公开(公告)号：KR101184808B1

公开(公告)日：2012-09-20

申请号：KR1020110102591

申请日：2011-10-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까시마쯔네나가 ,  기노시따미찌오 ,  나까미찌고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67253

Abstract: 본 발명의 과제는 기판 상에 도포액을 공급하기 위해 이동 중인 도포액 노즐로부터 도포액이 적하할 것 같은 액 흘림 상태로 되어 있는 것, 혹은 적하한 것을 촬상하여 적절한 처치 동작을 실행하는 것이 가능한 액 처리 장치 등을 제공하는 것이다.
주위를 컵체(5)로 둘러싸인 기판 보유 지지부(41)에 대략 수평으로 보유 지지된 반도체 웨이퍼(W) 등의 기판의 표면에, 도포액 노즐(10)로부터 레지스트액 등의 도포액을 공급하여, 기판의 표면을 액 처리하는 액 처리 장치(1)에 있어서, 도포액 노즐(10)은 기판 보유 지지부(41)에 보유 지지된 기판의 상방과, 적재하여 대기시키는 노즐 버스(14)와의 사이를 노즐 반송 기구(10a)에 의해 이동한다. 그리고 도포액 노즐(10)의 선단부의 상태를 촬상 수단[카메라(17)]에 의해 광학적으로 촬상하고, 액 흘림 또는 적하의 발생 상황에 따라서 소정의 대처 동작을 실행한다.

Abstract translation: 本发明的一个目的是提供一种液体分配设备，其能够从被移动的分配液体喷嘴分配涂布液体以便将涂布液体供应到基板上， 处理装置等。

公开(公告)号：KR1020080037539A

公开(公告)日：2008-04-30

申请号：KR1020070107044

申请日：2007-10-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까시마쯔네나가 ,  기노시따미찌오 ,  나까미찌고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67253 ,  G03F7/162 ,  H01L22/12

Abstract: A liquid processing apparatus, a liquid processing method, and a storage medium are provided to recognize a drop or a loading of a coating liquid from a coating liquid nozzle by imaging a state of a front end of the coating liquid nozzle with an imaging unit. A nozzle bus loads a coating liquid nozzle(10) and waits it. A nozzle transfer device transfers the coating liquid nozzle between an upper portion of a substrate supported on a substrate supporting unit(41) and the nozzle bus. An imaging unit(17) images a front end of the coating liquid nozzle transferred by the nozzle transfer device. A determining unit determines dropping or loading of a coating liquid from the front end based on the imaging result from the imaging unit. A control unit(9) controls a coating liquid supply unit(70) and/or the nozzle transfer device to perform a management operation when the determining unit determines that the drop or the loading of the coating liquid is generated.

Abstract translation: 提供液体处理装置，液体处理方法和存储介质以通过用成像单元对涂布液喷嘴的前端的状态进行成像来识别来自涂布液喷嘴的涂布液的滴下或载荷。 喷嘴总线装载涂布液喷嘴（10）并等待它。 喷嘴传送装置将涂布液喷嘴在支撑在基板支撑单元（41）上的基板的上部与喷嘴总线之间传送。 成像单元（17）对由喷嘴传送装置传送的涂布液喷嘴的前端进行成像。 确定单元基于来自成像单元的成像结果确定来自前端的涂布液的滴落或加载。 当确定单元确定产生涂布液的下降或负载时，控制单元（9）控制涂布液供应单元（70）和/或喷嘴传送装置执行管理操作。

公开(公告)号：KR101172564B1

公开(公告)日：2012-08-08

申请号：KR1020070107044

申请日：2007-10-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까시마쯔네나가 ,  기노시따미찌오 ,  나까미찌고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67253

Abstract: 본 발명의 과제는 기판 상에 도포액을 공급하기 위해 이동 중인 도포액 노즐로부터 도포액이 적하할 것 같은 액 흘림 상태로 되어 있는 것, 혹은 적하한 것을 촬상하여 적절한 처치 동작을 실행하는 것이 가능한 액 처리 장치 등을 제공하는 것이다.
주위를 컵체(5)로 둘러싸인 기판 보유 지지부(41)에 대략 수평으로 보유 지지된 반도체 웨이퍼(W) 등의 기판의 표면에, 도포액 노즐(10)로부터 레지스트액 등의 도포액을 공급하여, 기판의 표면을 액 처리하는 액 처리 장치(1)에 있어서, 도포액 노즐(10)은 기판 보유 지지부(41)에 보유 지지된 기판의 상방과, 적재하여 대기시키는 노즐 버스(14)와의 사이를 노즐 반송 기구(10a)에 의해 이동한다. 그리고 도포액 노즐(10)의 선단부의 상태를 촬상 수단[카메라(17)]에 의해 광학적으로 촬상하고, 액 흘림 또는 적하의 발생 상황에 따라서 소정의 대처 동작을 실행한다.
반도체 웨이퍼, 카메라, 노즐 버스, 노즐, 액 처리 장치

公开(公告)号：KR1020110126572A

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：KR1020110102591

申请日：2011-10-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까시마쯔네나가 ,  기노시따미찌오 ,  나까미찌고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/2041

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus, liquid processing method and storage medium are provided to improve process yield by preventing a coating liquid from being dropped in advance and preventing a failure product. CONSTITUTION: In a liquid processing apparatus, liquid processing method and storage medium, a coating control unit outputs a signal for beginning a coating liquid. A nozzle bus(14) loads a nozzle for the coating liquid. A nozzle transfer apparatus(10a) transfers the coating nozzle between the top side of a substrate and the nozzle bus. A camera unit takes a picture of the end of the coating liquid nozzle. A determination unit prevent the coating liquid from flowing down. A cup body(5) prevents the dispersion of the mist inside the housing.

Abstract translation: 目的：提供液体处理设备，液体处理方法和存储介质，以通过防止涂布液预先掉落并防止故障产物来提高工艺成品率。 构成：在液体处理装置，液体处理方法和存储介质中，涂布控制单元输出用于开始涂布液体的信号。 喷嘴总线（14）装载用于涂布液体的喷嘴。 喷嘴传送装置（10a）将涂布喷嘴在基板的顶侧和喷嘴总线之间传送。 照相机单元拍摄涂布液喷嘴的末端。 确定单元防止涂布液体向下流动。 杯体（5）防止雾气在壳体内的分散。