports a coating liquid nozzle(33) for providing a resist liquid. A CCD(Charge-Coupled Device) camera(50,51) records images of the leading end part of the coating liquid nozzle.

Abstract translation: 目的：提供喷嘴，计算机存储介质和涂布处理装置的位置控制方法，以精确地控制提供涂布溶液的喷嘴的位置，而不管工人的技能水平如何。 构成：旋转卡盘（20）安装在用于旋转晶片的处理容器内部的中心部分上。 用于吸收晶片的吸入口（20a）安装在旋转卡盘的上表面的中心部分。 用于收集从晶片滴落的液体的杯子安装在旋转卡盘附近。 第一臂（31）支撑用于提供抗蚀剂液体的涂布液喷嘴（33）。 CCD（电荷耦合器件）相机（50,51）记录涂布液喷嘴的前端部的图像。

公开(公告)号：KR101697795B1

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：KR1020110107431

申请日：2011-10-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카모토야스히로 ,  구누기모토유이치로

IPC: H01L21/027

Abstract: 본발명은도포처리장치에의해기판에대하여도포처리를함에있어서, 도포액을공급하는노즐의위치조정을작업원의숙련도에상관없이정확하고신속하게행하는것을목적으로한다. 웨이퍼에도포액을공급하는도포액노즐(33)의위치를조정하는방법으로서, 도포액노즐(33)을, 웨이퍼가유지되어있지않은상태의스핀척(20)의중심부의위쪽으로이동시키고, 그후, 스핀척(20)의중심부에대응하는흡인구(20a) 및도포액노즐(33)의선단부를 CCD 카메라(50, 51)로촬상하며, 촬상된화상에있어서, 도포액노즐(33)의선단부중심의수평방향의위치와스핀척(20)의중심부인흡인구(20a)의수평방향의위치가일치하도록도포액노즐(33)의위치를조정한다.

Abstract translation: 要解决的问题：在不依赖于操作者的技能的情况下，通过涂布处理装置对基板进行涂布处理时，调整喷嘴位置以准确且及时地供给涂布液。解决方案：调整位置的方法 将涂布液供给到晶片的涂布液喷嘴33包括：将涂液喷嘴33移动到处于未保持晶片的状态的旋转卡盘20的中心部的上方; 此后，通过CCD照相机50,51对与旋转卡盘20的中心部分和涂布液喷嘴33的前端部分相对应的吸入口20a进行成像; 并且在成像图像中，调整涂布液喷嘴33的位置，使得涂布液喷嘴33的前端部分的中心在水平方向上的位置与吸入口20a的位置一致 旋转卡盘20的中心部分在水平方向上。